JPS609117B2 - 金合金メッキ浴 - Google Patents
金合金メッキ浴Info
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- JPS609117B2 JPS609117B2 JP8304580A JP8304580A JPS609117B2 JP S609117 B2 JPS609117 B2 JP S609117B2 JP 8304580 A JP8304580 A JP 8304580A JP 8304580 A JP8304580 A JP 8304580A JP S609117 B2 JPS609117 B2 JP S609117B2
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- plating
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、安定な金とスズ又は金とスズおよび第3元素
からなる合金メッキ俗に関するものである。
からなる合金メッキ俗に関するものである。
金とスズの合金は古くから使用されており、その用途は
多岐にわたっている。
多岐にわたっている。
その例としてはスズの強い白色化力を利用したホワイト
ゴールド又は、重量比で金80%、スズ20%の共晶合
金を用いたろう材が挙げられる。金とスズの合金は、一
般には冶金法によって製造されるが、この方法は必要な
形状にするまでの工程が複雑であるため、単価が相当高
くなるという欠点があった。これに対して、金とスズの
合金をメッキで析出させる試みはいくつかなされている
が、光沢を得ることが困難であり、また、第一スズイオ
ンは第一スズィオンに酸化されやすいため、メッキ液と
しては不安定であるという欠点があった。
ゴールド又は、重量比で金80%、スズ20%の共晶合
金を用いたろう材が挙げられる。金とスズの合金は、一
般には冶金法によって製造されるが、この方法は必要な
形状にするまでの工程が複雑であるため、単価が相当高
くなるという欠点があった。これに対して、金とスズの
合金をメッキで析出させる試みはいくつかなされている
が、光沢を得ることが困難であり、また、第一スズイオ
ンは第一スズィオンに酸化されやすいため、メッキ液と
しては不安定であるという欠点があった。
本発明の目的は、かかる上記の欠点を解消し、析出物の
光沢性および第一スズィオンの安定性を改善することに
あり、さらに機械的特性を改善した金とスズを含む多元
合金メッキ格を提供するものである。
光沢性および第一スズィオンの安定性を改善することに
あり、さらに機械的特性を改善した金とスズを含む多元
合金メッキ格を提供するものである。
本発明のメッキ俗の構成は次のとおりである。
シアン化金力リウムとして添加される金の量は、40多
/夕を越え100夕/そ以下である。好ましくは45〜
55夕/そである。金の量が40夕/そ以下では、メッ
キ俗の安定性、光沢曲こ乏しく、優秀な析出物を得る露
着速度が遅い。第1図はスズ20夕/そ、クエン酸15
0夕/そでメッキ浴中の金濃度をパラメータとした電流
密度−析出皮膜中の金組成を示す。
/夕を越え100夕/そ以下である。好ましくは45〜
55夕/そである。金の量が40夕/そ以下では、メッ
キ俗の安定性、光沢曲こ乏しく、優秀な析出物を得る露
着速度が遅い。第1図はスズ20夕/そ、クエン酸15
0夕/そでメッキ浴中の金濃度をパラメータとした電流
密度−析出皮膜中の金組成を示す。
この図からわかるように、金の濃度が40夕/そを越え
ると電流密度変化に対する析出合金組成の変化が少なく
高電流密度側でも安定になる。すなわち、浴組成を決定
すれば、析出合金組成はほぼ一定になる。また、前記金
の量が100夕/そより多い場合は〆ッキ浴中の金濃度
が高すぎ、メッキによるすくい出し等による損失のため
経済的ではない。
ると電流密度変化に対する析出合金組成の変化が少なく
高電流密度側でも安定になる。すなわち、浴組成を決定
すれば、析出合金組成はほぼ一定になる。また、前記金
の量が100夕/そより多い場合は〆ッキ浴中の金濃度
が高すぎ、メッキによるすくい出し等による損失のため
