JPS6090809A - 炭化けい素微粉末の製造方法 - Google Patents

炭化けい素微粉末の製造方法

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JPS6090809A
JPS6090809A JP58197888A JP19788883A JPS6090809A JP S6090809 A JPS6090809 A JP S6090809A JP 58197888 A JP58197888 A JP 58197888A JP 19788883 A JP19788883 A JP 19788883A JP S6090809 A JPS6090809 A JP S6090809A
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sio
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carbon
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Michiyo Tsuchiya
土屋 通世
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Denka Co Ltd
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Denki Kagaku Kogyo KK
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は炭化けい集機粉末の製造法さらに詳しくは炭化
水素ガスを熱分解して生成した浮遊状態の炭素微粉末を
非酸化性雰囲気下1400℃以上の温度で一酸化けい素
ガス(SiOガス)と接触させ8ることを特徴とする炭
化けい集機粉末の製造方法に関する。
炭化けい集機粉末は窒化け(A素と共に工業用材料、例
えば成形体や金属及び合成樹脂への充填材等に利用され
る重要な原料である。
炭化けい集機粉末の製法としてはいろいろ提案されてい
る。例えば (1) シリカ(S102)と炭素粉末との混合物を造
粒成形肩1600℃以上の高温で焼成して炭化けい素(
8iC)クリンカーとしこれを粉砕精製する方法がある
。(特開昭52−46398号)この方法では、操炉の
便のため原料のけい石と炭素粉末の粒度を、その最終製
品の大きさよシ、はるかに大きくしたシ、また原料混合
物をブリケット化することが必要である。このため得ら
れた製品はタリンカー状であシ且つクリンカー中のSi
Cは互に焼結し、微粉末状の炭化けい素を得るには長時
間の粉砕を要する欠点がある。
(2) sioガスを微粉末状のカーボンシラツクと低
温で反応させる方法がある。(特開昭54−12231
2号)この方法は製品の粉砕は大巾に軽減されるが、S
iOの発生を促進するため高真空を利用するので、特殊
な設備を必要とする欠点がある。
(3)微粉末のSiOを水素で稀釈した炭化水素ガスで
還元する方法がある。(特公昭57−59205号)こ
の方法は反応速度が極めて遅く、多量の炭化水素ガスを
要し、不経済で工業的実施は困難である。
(4)有機けい素化合物または有機けい素化合物と炭化
水素ガスとの混合物よシ気相反応で微粉末SiCを合成
する方法もあるが原料が高価でおり、且つ収率も低く、
汎用工業原料としては問題が多い。
本発明者は上記の種々の欠点を改善するため、炭素質微
粉末を非酸化性ガス中に浮遊させた状態でSiOがスと
接触させると、粉砕等の手段を要せず直接炭化けい集機
粉末が得られることを見出し、先に提案した。(特願昭
58101658号)本発明は先Mを更に改良したもの
であって、炭化水素がスをSiOガスと接触直前に熱分
解させ、これをそのままSiOガスと反応させると敏速
に例えば数秒間で反応が完了するというような状態で、
反応が進行し、直接SiC微粉末が得られることを知見
しなされたものである。すなわち、本発明は炭化水素が
スを供給管から反応器に供給し熱分解させて生成した浮
