JPS61100586A - 置換フルバレン - Google Patents
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- JPS61100586A JPS61100586A JP19929185A JP19929185A JPS61100586A JP S61100586 A JPS61100586 A JP S61100586A JP 19929185 A JP19929185 A JP 19929185A JP 19929185 A JP19929185 A JP 19929185A JP S61100586 A JPS61100586 A JP S61100586A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
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- C07F7/0814—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te comprising a heterocyclic ring said ring is substituted at a C ring atom by Si
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の要約
本発明は新規な置換フルバレンおよびその製造法に関す
る。本発明の化合物は、式 〔上記式中、XはSおよびSeから選ばれ、R基および
R“基は、個々に、(R“)ssi (ここでR“は1
〜12個の炭素原子のアルキルである)およびHから選
ばれかつRおよびRoのおのおのの1個以下がHである
〕 であられされることを特徴とする。これらの化合物は、
少なくとも・1000気圧の圧力下に於て二硫化炭素ま
たはニセレン化炭素をアセチレン系化合物R−CミC−
R’と反応させることによって製造される。
る。本発明の化合物は、式 〔上記式中、XはSおよびSeから選ばれ、R基および
R“基は、個々に、(R“)ssi (ここでR“は1
〜12個の炭素原子のアルキルである)およびHから選
ばれかつRおよびRoのおのおのの1個以下がHである
〕 であられされることを特徴とする。これらの化合物は、
少なくとも・1000気圧の圧力下に於て二硫化炭素ま
たはニセレン化炭素をアセチレン系化合物R−CミC−
R’と反応させることによって製造される。
発明の詳細な説明
上記式中、R”は、典型的には同じであり、かつ分岐鎖
であっても直鎮であってもよい。典型的な例には、メチ
ル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、n−ペンチル
、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、n−ノ
ニル、n−デシル、n−ドデシル、イソプロピル、イソ
ブチル、sec −ブチル、tert−ブチル、イソペ
ンチル、アミルおよびtert−ペンチルが含まれる。
であっても直鎮であってもよい。典型的な例には、メチ
ル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、n−ペンチル
、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、n−ノ
ニル、n−デシル、n−ドデシル、イソプロピル、イソ
ブチル、sec −ブチル、tert−ブチル、イソペ
ンチル、アミルおよびtert−ペンチルが含まれる。
本発明の化合物の製造には、典型的に約り0℃〜約13
0℃の温度に於て、少なくとも1000気圧、好ましく
は少な(とも5000気圧の圧力が用いられる。これよ
り低い温度では反応が過度に遅くなる可能性があり、こ
れより高い温度では分解が起こる可能性がある。
0℃の温度に於て、少なくとも1000気圧、好ましく
は少な(とも5000気圧の圧力が用いられる。これよ
り低い温度では反応が過度に遅くなる可能性があり、こ
れより高い温度では分解が起こる可能性がある。
下記の実施例は、本発明の好ましい実施態様を説明する
ためのものである。下記実施例中ならびに本明細書中お
よび特許請求の範囲中に於て、部および%は、特に断ら
ない限りすべて重量による。
ためのものである。下記実施例中ならびに本明細書中お
よび特許請求の範囲中に於て、部および%は、特に断ら
ない限りすべて重量による。
実施例
実施例1
20Je)+5iC≡CSi(Me)3+2C3z→0
.5g(3,6ミリモル)のビス(トリメチルシリル)
アセチレンを2.2g(30ミリモル)の二硫化炭素に
溶解することによって出発混合物を調製した。3rrI
i容のテフロン製圧力反応器にこの出発混合物を満たし
た。反応混合物上には自由空間がほとんど無かった。反
応器内容物に圧力を印加し、圧力を5.500気圧(±