経済的ではない。
第一スズィオンは5夕/夕〜100夕/そ添加される。
好ましくは20夕/そ〜80夕/そである。第一スズイ
オンが5夕/そ以下ではスズの析出および第二スズィオ
ンへの酸化による消耗量が大きくなって不安定であり、
100タノそより多い場合は銭化が困難である。金とス
ズの合金の機械的強度を上げるために添加される元素は
、周期律表la族、Wa族、Va族、Wa族、肌a族、
肌a族、の金属およびWb族、Vb族、Wb族の非金属
よりなる群の金属または非金属が挙げられる。
好ましくは20夕/そ〜80夕/そである。第一スズイ
オンが5夕/そ以下ではスズの析出および第二スズィオ
ンへの酸化による消耗量が大きくなって不安定であり、
100タノそより多い場合は銭化が困難である。金とス
ズの合金の機械的強度を上げるために添加される元素は
、周期律表la族、Wa族、Va族、Wa族、肌a族、
肌a族、の金属およびWb族、Vb族、Wb族の非金属
よりなる群の金属または非金属が挙げられる。
上記に示す元素は、金とスズの合金中に析出して機械的
強度を著しく向上させることができ、2種以上の添加に
よってその効果は相乗的に示される。これらの元素は、
例えばチタン、ニオブ、モリブデン、レニウム、鉄、コ
バルト、ニッケル、ロジウム、パラジウム、銅、銀、ケ
イ素、リンなどが挙げられるが、これらはそれぞれ水溶
液に通した化合物の形で添加される。
強度を著しく向上させることができ、2種以上の添加に
よってその効果は相乗的に示される。これらの元素は、
例えばチタン、ニオブ、モリブデン、レニウム、鉄、コ
バルト、ニッケル、ロジウム、パラジウム、銅、銀、ケ
イ素、リンなどが挙げられるが、これらはそれぞれ水溶
液に通した化合物の形で添加される。
これらの金属、非金属イオンは80夕/そ以下0.1夕
/そ以上が適当であり、望ましくは0.1タノぞ〜10
タノクである。80タノタより多い場合は緒化が困難で
不安定なメッキ格となり、0.1夕/夕より少ないと、
金とスズ合金の機械的強度を上げる効果が少ない。
/そ以上が適当であり、望ましくは0.1タノぞ〜10
タノクである。80タノタより多い場合は緒化が困難で
不安定なメッキ格となり、0.1夕/夕より少ないと、
金とスズ合金の機械的強度を上げる効果が少ない。
上記の金属または非金属を鍵化する化合物の量5〜50
0夕/そであり、好ましくは150〜450夕/そであ
る。
0夕/そであり、好ましくは150〜450夕/そであ
る。
5夕/夕より少ないと鎧化される金属または非金属の量
が少なくなって析出速度が著しく遅くなり、またメッキ
格のpHの緩衝作用がなくなってメッキ格が不安定にな
る。
が少なくなって析出速度が著しく遅くなり、またメッキ
格のpHの緩衝作用がなくなってメッキ格が不安定にな
る。
また500夕/夕より多いときには、格の粘性が高くな
るため実用的ではない。また銭化合物としては上記金属
または非金属をわずかでも銭化させるものであればよい
がリンゴ酸、クエン酸、グルコン酸、マロン酸、マレィ
ン酸などの有機カルボン酸がより好ましい。これは、有
機カルボン酸は緩衝作用が強く、またシアン化金力リウ
ムを酸性側でも安定に存在させることができるためであ
る。析出する合金組成は、裕中の各金属、非金属イオン
濃度、鍔化合物濃度、pH、格温および陰極電流密度に
依存する。
るため実用的ではない。また銭化合物としては上記金属
または非金属をわずかでも銭化させるものであればよい
がリンゴ酸、クエン酸、グルコン酸、マロン酸、マレィ
ン酸などの有機カルボン酸がより好ましい。これは、有
機カルボン酸は緩衝作用が強く、またシアン化金力リウ
ムを酸性側でも安定に存在させることができるためであ
る。析出する合金組成は、裕中の各金属、非金属イオン
濃度、鍔化合物濃度、pH、格温および陰極電流密度に
依存する。
浴が安定な範囲では、濃度の高い成分が析出しやすく、
全金属イオン量が大きいほど析出速度は速い。鉛化合物
濃度は多い方が析出合金組成が安定になり、裕そのもの
も安定化する。pHは高いとスズの電着効率が金に比べ
て低くなるが、析出物の外観はよくなる。
全金属イオン量が大きいほど析出速度は速い。鉛化合物