遊状態の炭素微粉末とSiQがスとを非酸化性雰囲気下
温度1400°C以上で接触させることを特徴とする炭
化けい素の製造方法である。
以下さらに本発明の詳細な説明する。
本発明は炭化水素ガスを反応器に供給し熱分解させ生成
した浮遊状態の炭素微粉末とSiOがスとを接触させる
ことt’特徴とするものでおって、これは従来炭素粉末
とSiOガスとを高温下反応させる方法とは異なるもの
である。
一般に炭化水素の熱分解で生成したカーボンブラックの
1次粒子は数10OAで極めて微粉であるが、製造后の
取り扱い等により僅かではあるが凝集することが避けら
れず、また、水分等が吸着したりして粒子の反応性が低
下する。しかし本発明においては、炭化水素ガスを熱分
解させ生成した炭素微粉末を直接SiOがスと接触させ
るため、炭素微粉末の分散が良くまた炭素粉末の反応性
が著しく高く、また、炭素微粉末は少なくとも1000
℃以上に予熱された状複で反応管に供給されるため、従
来の室温供給される場合に比べ著しく反応が促進される
というすぐれた効果を有するものである。
本発明の製法の具体例としてはSiC源となる原料を反
応器内に充填し、反応器の温度を高温、例えば1400
6C以上に加熱しつつ、H2等の非酸比性ガスを供給し
てSiOがスを発生させ、一方別途メタンガス等の炭化
水素ガスを反応器内に供給して、熱分解カーボンブラッ
クを生成させ、これと前記のSiOガスを接触させてs
1o+2cm+sic+c。
の反応によ、り SiC微粉末を生成させ、これを系外
に排出させて捕集器に捕集する方法やSiO発生器を別
置し、これよ多発生させたBfOガス?反応器内に供給
して上記のカーボンブラックと反応させるなどの方法が
あげられる。
本発明に用いられる炭化水素の具体例としてはアセチレ
ン、メタン等常温で気体状のものの外にベンゼンの様な
常温で液状であるがキャリヤーガスによシ蒸発させて反
応器に供給しうる蒸気圧の比較的高い炭素水素であって
熱分解によシカ−ボンブラックを生成オる本のであれげ
田いA?にφ;可能である。
また炭化水素がスの供給の方法としては炭化水素ガスを
単独で供給すること、またこれを水素ガスで稀釈して供
給することも可能である。水素は炭化水素ガスの熱分解
反応を調整するのに有効なものである。
水素の使用量が少い場合にはSiOガスとの反応部に到
達する以前に熱分解され水素ガス中はSiOガスとの反
応部に到達する以前に熱分解され水素ガス中に浮遊した
状態の炭素微粉末として供給される。
又、水素ガスの稀釈量が増して来ると共に炭化水素の熱
分解はSiOガスとの反応部に近い位置で熱分解し、更
にはSiOがスとの反応部で炭化水素の熱分解と生成し
た炭素微粉末とSiOガスとの反応が同時に進行する様
になる。
なお炭化水素がスとしてCH,を使用する場合CH4/
H2のモル比が乞。以下好ましくは河。〜匙。
である。
本発明において、Si0発生原料としては固体状Sj、
Qか8102と炭素の混合物など既に知られている原料
のいづれも用いることができ、これらの原料は3〜20
 y+m程度に造粒して用いる方が望ましい。3趨未満
ではSiOキャリヤーガスの通過が悪く、また20朋を
こえると造粒物からのSiOガスの発生が遅くなり、い
づれもSiOがスの発生が悪くなる欠点がある。
非酸化性ガスとしては、アルインのような不活性ガスH
2のような還元性ガスのいづれでもよい。
またこれらの混合ガスでもよく炭素微粉末を酸化しない
ものであれば良い。
反応温度はSiOガスと熱分解直後の炭素微粉末との反
応は光分早く進行するため、通常の方法よシ低温でも良
いが、この場合、sloの蒸気圧が著しく低くなり、生
産性が悪く実用的でなく 、1400’0以上好ましく
は1500℃以上とすることが望ましい。
本発明に用いる反応器としてはSiOガス発生源となる
原料e1500℃以上に加熱し、これにH2等の非酸比
性ガスを供給することにょf) SiOがスを発生させ
、さらに炭化水素ガスを熱分解させて、SiOガス中に
供給できるものであればよい。
更に説明すると、反応器の上部に多孔板、多孔板の中央
に炭化水素を供給の途中で熱分解させながら供給する供