200気圧)に保ちなから、約12時間、温度を約12
0〜125℃に保った。反応器を、約2時間にわたって
室温へ冷却させた。反応器をあけたところ、内容物は暗
褐色溶液であった。減圧下で過剰の二硫化炭素を除去し
、残留物をヘキサンに溶解した。
.5g(3,6ミリモル)のビス(トリメチルシリル)
アセチレンを2.2g(30ミリモル)の二硫化炭素に
溶解することによって出発混合物を調製した。3rrI
i容のテフロン製圧力反応器にこの出発混合物を満たし
た。反応混合物上には自由空間がほとんど無かった。反
応器内容物に圧力を印加し、圧力を5.500気圧(±
200気圧)に保ちなから、約12時間、温度を約12
0〜125℃に保った。反応器を、約2時間にわたって
室温へ冷却させた。反応器をあけたところ、内容物は暗
褐色溶液であった。減圧下で過剰の二硫化炭素を除去し
、残留物をヘキサンに溶解した。
70リシル(Plorisil )シリカゲル〔アルド
リッヒ ケミカル カンパ= −(Aldrich C
hemicalCompany ) ]を用い、ヘキサ
ンで抽出するカラム 。
リッヒ ケミカル カンパ= −(Aldrich C
hemicalCompany ) ]を用い、ヘキサ
ンで抽出するカラム 。
クロマトグラフィーによって、反応生成物を分離した。
溶出した溶液は、橙色で、テトラチアフルバレンを含ん
でいた。他の暗色副生成物はカラム中に残留した。この
テトラチアフルバレン生成物をヘキサンから再結晶させ
ることによって精製し、橙色結晶性物質を得た。
でいた。他の暗色副生成物はカラム中に残留した。この
テトラチアフルバレン生成物をヘキサンから再結晶させ
ることによって精製し、橙色結晶性物質を得た。
この精製物質の融点は227〜229℃であった。この
化合物は、下記の分析データによって特徴づけられるよ
うに、テトラキス(トリメチルシリル)テトラチアフル
バレンと同定された。
化合物は、下記の分析データによって特徴づけられるよ
うに、テトラキス(トリメチルシリル)テトラチアフル
バレンと同定された。
実測値:C,43,69;H,?、31 ;S、26.
65; C,、H,、S、Si、としての計算値:C,43,8
4;H,7,36;S。
65; C,、H,、S、Si、としての計算値:C,43,8
4;H,7,36;S。
26.00
1、R,ピーク:2920,1460.1380゜12
30.925,850,820゜ T40crn−’ NMR:δ 0.25ppm(S) 質量スペクトル:′″/。 492 この反応の収率は57%であった。
30.925,850,820゜ T40crn−’ NMR:δ 0.25ppm(S) 質量スペクトル:′″/。 492 この反応の収率は57%であった。
実施例2
実施例1の一般的方法に従って、5.500気圧±20
0気圧下、12−0℃に於て、約12時間、ヘキサン(
1,5mg)中で0.7gのビス(トリメチルシリル)
アセチレン(5ミリモル)と0.7gの二硫化炭素(9
ミリモル)との高圧反応を行った。
0気圧下、12−0℃に於て、約12時間、ヘキサン(
1,5mg)中で0.7gのビス(トリメチルシリル)
アセチレン(5ミリモル)と0.7gの二硫化炭素(9
ミリモル)との高圧反応を行った。
暗褐色溶液を得、生成物を単離して収率65%を寿だ。
2(Me)3siac−3i(Me)s+2csea−
+1.0g(6ミリモル)のビス(トリメチルシリ
。
+1.0g(6ミリモル)のビス(トリメチルシリ
。
ル)アセチレンと1.0g(6ミリモル)のニセレン化
炭素とを3mlのへキサンに溶解して出発混合物を調製
した。この溶液を、実施例1の方法に従って、60℃に
於て18時間、6000気圧に加圧した。反応混合物を
室温に冷却させた後、カプセルを開いた所、褐色不溶性
固体と暗褐色溶液とが入っていた。この固体を、濾過に
よって溶液から単離し、ヘキサンで洗浄した。
炭素とを3mlのへキサンに溶解して出発混合物を調製
した。この溶液を、実施例1の方法に従って、60℃に
於て18時間、6000気圧に加圧した。反応混合物を
室温に冷却させた後、カプセルを開いた所、褐色不溶性
固体と暗褐色溶液とが入っていた。この固体を、濾過に
よって溶液から単離し、ヘキサンで洗浄した。
この溶液を、シリ゛カゲル上で、ヘキサンを溶離液とし
て用いるクロマトグラフィー分析にかけた。
て用いるクロマトグラフィー分析にかけた。
ヘキサンの除去後、暗褐色固体0.45 gを得た。
この固体をヘキサンで再結晶し、赤色プリズム状結晶性
物質を得た。この精製生成物の融点は104〜105℃
であった。この化合物は、下記の分析データによりテト
ラキス(トリメチルシリル)テトラセレナフルバレンと
同定された。
物質を得た。この精製生成物の融点は104〜105℃
であった。この化合物は、下記の分析データによりテト
ラキス(トリメチルシリル)テトラセレナフルバレンと
同定された。
実測値:C,32,50;H,5,35;Se、48.