濃度は多い方が析出合金組成が安定になり、裕そのもの
も安定化する。pHは高いとスズの電着効率が金に比べ
て低くなるが、析出物の外観はよくなる。
pHがアルカリ側の場合は第一スズィオンが不安定にな
るため格のpHは4〜6、好ましくは4.5±0.5が
よい。PHが4より小さければシアン金力リウムが分解
しやすくなり、pHが6を越えると第1スズが分解しや
すくなる。格温は15〜90qoで使用可能であり、高
い方がメッキ外観は良くなり析出速度は遠くなるが、光
沢剤、酸化防止剤の消耗は速くなるので適正な俗温が決
められる。
るため格のpHは4〜6、好ましくは4.5±0.5が
よい。PHが4より小さければシアン金力リウムが分解
しやすくなり、pHが6を越えると第1スズが分解しや
すくなる。格温は15〜90qoで使用可能であり、高
い方がメッキ外観は良くなり析出速度は遠くなるが、光
沢剤、酸化防止剤の消耗は速くなるので適正な俗温が決
められる。
陰極電流密度は0.1〜10A/dわが実用的な範囲で
ある。電流密度が高いと析出合金組成はスズが多くなり
電流密度が低いと金が多くなる。本発明による〆ッキ浴
は、ゼラチン、トルィジン・フェニルアセトアミド、鞄
ヒ酸ナトリウム、8ーナフトール、ベプトン、アセトア
ルデヒドとoートルィジンの反応生成物の少なくとも1
種を添加することによって優れた光沢を得ることができ
る。添加量は100夕/そ以下0.2夕/そ以上がよく
、より好ましく0.2〜30クノクである。光沢剤が0
.2夕/そより少なければ光沢効果が得られない。又、
100夕/そを越えると俗が不安定となる。この光沢剤
の効果はメッキ作業温度が35do以下で特に顕著に現
われる。これは、格温が3500以下では、スズはなめ
らかな析出物を得ることができないためである。また、
これらの光沢剤は〆ッキ浴の安定性、析出条件等にほと
んど影響を与えない。一般に第一スズィオンは第二スズ
ィオンに酸化されやすい。
ある。電流密度が高いと析出合金組成はスズが多くなり
電流密度が低いと金が多くなる。本発明による〆ッキ浴
は、ゼラチン、トルィジン・フェニルアセトアミド、鞄
ヒ酸ナトリウム、8ーナフトール、ベプトン、アセトア
ルデヒドとoートルィジンの反応生成物の少なくとも1
種を添加することによって優れた光沢を得ることができ
る。添加量は100夕/そ以下0.2夕/そ以上がよく
、より好ましく0.2〜30クノクである。光沢剤が0
.2夕/そより少なければ光沢効果が得られない。又、
100夕/そを越えると俗が不安定となる。この光沢剤
の効果はメッキ作業温度が35do以下で特に顕著に現
われる。これは、格温が3500以下では、スズはなめ
らかな析出物を得ることができないためである。また、
これらの光沢剤は〆ッキ浴の安定性、析出条件等にほと
んど影響を与えない。一般に第一スズィオンは第二スズ
ィオンに酸化されやすい。
第二スズィオンは析出に寄与しないばかりでなく均一電
着性に悪影響をおよぼすためメッキ格に酸化防止剤を添
加することが実用上有効な手段である。酸化防止剤とし
ては、硫酸ヒドラジン、硫酸ヒドロキシアミン「 L−
アスコルビン酸、P−クレゾールスルホン酸、レゾルシ
ン、ホルマリン、ハイドロキノン、ソルビン酸ソーダま
たはブドウ糖が有効である。添加量は100夕/そ以下
0.5夕/そ以上がよく、より好ましくは0.5〜50
夕/そである。
着性に悪影響をおよぼすためメッキ格に酸化防止剤を添
加することが実用上有効な手段である。酸化防止剤とし
ては、硫酸ヒドラジン、硫酸ヒドロキシアミン「 L−
アスコルビン酸、P−クレゾールスルホン酸、レゾルシ
ン、ホルマリン、ハイドロキノン、ソルビン酸ソーダま
たはブドウ糖が有効である。添加量は100夕/そ以下
0.5夕/そ以上がよく、より好ましくは0.5〜50
夕/そである。
0.5夕/そより少ないと酸化防止の効果がほとんど得
られない。
られない。
又、100夕/夕を越えるとメッキ格が不安定となる。
又「 これらの酸化防止剤は上記範囲ではメッキ俗の安
定性、析出条件等に何ら悪影響を与えない。このメッキ
俗に用いる陽極は白金、カーボン、チタン白金、チタン
ロジウムが望ましい。また、陰極に対する陽極の面積比
