JPS61101949A - 電球 - Google Patents
電球Info
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- JPS61101949A JPS61101949A JP59221942A JP22194284A JPS61101949A JP S61101949 A JPS61101949 A JP S61101949A JP 59221942 A JP59221942 A JP 59221942A JP 22194284 A JP22194284 A JP 22194284A JP S61101949 A JPS61101949 A JP S61101949A
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- JP
- Japan
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- refractive index
- index layer
- bulb
- boron
- light
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- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01K—ELECTRIC INCANDESCENT LAMPS
- H01K1/00—Details
- H01K1/28—Envelopes; Vessels
- H01K1/32—Envelopes; Vessels provided with coatings on the walls; Vessels or coatings thereon characterised by the material thereof
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は光干渉膜を利用して所望の波長域の光を選択的
に放射するようにした電球に関する。
に放射するようにした電球に関する。
近年、T形または管形バルブの中心にフィラメントを配
設し、かつバルブ面に可視光透過赤外線反射膜を設け、
フィラメントから放射された光のうち赤外線をこの反射
膜で反射してフィラメントに帰還させ、それによってフ
ィラメントを加熱して発光効率を■めるとともに放射光
中の赤外線を減らしたハロゲン電球が知られている。
設し、かつバルブ面に可視光透過赤外線反射膜を設け、
フィラメントから放射された光のうち赤外線をこの反射
膜で反射してフィラメントに帰還させ、それによってフ
ィラメントを加熱して発光効率を■めるとともに放射光
中の赤外線を減らしたハロゲン電球が知られている。
このような可視光透過赤外線反射膜はシリカ(SL(h
)などからなる低屈折率層と酸化チタン(Ti02)な
どからなる高屈折率層とを5〜7層交互重層したもので
1Mの厚さを調整することにより、光の干渉を利用して
、所望の波長域の光を選択的に透過または反射させるも
のである。そこで、このような膜を光干渉膜と総称する
。
)などからなる低屈折率層と酸化チタン(Ti02)な
どからなる高屈折率層とを5〜7層交互重層したもので
1Mの厚さを調整することにより、光の干渉を利用して
、所望の波長域の光を選択的に透過または反射させるも
のである。そこで、このような膜を光干渉膜と総称する
。
しかして、従来このような電球において、長期使用中、
光干渉膜にひび割れや剥離が発生することがあり、特に
点灯温度の高いハロゲン電球や点滅をひん繁に繰り返し
て使用する白熱電球においてこの現象が起ることがあっ
た。
光干渉膜にひび割れや剥離が発生することがあり、特に
点灯温度の高いハロゲン電球や点滅をひん繁に繰り返し
て使用する白熱電球においてこの現象が起ることがあっ
た。
これに対し、たとえば、特開昭57−124301号公
報に見られるように、シリカ(SiQ□)からなる低屈
折率層と酸化アルミニウム(A Q 203)、酸化ジ
ルコン(Zr02)および酸化チタン(Ti02)のう
ち少なくとも1種からなる高屈折率層とを交互重層して
なる光干渉膜において、シリカに錫およびまたはジルコ
ン(いずれも元素名)の少なくとも1種を含有させたこ
とにより、この先渉膜の安定性を向上し、ひび割れや剥
離を防止したものが知られている。
報に見られるように、シリカ(SiQ□)からなる低屈
折率層と酸化アルミニウム(A Q 203)、酸化ジ
ルコン(Zr02)および酸化チタン(Ti02)のう