20 C+5H3aSe4Slaとしての計算値:C,32,
34;H,5,39; Se、47.90 I、 R,ピーク:2950.2890.1710゜1
660、 1480. 1450゜ 1250.900,850,750cm−’NMR:δ
0.25 ppm(s) 。
20 C+5H3aSe4Slaとしての計算値:C,32,
34;H,5,39; Se、47.90 I、 R,ピーク:2950.2890.1710゜1
660、 1480. 1450゜ 1250.900,850,750cm−’NMR:δ
0.25 ppm(s) 。
質量スペクトル:’/s 680 (”S eに基
づく)ンの合成 −2(Me)+5iC5iiC−t(+2C5z−実施
例1の一般的方法に従って、5.500気圧±200気
圧下、110〜130℃に於て約12時間、ヘキサン(
2,0rBl)中に於てトリメチルシリルアセチレン(
0,5g;5ミリモル)と二硫化炭素(0,5g;6.
5ミlJモル)との高圧反応を行った。暗褐色溶液を辱
、固体生成物を収率10〜 l′15%で単離し
た。
づく)ンの合成 −2(Me)+5iC5iiC−t(+2C5z−実施
例1の一般的方法に従って、5.500気圧±200気
圧下、110〜130℃に於て約12時間、ヘキサン(
2,0rBl)中に於てトリメチルシリルアセチレン(
0,5g;5ミリモル)と二硫化炭素(0,5g;6.
5ミlJモル)との高圧反応を行った。暗褐色溶液を辱
、固体生成物を収率10〜 l′15%で単離し
た。
精製した生成物の融点は131〜133℃であった。こ
の化合物は、下記の分析データによって特徴づけられる
ように、ビス(トリメチルシリル)テトラチアフルバレ
ンと同定された。
の化合物は、下記の分析データによって特徴づけられる
ように、ビス(トリメチルシリル)テトラチアフルバレ
ンと同定された。
実測値:C,41,45;H,6,00;S、36.6
0 C1゜H2゜54S12としての計算値:C,41,3
2;H,5,78; S、 36.77 ;Si、 16.101、R,ピ
ーク:2940.1500.1400゜930.830
,740cm−’ 下記の実施例は、本発明の製造法で製造された置換フル
バレンからの有用な生成物への転化を示す。
0 C1゜H2゜54S12としての計算値:C,41,3
2;H,5,78; S、 36.77 ;Si、 16.101、R,ピ
ーク:2940.1500.1400゜930.830
,740cm−’ 下記の実施例は、本発明の製造法で製造された置換フル
バレンからの有用な生成物への転化を示す。
実施例5
テトラキス(トリメチルシリル)テトラチアフルバレン
からのテトラチアフルバレンの合成に2CO,(0,1
3ミリモル)とKHCO,(0,13ミリモル)とを含
む水性緩衝液(1,5mjりを、室温に於て、100m
gのテトラキス(トリメチルシリル)テトラチアフルバ
レンを含むメタノールおよびテトラヒドロフラン(1:
1容量比混合物、20mN)溶液に添加した。反応混合
物を、窒素雰囲気下で2時間攪拌し、溶液を希塩酸(5
%)で酸性にし、クロロホルムで抽出した。クロロホル
ム溶液を水で洗浄した後、NazsO<で乾燥した。溶
媒を除去した後、融点1−19〜120℃の黄色結晶性
物質を得た(70mg)。得られた結晶性物質は、その
1、 R,スペクトル、融点(混合融点)、薄層クロマ
トグラフィーによってテトラチアフルバレンと同定され
た。収率は100%であった。
からのテトラチアフルバレンの合成に2CO,(0,1
3ミリモル)とKHCO,(0,13ミリモル)とを含
む水性緩衝液(1,5mjりを、室温に於て、100m
gのテトラキス(トリメチルシリル)テトラチアフルバ
レンを含むメタノールおよびテトラヒドロフラン(1:
1容量比混合物、20mN)溶液に添加した。反応混合
物を、窒素雰囲気下で2時間攪拌し、溶液を希塩酸(5
%)で酸性にし、クロロホルムで抽出した。クロロホル
ム溶液を水で洗浄した後、NazsO<で乾燥した。溶
媒を除去した後、融点1−19〜120℃の黄色結晶性
物質を得た(70mg)。得られた結晶性物質は、その
1、 R,スペクトル、融点(混合融点)、薄層クロマ
トグラフィーによってテトラチアフルバレンと同定され
た。収率は100%であった。
実施例6
1.5mj!の020中にに2CD、(0,13ミリモ
ル)とKHCO,(0,13ミ!Jモル)とを含有する
緩衝溶液を、室温に於て、100mgのテトラキス(ト
リメチルシリル)テトラチアフルバレンを含むジューテ
ロエタノールおよびテトラヒドロフラン(1:1容量比
、20−)の溶液へ添加した。この反応混合物を、窒素
雰囲気下に於て4時間放置した。希塩酸(5%)でこの
溶液を酸性にした後、溶液をクロロホルムで抽出し、こ
のクロロホルム抽出液を水で洗浄した後、NaaSOs
上で乾燥した。溶媒を除去して、融点118〜119℃
の黄色結晶性物質60mgを得た。得られた固体は、1
.R,スペクトル2250(C−D伸縮)、1490.