は2倍以上が望ましし、。また、このメッキ格は、十分
かくはんすることによって析出合金の外観、均一性が向
上する。
又「 これらの酸化防止剤は上記範囲ではメッキ俗の安
定性、析出条件等に何ら悪影響を与えない。このメッキ
俗に用いる陽極は白金、カーボン、チタン白金、チタン
ロジウムが望ましい。また、陰極に対する陽極の面積比
は2倍以上が望ましし、。また、このメッキ格は、十分
かくはんすることによって析出合金の外観、均一性が向
上する。
かくはん方法としては、カソードロッキング、噴流ある
いはその併用がよく、空気かくはんは行なうべきでない
。次に本発明の実施例を説明する。
いはその併用がよく、空気かくはんは行なうべきでない
。次に本発明の実施例を説明する。
実施例 1
金(シアン化合カリウムとして) 35 タノクスズ(
硫酸第一スズとして) 50 夕/そIJンゴ酸
300 夕/そニッケル(硫酸ニッ
ケルとして) 10 夕/〆硫酸ヒドラジン
30 夕/そゼラチン 1夕/夕
べプトン 0.5夕/夕べン
ジリデンアセテート 0.5多/そPH
4.5格
温 20oo陰極
電流密度 4A/d〆陽極
チタン白金メッキ時間
5分上記〆ッキ浴組成、メッキ条件でか
くはんしながらメッキを行なったところ、金75%、ス
ズ24.8%、ニッケル0.2%、厚み7仏のの半光沢
の析出皮膜が得られた。
硫酸第一スズとして) 50 夕/そIJンゴ酸
300 夕/そニッケル(硫酸ニッ
ケルとして) 10 夕/〆硫酸ヒドラジン
30 夕/そゼラチン 1夕/夕
べプトン 0.5夕/夕べン
ジリデンアセテート 0.5多/そPH
4.5格
温 20oo陰極
電流密度 4A/d〆陽極
チタン白金メッキ時間
5分上記〆ッキ浴組成、メッキ条件でか
くはんしながらメッキを行なったところ、金75%、ス
ズ24.8%、ニッケル0.2%、厚み7仏のの半光沢
の析出皮膜が得られた。
皮膜の外観は銀白色である。このサンプルに金ワイヤを
ボンデイングして強度を測定したところ、すべてワイヤ
切れであった。実施例 2金(シアン化金力リウムとし
て) 35 多/〆スズ(塩化第一スズとして)
50 夕/そクエン酸 450
夕/そコバルト(塩化コバルトとして) 0.5夕/そ
ホルマリン 10 cc/そトル
イジン 2 夕/夕PH
4.5俗温
20o0陰極電流密度
が/d〆陽極
カーボンメッキ時間
5分上記〆ッキ裕組相、メッキ条件でメッキを行なっ
たところ、金83%、スズ16.9%、コバルト0.1
%、厚み4ぶれのナシ地の析出皮膜が得られた。
ボンデイングして強度を測定したところ、すべてワイヤ
切れであった。実施例 2金(シアン化金力リウムとし
て) 35 多/〆スズ(塩化第一スズとして)
50 夕/そクエン酸 450
夕/そコバルト(塩化コバルトとして) 0.5夕/そ
ホルマリン 10 cc/そトル
イジン 2 夕/夕PH
4.5俗温
20o0陰極電流密度
が/d〆陽極
カーボンメッキ時間
5分上記〆ッキ裕組相、メッキ条件でメッキを行なっ
たところ、金83%、スズ16.9%、コバルト0.1
%、厚み4ぶれのナシ地の析出皮膜が得られた。
皮膜の外観は銀白色である。実施例 3
金(シアン化金力リウムとして) 35多/〆スズ(
硫酸第一スズとして) 75夕/クマロン酸
4502/そ鋼(硫酸銅として)
5夕/そ硫酸ヒドロキシルアミン
50夕/夕8−ナフトール 1夕/
そPH
4.5格温 4
5qo陰極電流密度 IA/dで
陽極 チタン白金メッキ時間
5分上記〆ツキ格、メッキ条
件でメッキを行なったところ、金87%、スズ12%、
銅1%、厚み2.5〃机の光沢ある析出皮膜が得られた
。
硫酸第一スズとして) 75夕/クマロン酸
4502/そ鋼(硫酸銅として)
5夕/そ硫酸ヒドロキシルアミン
50夕/夕8−ナフトール 1夕/
そPH
4.5格温 4
5qo陰極電流密度 IA/dで
陽極 チタン白金メッキ時間
5分上記〆ツキ格、メッキ条
件でメッキを行なったところ、金87%、スズ12%、
銅1%、厚み2.5〃机の光沢ある析出皮膜が得られた
。
皮膜の外観は銀白色である。実施例 4金(シアン化金
力リウムとして) 50タノクスズ(塩化第一スズと
して)50 夕/そりンゴ酸