ち少なくとも1種からなる高屈折率層とを交互重層して
なる光干渉膜において、シリカに錫およびまたはジルコ
ン(いずれも元素名)の少なくとも1種を含有させたこ
とにより、この先渉膜の安定性を向上し、ひび割れや剥
離を防止したものが知られている。
しかしながら、この光干渉膜をハロゲン電球の′ よう
に石英ガラスやほうけい酸ガラスなどの硬質ガラスでバ
ルブをfI町成した電球に適用すると点減点灯や長期点
灯によってやはり光干渉膜にひび割れや剥離が発生する
ことがあり、このような電球に適用するには不充分であ
る。
に石英ガラスやほうけい酸ガラスなどの硬質ガラスでバ
ルブをfI町成した電球に適用すると点減点灯や長期点
灯によってやはり光干渉膜にひび割れや剥離が発生する
ことがあり、このような電球に適用するには不充分であ
る。
そこで、さらに調査研究した結果、有機けい素化合物が
熱分解してシリカが生成する場合の体積収@率はガラス
質添加剤の種類や添加量によって異るがかなり大きなも
のになることおよび低屈折率層と高屈折率層との熱膨張
率に大差があることに着目し、この熱膨張率差を緩和す
るためのさらに優れた添加剤を探究した結果本発明を完
成したものである。
熱分解してシリカが生成する場合の体積収@率はガラス
質添加剤の種類や添加量によって異るがかなり大きなも
のになることおよび低屈折率層と高屈折率層との熱膨張
率に大差があることに着目し、この熱膨張率差を緩和す
るためのさらに優れた添加剤を探究した結果本発明を完
成したものである。
本発明はバルブに設けた光干渉膜が点減点灯や長期点灯
によってもひび割れや剥離をするおそれのない電球を提
供することを目的とする。
によってもひび割れや剥離をするおそれのない電球を提
供することを目的とする。
低屈折率層をりんおよびまたはほう素を含有するシリカ
で構成したことにより、低屈折率層と高屈折率層との熱
膨張率の整合を図り、クラックや剥離のおそれがなく、
かつ光学特性に優れた光干渉膜を形成したことである。
で構成したことにより、低屈折率層と高屈折率層との熱
膨張率の整合を図り、クラックや剥離のおそれがなく、
かつ光学特性に優れた光干渉膜を形成したことである。
本発明の詳細を図示の小形ハロゲン電球を例にして説明
する6(1)は透明石英ガラスからなるT亀 形バルブ、(2)はこのバルブ(1)の外面に形成され
た光干渉膜の1種である可視光透過赤外線反射膜。
する6(1)は透明石英ガラスからなるT亀 形バルブ、(2)はこのバルブ(1)の外面に形成され
た光干渉膜の1種である可視光透過赤外線反射膜。
(3)はバルブ(1)の端部を圧潰封止してなる封止部
、(4)、(4)はこの封止部(3)内に埋設されたモ
リブデデン導入箔、(5)、(5)はこれら導入箔(4
)、(4)に接続してバルブ(1)内に延在した1対の
内導線、(6)はこれら内導線(5) 、 (5)間に
装架されてバルブ(1)の中心線上に位置するタングス
テンコイルフイラメン〉、(7)はバルブ(1)の端部
に装着した口金である。そうして、バルブ(1>内には
アルゴンなどの不活性ガスとともに所要のハロゲンを封
入しである。
、(4)、(4)はこの封止部(3)内に埋設されたモ
リブデデン導入箔、(5)、(5)はこれら導入箔(4
)、(4)に接続してバルブ(1)内に延在した1対の
内導線、(6)はこれら内導線(5) 、 (5)間に
装架されてバルブ(1)の中心線上に位置するタングス
テンコイルフイラメン〉、(7)はバルブ(1)の端部
に装着した口金である。そうして、バルブ(1>内には
アルゴンなどの不活性ガスとともに所要のハロゲンを封
入しである。
上記可視光透過赤外線反射膜(2)は第2図に模型的に
示すように、酸化チタン(Ti02)、酸化タンタル(
Ta20+)、酸化ジルコン(Zr02 )など光屈折
率の高い物質からなる高屈折率層(21)(右下リハツ
チング)とりんおよびまたはほう素(いずれも元素名)
を含有したシリカ(Si02)からなる低屈折s$層(
22)(左下リハッチング)とをたとえば9〜12N交
互重層してバルブ(1)の外面に直接形成したもので、
光の干渉を利用して可視光を透過し、赤外線を反射する
性質を有する。
示すように、酸化チタン(Ti02)、酸化タンタル(
Ta20+)、酸化ジルコン(Zr02 )など光屈折
率の高い物質からなる高屈折率層(21)(右下リハツ
チング)とりんおよびまたはほう素(いずれも元素名)
を含有したシリカ(Si02)からなる低屈折s$層(
22)(左下リハッチング)とをたとえば9〜12N交
互重層してバルブ(1)の外面に直接形成したもので、
光の干渉を利用して可視光を透過し、赤外線を反射する