1350.1150.770.700.490.425
cm−’によってジューテロ化テトラチアフルバレンと
同定された。収率は90%であった。
ル)とKHCO,(0,13ミ!Jモル)とを含有する
緩衝溶液を、室温に於て、100mgのテトラキス(ト
リメチルシリル)テトラチアフルバレンを含むジューテ
ロエタノールおよびテトラヒドロフラン(1:1容量比
、20−)の溶液へ添加した。この反応混合物を、窒素
雰囲気下に於て4時間放置した。希塩酸(5%)でこの
溶液を酸性にした後、溶液をクロロホルムで抽出し、こ
のクロロホルム抽出液を水で洗浄した後、NaaSOs
上で乾燥した。溶媒を除去して、融点118〜119℃
の黄色結晶性物質60mgを得た。得られた固体は、1
.R,スペクトル2250(C−D伸縮)、1490.
1350.1150.770.700.490.425
cm−’によってジューテロ化テトラチアフルバレンと
同定された。収率は90%であった。
実施例7
テトラキス(トリメチルシリル)テトラセレナフルバレ
ンからのテトラセレナフルバレンの合成実質的に実施例
5に記載した条件下で、テトラキス(トリメチルシリル
)テトラセレナフルバレンの脱トリメチルシリル反応を
行った。純粋なテトラセレナフルバレンが定量的に得ら
れた。
ンからのテトラセレナフルバレンの合成実質的に実施例
5に記載した条件下で、テトラキス(トリメチルシリル
)テトラセレナフルバレンの脱トリメチルシリル反応を
行った。純粋なテトラセレナフルバレンが定量的に得ら
れた。
実施例8
ジューテロ化テトラセレナフルバレンの合成実質的に実
施例6に記載した条件下で、テトラキス(トリメチルシ
リル)テトラセレナフルバレンの脱トリメチルシリル反
応を行った。得られた固体は、1.R,スペクトル22
45cm−’ (C−D伸縮)によってジューテロ化テ
トラセレナフルバレンと同定された。
施例6に記載した条件下で、テトラキス(トリメチルシ
リル)テトラセレナフルバレンの脱トリメチルシリル反
応を行った。得られた固体は、1.R,スペクトル22
45cm−’ (C−D伸縮)によってジューテロ化テ
トラセレナフルバレンと同定された。
実施例9
テトラメチルチオテトラチアフルバレンの合成CB、S
Br N (Bu)4P−乾燥テトラヒドロ
フラン1〇−中の400mg(10,8ミリモル)のテ
トラキス(トリメチルシリル)テトラチアフルバレンか
らなる水冷溶液へ、臭化メタンスルフェニルの5M塩化
メチレン溶液1mlを窒素下に添加した。この混合物を
、室温に於て0.5時間放置した後、4−のテトラヒド
ロフラン中の弗化テトラブチルアンモニウム(4ミリモ
ル)を添加した。この溶液を約16時間放置した後、混
合物を氷水中へ注入し、塩化メチレンで抽出した。
Br N (Bu)4P−乾燥テトラヒドロ
フラン1〇−中の400mg(10,8ミリモル)のテ
トラキス(トリメチルシリル)テトラチアフルバレンか
らなる水冷溶液へ、臭化メタンスルフェニルの5M塩化
メチレン溶液1mlを窒素下に添加した。この混合物を
、室温に於て0.5時間放置した後、4−のテトラヒド
ロフラン中の弗化テトラブチルアンモニウム(4ミリモ
ル)を添加した。この溶液を約16時間放置した後、混
合物を氷水中へ注入し、塩化メチレンで抽出した。
生成物を、フロリシル(Plorisil )シリカゲ
ルを用い、クロロホルムとへキサンと(1:2容量比)
の混合溶媒で溶出するクロマトグラフィーによって単離
した。純粋な赤褐色液体生成物(190mg)が得られ
た(収率49%)。この化合物は、下記の分析データを
特徴とする。
ルを用い、クロロホルムとへキサンと(1:2容量比)
の混合溶媒で溶出するクロマトグラフィーによって単離
した。純粋な赤褐色液体生成物(190mg)が得られ
た(収率49%)。この化合物は、下記の分析データを
特徴とする。
1、R,ピーク:3(160,2960,2920゜1
480.1420.1310゜ 1260.800cl’ NMR:δ 2.46 ppm(s) 質量スペクトル二′″/、 388゜実施例10 成 乾燥、テトラヒドロフラン10−中の500mg(1,
0ミリモル)のテトラキス(トリメチルシリル)テトラ
チアフルバレンの水冷溶液へ、臭化メタンセレネニルの
1M塩化メチレン溶液5−を、窒素下に添加した。水浴
中で20分間放置した後、この溶液へ、乾燥テトラヒド