450夕/ク鉄(塩化第一鉄として)
1夕/そPークレゾールスルホン酸 50夕/そ
〇−トルイジン 3多/そPH
4.5夕/夕俗温
4500陰極電流密度
血/dれ陽極
チタン白金メッキ時間 5
分上記〆ッキ俗組成、メッキ条件でメッキを行なったと
ころ、金80%、スズ19.8%、鉄0.2%、厚み8
ム肌の析出皮膜が得られた。
力リウムとして) 50タノクスズ(塩化第一スズと
して)50 夕/そりンゴ酸
450夕/ク鉄(塩化第一鉄として)
1夕/そPークレゾールスルホン酸 50夕/そ
〇−トルイジン 3多/そPH
4.5夕/夕俗温
4500陰極電流密度
血/dれ陽極
チタン白金メッキ時間 5
分上記〆ッキ俗組成、メッキ条件でメッキを行なったと
ころ、金80%、スズ19.8%、鉄0.2%、厚み8
ム肌の析出皮膜が得られた。
この皮膜は光沢があり、硬度Hv185で白色を呈する
。実施例 5 金(シアン化カリウムとして) 75夕/クスズ(硫
酸第一スズとして) 20夕/そクエン酸
150夕/そコバルト(硫酸コバルトと
して) 5夕/そハイドロキ/ン
30夕/そ亜ヒ酸ナトリウム 1夕/そP
H 4
.5格温 450
0陰極電流密度 2A/dで陽極
チタン白金メッキ時間
5分上記〆ッキ浴組成、メッキ
条件でメッキを行なつたところ、金91%、スズ8.6
%、コバルト0.4%、厚み2山肌の光沢ある析出皮膜
が得られた。
。実施例 5 金(シアン化カリウムとして) 75夕/クスズ(硫
酸第一スズとして) 20夕/そクエン酸
150夕/そコバルト(硫酸コバルトと
して) 5夕/そハイドロキ/ン
30夕/そ亜ヒ酸ナトリウム 1夕/そP
H 4
.5格温 450
0陰極電流密度 2A/dで陽極
チタン白金メッキ時間
5分上記〆ッキ浴組成、メッキ
条件でメッキを行なつたところ、金91%、スズ8.6
%、コバルト0.4%、厚み2山肌の光沢ある析出皮膜
が得られた。
この皮膜の外観は黄味を帯びた銀白色であった。実施例
6金(シアン化金力リウムとして) 70タノクスズ
(塩化第一スズとして) 50夕/そマロン酸
450夕/そニッケル(塩化ニ
ッケルとして) 5夕/そレゾルシン
50夕/夕8ーナフトール 2夕
/そPH
4.5格温
45℃陰極電流密度 4A/dの
陽極 チタン白金メッキ時間
5分上記の〆ッキ浴組成、メ
ッキ条件でメッキを行なったところ、金82%、スズ1
7.5%、ニッケル0.5%、厚み4〃仇の光沢ある析
出皮膜が得られた。
6金(シアン化金力リウムとして) 70タノクスズ
(塩化第一スズとして) 50夕/そマロン酸
450夕/そニッケル(塩化ニ
ッケルとして) 5夕/そレゾルシン
50夕/夕8ーナフトール 2夕
/そPH
4.5格温
45℃陰極電流密度 4A/dの
陽極 チタン白金メッキ時間
5分上記の〆ッキ浴組成、メ
ッキ条件でメッキを行なったところ、金82%、スズ1
7.5%、ニッケル0.5%、厚み4〃仇の光沢ある析
出皮膜が得られた。
以上述べた実施例は本発明の一部であり、これらは本発
明を限定するものではない。
明を限定するものではない。
次に本発明によって得られる効果を次に挙げる。
tl’ メッキ格が安定である。
シアン化金力リウムおよび錆化剤は多いほどメッキ格が
安定化し、析出組成の電流密度による変化が少なくなる
。
安定化し、析出組成の電流密度による変化が少なくなる
。
前者は40夕/夕を越えるとその効果が著しい。また、
金・鈴化剤ともに多い場合は効果は相乗的に現われる。
(2} 優れた光沢が得られ、厚メッキによっても光沢
性、均一性、密着性に変化がない。
金・鈴化剤ともに多い場合は効果は相乗的に現われる。
(2} 優れた光沢が得られ、厚メッキによっても光沢
性、均一性、密着性に変化がない。
【3} 金一スズ合金に第3元素を添加することによっ
て、硬度が増加する。
て、硬度が増加する。
(4} 金属成分が高いため、高速メッキが可能である
。
。
(5} 浴組成、電流密度によって析出合金組成を任意
に、かつ広範囲に変化させることができる。
に、かつ広範囲に変化させることができる。
{6) 常温でもすぐれた析出物を得ることができる。
これは、メッキ格の安定性をさらに高める効果をもつ。