性質を有する。
つぎに、この赤外線反射膜(2)の形成方法の一例を説
明する。まず、上述のハロゲン電球本体を製造する。つ
ぎに、チタンアルコキシドをアルコール系溶剤に溶解し
た液に上述の電球本体のバルブ(1)を浸漬し、一定速
度で引上げ、乾燥後大気中で約500〜600℃で約1
0分間焼成し、酸化チタンからなる高屈折率層(21)
を形成する。つぎに、テトラエトキシシラン、テトラメ
トキシシランなどのアルコキシシランをアルコール系溶
剤に溶解し1反応させ5i02換算でシリコン濃度が5
.0重量%のテトラアルコキシシラン縮合体溶液に変成
し、この溶液にりん化合物およびまたはほう素化合物を
P2O,およびB2O3に換算してSiO2の5重量%
になるように添加する。そうして、この溶液に上述の高
屈折率M (21)を形成した電球本体を浸漬し、一定
速度で引上げ、乾燥後大気中で約500〜600℃で約
10分間焼成してりんおよびまたはほう素を含有するシ
リカからなる低屈折率層(22)に形成する。
明する。まず、上述のハロゲン電球本体を製造する。つ
ぎに、チタンアルコキシドをアルコール系溶剤に溶解し
た液に上述の電球本体のバルブ(1)を浸漬し、一定速
度で引上げ、乾燥後大気中で約500〜600℃で約1
0分間焼成し、酸化チタンからなる高屈折率層(21)
を形成する。つぎに、テトラエトキシシラン、テトラメ
トキシシランなどのアルコキシシランをアルコール系溶
剤に溶解し1反応させ5i02換算でシリコン濃度が5
.0重量%のテトラアルコキシシラン縮合体溶液に変成
し、この溶液にりん化合物およびまたはほう素化合物を
P2O,およびB2O3に換算してSiO2の5重量%
になるように添加する。そうして、この溶液に上述の高
屈折率M (21)を形成した電球本体を浸漬し、一定
速度で引上げ、乾燥後大気中で約500〜600℃で約
10分間焼成してりんおよびまたはほう素を含有するシ
リカからなる低屈折率層(22)に形成する。
そうして、この工程を所望回数交互に繰返して赤外線反
射膜(2)に形成する。
射膜(2)に形成する。
つぎに、上述の実施例において高屈折率層(21)を酸
化チタンで構成し、低屈折率層(22)のシリカに添加
する元素の種類および添加量を種々異らせて試作し、点
灯して剥離状態を調査した。この結果を次表に示す。
化チタンで構成し、低屈折率層(22)のシリカに添加
する元素の種類および添加量を種々異らせて試作し、点
灯して剥離状態を調査した。この結果を次表に示す。
なお1本表で添加量はP2O3,B2O3およびSiO
□に換算し、下記の公式で表す。
□に換算し、下記の公式で表す。
添加量=(P205+82031÷[5i02+P2O
5+8203]重量%また1層数は両層(21)、 (
22)の合計をいう。
5+8203]重量%また1層数は両層(21)、 (
22)の合計をいう。
この表から、本発明の光干渉膜(2)がクランクや剥離
をしがたいことが理解できる。特に、りんやほう素の添
加量が3.0重量%以上になるとクラックや剥離が生じ
た層数が急に大きくなり、充分な暦数にして所望の光学
効果を奏することができる。しかし、りんやほう素の添
加量が多くなるに従って光屈折率が上昇するのでそれだ
け暦数を多くしなしなければならなくなり、添加量が2
0.0重量%を越えると屈折率が1.500を越え、光
学的にも経済的にも意味がなくなり、しかも形成された
膜が不均一になりやすい。
をしがたいことが理解できる。特に、りんやほう素の添
加量が3.0重量%以上になるとクラックや剥離が生じ
た層数が急に大きくなり、充分な暦数にして所望の光学
効果を奏することができる。しかし、りんやほう素の添
加量が多くなるに従って光屈折率が上昇するのでそれだ
け暦数を多くしなしなければならなくなり、添加量が2
0.0重量%を越えると屈折率が1.500を越え、光
学的にも経済的にも意味がなくなり、しかも形成された
膜が不均一になりやすい。
また、実験によればりんとほう素とを併用してもよく、
その場合の好ましい添加量の範囲は両者の重量%の合計
が上述の3〜20重景%重量囲にあればよい。さらに、
実験によれば、高屈折率層(21)は酸化タンタルある
いは酸化ジルコンでもよく、あるいはこれら3種の酸化
物の2種以上からなっていてもよく、これらの場合、い
ずれもりんおよびほう素の添加量の好ましい範囲は上述
と同じ3〜20重量%であった。そうして、この光干渉
膜の形成方法は前述の方法に限らず、たとえば真空蒸着
法でもよく、さらに、りんやほう素の出発原料は前述の
例に限らない。
その場合の好ましい添加量の範囲は両者の重量%の合計