ロフラン7−中の弗化テトラブチルアンモニウム(5ミ
リモル)を添加した。この溶液を、室温で2時間放置し
た。生成物を、フロリシル(Florisil )シリ
カゲルを用い、ヘキサンと塩化メチレンと(2:1容量
比)の混合溶媒で溶出するクロマトグラフィーによって
精製した。赤褐色液体(200a+g)が得られた(収
率36%)。この化合物は下記の分析データを特徴とす
る。
480.1420.1310゜ 1260.800cl’ NMR:δ 2.46 ppm(s) 質量スペクトル二′″/、 388゜実施例10 成 乾燥、テトラヒドロフラン10−中の500mg(1,
0ミリモル)のテトラキス(トリメチルシリル)テトラ
チアフルバレンの水冷溶液へ、臭化メタンセレネニルの
1M塩化メチレン溶液5−を、窒素下に添加した。水浴
中で20分間放置した後、この溶液へ、乾燥テトラヒド
ロフラン7−中の弗化テトラブチルアンモニウム(5ミ
リモル)を添加した。この溶液を、室温で2時間放置し
た。生成物を、フロリシル(Florisil )シリ
カゲルを用い、ヘキサンと塩化メチレンと(2:1容量
比)の混合溶媒で溶出するクロマトグラフィーによって
精製した。赤褐色液体(200a+g)が得られた(収
率36%)。この化合物は下記の分析データを特徴とす
る。
1、R,ビーク:3060,2920.1400゜12
65.1245.860゜ 840.760cm−’ NMR:δ 2.40ρpl(s) 質量スペクトル:”/、 580 本発明の化合物は、テトラセレナフルバレン、ジューテ
ロ化テトラセレナフルバレン、ビス(トリメチルシリル
)テトラチアフルバレンの製造のための中間体として有
用である。これら後者の化合物類は、PF5− 、As
hs−のような無機の陰イオンと錯化して結晶性電荷移
動塩を生成することができる“有機金属”として知られ
ているこれらの塩は、高純度が要求される固体状態また
は物理的エレクトロニクス用途に有用である。
65.1245.860゜ 840.760cm−’ NMR:δ 2.40ρpl(s) 質量スペクトル:”/、 580 本発明の化合物は、テトラセレナフルバレン、ジューテ
ロ化テトラセレナフルバレン、ビス(トリメチルシリル
)テトラチアフルバレンの製造のための中間体として有
用である。これら後者の化合物類は、PF5− 、As
hs−のような無機の陰イオンと錯化して結晶性電荷移
動塩を生成することができる“有機金属”として知られ
ているこれらの塩は、高純度が要求される固体状態また
は物理的エレクトロニクス用途に有用である。
以上、本発明の好ましい実施態様を説明したが、当業者
には本発明の開示からの多くの明白な変化が明らかであ
り、従って、本発明は、添付した特許請求の範囲によっ
てのみ限定されるべきものであることは言うまでもない
。
には本発明の開示からの多くの明白な変化が明らかであ
り、従って、本発明は、添付した特許請求の範囲によっ
てのみ限定されるべきものであることは言うまでもない
。
Claims (11)
- (1)少なくとも1000気圧の圧力下に於て二硫化炭
素または二セレン化炭素をアセチレン系化合物R−C≡
C−R′と反応させることからなる式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔上記式中、XはSおよびSeから選ばれ、R基および
R′基は、独立に、(R″)_3Si(ここでR″は1
〜12個の炭素原子のアルキルである)およびHから選
ばれ、かつRおよびR′のおのおのの1個以下がHであ
る〕 であらわされる化合物の製造法。 - (2)二硫化炭素をアセチレン系化合物と反応させる特
許請求の範囲第(1)項記載の製造法。 - (3)二セレン化炭素をアセチレン系化合物と反応させ
る特許請求の範囲第(1)項記載の製造法。 - (4)二硫化炭素をビス(トリメチルシリル)アセチレ
ンと反応させる特許請求の範囲第(1)項記載の製造法
。 - (5)二セレン化炭素をビス(トリメチルシリル)アセ
チレンと反応させる特許請求の範囲第(1)項記載の製
造法。 - (6)二硫化炭素をトリメチルシリルアセチレンと反応
させる特許請求の範囲第(1)項記載の製造法。 - (7)圧力が少なくとも5000気圧である特許請求の
範囲第(1)項記載の製造法。 - (8)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔上記式中、XはSおよびSeから選ばれ、R基および