の 浴濃度が減少した場合、濃厚な補充液をあらかじめ
つくっておいてこれを補充すればよく、長時間の使用が
可能である。
これは、メッキ格の安定性をさらに高める効果をもつ。
の 浴濃度が減少した場合、濃厚な補充液をあらかじめ
つくっておいてこれを補充すればよく、長時間の使用が
可能である。
本発明によるメッキ格は上記に述べたように顕著な諸効
果を示す。
果を示す。
このメッキ格の用途としては次のようなものが挙げられ
る。‘a’硬度の高い携帯時間外装部品(ケース、バン
ドなど)等装飾用金色金合金メッキ‘b} 硬度の高い
装飾用ホワイトゴールドメッキ金とスズの組成を変化さ
せることによって金色から白色まで中広い色調を得るこ
とができ、析出物の硬度も高いので装飾用メッキとして
利用できる。
る。‘a’硬度の高い携帯時間外装部品(ケース、バン
ドなど)等装飾用金色金合金メッキ‘b} 硬度の高い
装飾用ホワイトゴールドメッキ金とスズの組成を変化さ
せることによって金色から白色まで中広い色調を得るこ
とができ、析出物の硬度も高いので装飾用メッキとして
利用できる。
具体的には、優れた外観、硬度、耐食性が求められる腕
時計、メガネフレームおよびネックレス等の装飾品など
に用いることができる。W 低品位、高強度の電気接点
材料 優れた耐摩耗性、耐食性、導電性を利用した電気接点材
料として用いることができる。
時計、メガネフレームおよびネックレス等の装飾品など
に用いることができる。W 低品位、高強度の電気接点
材料 優れた耐摩耗性、耐食性、導電性を利用した電気接点材
料として用いることができる。
{d} ボンディング用メッキ
金にスズを適量添加することによって融点は著しく低下
する。
する。
これを利用してIC(集積回路)のワイヤボンディング
が行われるリードフレームへ用いることができる。従釆
の純金メッキに比べ、金相が低下すると同時に、ボンデ
ィング時の加熱温度を下げることができるためサイクル
タイムを短縮できるという利点がある。‘eー 低融点
、高強度ろう材金80%「スズ20%の合金およびこれ
に第3元素が添加された合金は融点が30000前後で
強度がハンダ類の1川音以上とすぐれている。
が行われるリードフレームへ用いることができる。従釆
の純金メッキに比べ、金相が低下すると同時に、ボンデ
ィング時の加熱温度を下げることができるためサイクル
タイムを短縮できるという利点がある。‘eー 低融点
、高強度ろう材金80%「スズ20%の合金およびこれ
に第3元素が添加された合金は融点が30000前後で
強度がハンダ類の1川音以上とすぐれている。
ろう材メッキの用途として具体的には次のようなものが
ある。
ある。
腕時計などの水晶振動子においてプラグ先端のリード線
に本発明のメッキを施し、加熱溶融して水晶振動子をリ
ード線にろう付する場合、また、水晶振動子を封入する
パッケージにおいて、パッケージに本発明のメッキを施
して加熱溶融し、パッケージをろう付封止する場合があ
る。また、ICチップとテープキャリア方式の導電用フ
ィンガー部のろう材としてチップ又はフィンガー部に本
発明を施す場合、同じくフェイスダウンと呼ばれる半導
体実装方法において、回路基板とICチップのろう付と
してチップ又は回路基板に本発明のメッキを施す場合等
がある。この金とスズを主成分とした合金メッキをろう
材として用いる場合、析出物の成分組成は金10〜85
%、スズ15〜90%、第3元素の一種以上の合計が0
〜60%で融点は280こ0〜550qo、メッキ厚み
2仏肌以上であることが望ましい。
に本発明のメッキを施し、加熱溶融して水晶振動子をリ
ード線にろう付する場合、また、水晶振動子を封入する
パッケージにおいて、パッケージに本発明のメッキを施
して加熱溶融し、パッケージをろう付封止する場合があ
る。また、ICチップとテープキャリア方式の導電用フ
ィンガー部のろう材としてチップ又はフィンガー部に本
発明を施す場合、同じくフェイスダウンと呼ばれる半導
体実装方法において、回路基板とICチップのろう付と
してチップ又は回路基板に本発明のメッキを施す場合等
がある。この金とスズを主成分とした合金メッキをろう
材として用いる場合、析出物の成分組成は金10〜85