が上述の3〜20重景%重量囲にあればよい。さらに、
実験によれば、高屈折率層(21)は酸化タンタルある
いは酸化ジルコンでもよく、あるいはこれら3種の酸化
物の2種以上からなっていてもよく、これらの場合、い
ずれもりんおよびほう素の添加量の好ましい範囲は上述
と同じ3〜20重量%であった。そうして、この光干渉
膜の形成方法は前述の方法に限らず、たとえば真空蒸着
法でもよく、さらに、りんやほう素の出発原料は前述の
例に限らない。
本発明の電球はフィラメントを封装したガラスバルブの
内外両面のうち少なくとも一方の面に低屈折率層とこれ
により屈折率の高い物質からなる高屈折率層とを交互重
量してなる光干渉膜を設けてなり、低屈折率層をりんお
よびまたはほう素を含有したシリカで構成したので光干
渉膜を多層に重層してもクラックや剥離を生じるおそれ
がない。
内外両面のうち少なくとも一方の面に低屈折率層とこれ
により屈折率の高い物質からなる高屈折率層とを交互重
量してなる光干渉膜を設けてなり、低屈折率層をりんお
よびまたはほう素を含有したシリカで構成したので光干
渉膜を多層に重層してもクラックや剥離を生じるおそれ
がない。
第1図は本発明の電球の一実施例の断面図、第2図は同
じく要部の模型的拡大断面図である。
じく要部の模型的拡大断面図である。
Claims (2)
- (1)フィラメントを封装したガラスバルブと、このバ
ルブの内外両面のうち少なくとも一方の面に形成され、
低屈折率層およびこの層よりも屈折率の高い物質からな
る高屈折率層を交互重層してなる光干渉膜とを具備し、
上記低屈折率層はシリカを主成分としこれにりんおよび
またはほう素を含有させてなることを特徴とする電球。 - (2)高屈折率層は酸化チタン、酸化タンタルおよび酸
化ジルコンの少なくとも1種からなり、かつシリカに含
まれるりんおよびほう素の合計はP_2O_5およびB
_2O_3に換算して3〜20重量%の範囲であること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の電球。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59221942A JPS61101949A (ja) | 1984-10-24 | 1984-10-24 | 電球 |
KR1019850006909A KR890004641B1 (ko) | 1984-10-24 | 1985-09-19 | 전구 |
CN85109082A CN85109082B (zh) | 1984-10-24 | 1985-10-23 | 电灯 |
CA000493795A CA1244075A (en) | 1984-10-24 | 1985-10-24 | Lamp having interference film |
DE19853537922 DE3537922A1 (de) | 1984-10-24 | 1985-10-24 | Lampe |
US06/791,110 US4701663A (en) | 1984-10-24 | 1985-10-24 | Lamp having interference film |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59221942A JPS61101949A (ja) | 1984-10-24 | 1984-10-24 | 電球 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61101949A true JPS61101949A (ja) | 1986-05-20 |
Family
ID=16774566
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59221942A Pending JPS61101949A (ja) | 1984-10-24 | 1984-10-24 | 電球 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4701663A (ja) |
JP (1) | JPS61101949A (ja) |
KR (1) | KR890004641B1 (ja) |
CN (1) | CN85109082B (ja) |
CA (1) | CA1244075A (ja) |
DE (1) | DE3537922A1 (ja) |
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