R′基は、独立に、(R″)_3Si(ここでR″は1
〜12個の炭素原子のアルキルである)およびHから選
ばれ、かつRおよびR′のおのおのの1個以下がHであ
る〕 の化合物。 - (9)XがSeでありかつRおよびR′が(R″)_3
Si(ここでR″はCH_3である)である特許請求の
範囲第(8)項記載の化合物。 - (10)XがSでありかつRおよびR′が(R″)_3
Si(ここでR″はCH_3である)である特許請求の
範囲第(8)項記載の化合物。 - (11)XがSであり、かつRおよびR′のおのおのの
1個がHであり、かつRおよびR′のおのおのの1個が
(R″)_3Si(ここでR″はCH_3である)であ
る特許請求の範囲第(8)項記載の化合物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US66335484A | 1984-10-22 | 1984-10-22 | |
US663354 | 1984-10-22 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61100586A true JPS61100586A (ja) | 1986-05-19 |
JPS6246549B2 JPS6246549B2 (ja) | 1987-10-02 |
Family
ID=24661455
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19929185A Granted JPS61100586A (ja) | 1984-10-22 | 1985-09-09 | 置換フルバレン |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61100586A (ja) |
BE (1) | BE903415A (ja) |
DE (1) | DE3535033A1 (ja) |
FR (1) | FR2572077B1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0408495B1 (de) * | 1989-07-10 | 1994-04-13 | Ciba-Geigy Ag | Substituierte Tetrachalkogenfulvalene und Verfahren zu deren Herstellung |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2372824A1 (fr) * | 1976-12-03 | 1978-06-30 | Ibm | Nouveaux composes derives substitues des tetraheterofulvalenes, leurs sels obtenus avec le tetracyano-p-quinodimethane et leur procede de fabrication |
-
1985
- 1985-09-09 JP JP19929185A patent/JPS61100586A/ja active Granted
- 1985-10-01 DE DE19853535033 patent/DE3535033A1/de active Granted
- 1985-10-10 BE BE0/215710A patent/BE903415A/fr not_active IP Right Cessation
- 1985-10-15 FR FR8515270A patent/FR2572077B1/fr not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BE903415A (fr) | 1986-02-03 |
FR2572077A1 (fr) | 1986-04-25 |
DE3535033C2 (ja) | 1988-09-29 |
JPS6246549B2 (ja) | 1987-10-02 |
DE3535033A1 (de) | 1986-04-24 |
FR2572077B1 (fr) | 1989-05-12 |
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