%、スズ15〜90%、第3元素の一種以上の合計が0
〜60%で融点は280こ0〜550qo、メッキ厚み
2仏肌以上であることが望ましい。
以上述べたように、本発明による金合金メッキ格は装飾
用メッキ、機能メッキおよびろう材メッキなどさまざま
な用途に使用できるため、実用上極めて有用な発明であ
る。
用メッキ、機能メッキおよびろう材メッキなどさまざま
な用途に使用できるため、実用上極めて有用な発明であ
る。
第1図は金濃度をパラメーターとした電流密度−析出皮
膜の金組成図である。 第1図
膜の金組成図である。 第1図
Claims (1)
- 1 シアン化金カリウムとして添加した金が40g/l
を越え100g/l以下と、周期律表Ia族、IVa族、
Va族、VIa族、VIIa族、VIIIa族、の金属およびIVb
族、Vb族、VIb族の非金属よりなる群の少なくとも1
種類の金属又は非金属が0.1g/l〜80g/lと、
第一スズが5g/l〜100g/lと、前記金属又は非
金属を錯化する少なくとも一種類の化合物が5g/l〜
500g/lと、光沢剤が0.2g/l〜100g/l
と前記第一スズの酸化防止剤の少なくとも一種が0.5
g/l〜100g/l添加され、pH4〜6であること
を特徴とする金合金メツキ浴。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8304580A JPS609117B2 (ja) | 1980-06-19 | 1980-06-19 | 金合金メッキ浴 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8304580A JPS609117B2 (ja) | 1980-06-19 | 1980-06-19 | 金合金メッキ浴 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS579893A JPS579893A (en) | 1982-01-19 |
JPS609117B2 true JPS609117B2 (ja) | 1985-03-07 |
Family
ID=13791224
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8304580A Expired JPS609117B2 (ja) | 1980-06-19 | 1980-06-19 | 金合金メッキ浴 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS609117B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3319772A1 (de) * | 1983-05-27 | 1984-11-29 | Schering AG, 1000 Berlin und 4709 Bergkamen | Bad fuer die galvanische abscheidung von goldlegierungen |
US6736954B2 (en) | 2001-10-02 | 2004-05-18 | Shipley Company, L.L.C. | Plating bath and method for depositing a metal layer on a substrate |
JP5633815B2 (ja) * | 2011-03-28 | 2014-12-03 | 住友金属鉱山株式会社 | Au−Sn合金はんだ |
CN105483779A (zh) * | 2015-12-01 | 2016-04-13 | 深圳市瑞世兴科技有限公司 | Au-Sn合金电镀液及其电镀方法 |
-
1980
- 1980-06-19 JP JP8304580A patent/JPS609117B2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS579893A (en) | 1982-01-19 |
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