給パイプ、下部に排出口を備えた竪型反応容器からなシ
、さらに上部多孔板よりSiOガスのキャリヤー用非酸
化性ガスを多孔板中央のパイプよシ炭化水素がスを各々
供給する装置、下部排出口より排出された生成物を捕集
する装置を備えたものが好ましいが、これに限られるも
のではない。
以下に実施例をあげて本発明を具体的に説明する。
実施例1 中央に直径30m5+のアルミナ管を挿入した黒鉛製多
孔板を備えた均熱長600**内径93φ玉の黒鉛製反
応管の多孔板の上部に離行(純度97%平均粒径8μ)
と金属Si (純度98チ、平均粒径6μ)とを510
2/81のモル比が1対1になる様に混合し、シリカゾ
ル(日産化学商品名「スノーテックス−0J)を結合剤
として6〜15朋に造粒した造粒物600.&rを充填
し、充填部に水素がスを流しながら加熱しSiOガスを
発生させた。
反応管が1700°Cに到達した時、多孔板中央のアル
ミナ管より、水素がスで稀釈したメタンガスに供給し、
供給パイプ中でメタンガスを熱分解さt、生成したカー
ボンブラックを直接SiOガスと反応させた。
反応管へのガス供給条件は次の通りである。
S10がス揮発用H220//分 CH41tt C[(、稀釈用H215// この条件での熱分解炭素微粉及びSiOがスの反応管均
熱部の滞留時間は1.0秒であった。
下部排出によシ排出された反応物をテトロンフェルトを
備えた捕集ビンに捕集した。
捕集物中のSiCは70チ、遊離炭素は1.3チで炭素
の反応率は97チであった。
上記捕集物を空気中で、700°01時間焼成し脱炭し
たのちriF、1No3=1 : l混酸に60分浸漬
し、水洗した。
得られた微粉はX線回折の結果β−8iCで純度は99
.2チ、電子顕微鏡観察の結果では粒度は0.5μ以下
の微粉であった。
実施例2 反応温度を1800℃、反応管へのガス供給条件で次の
様に変えた以列は実施例1と同一条件で反応させた。
SiOがス揮発用H2251/分 CH4,2tt CH,稀釈用H215g 反応管均熱部の滞留時間は0.8秒でちったが、捕集物
中のSiCは73チ、遊離炭素は1.4チで炭素の反応
率は97チであった。
精製后の微粉はX線回折の結果β−8iCで、純度は9
8.8%、電子顕微鏡観察の結果では粒度は0.5μ以
下の微粉であった。
実施例3 炭化水素ガスをC2H20,5e/分に変更した以外は
実施例1と同一条件で反応させた。
rtn渠物中のS ] Cは72チ、遊離炭素1.3俤
で炭素の反応率98チであった。
精製后の微粉は実施例1,2と同等であった。
実施例4 炭化水素がスとしてc、、H,3を0.4 l7分に変
更した以外は実施例1と同一条件で反応させた。
捕栗物中のSiCは84チ、遊離炭素2,7チで炭素の
反応率は95チでbった。精製后の微粉は実施例1〜3
と同等であった。
実施例5 Si、O発生用原料として離行(純度97%、平均粒径
8μ)とコークス(固定炭素94%、平均粒毘12μ)
とをCと5102のモル比をン、2に混合した後、直径
6〜15龍に造粒した混合物500grに変更した以外
は実施例2と同一の条件で反応させた。
捕集物中のSiCは82チ、遊離炭素2.4%で炭素の
反応率は95チであった。精製后の微粉1実施例1〜4
と同等であった。
特許出願人・電気化学工業株式会社 手続補正書 ■、事件の表示 昭和58年特許願第197888号 2、発明の名称 炭化けい集機粉末の製造方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都千代田区有楽町1丁目4番1号明細書の発
明の詳細な説明の欄 5、補正の内容 1)明細書第2頁第18行rsiOJをrsio2Jと
訂正する。
3)同 第7頁において、第1行r SiOかSiO*
Jをr SiOや5jOaJと訂正、第9行「ガスHJ
を「ガスH2Jと訂正する。
手続補正書 1、事件の表示 昭和58年特許願第197888号 2、発明の名称 炭化けい集機粉末の製造方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都千代田区有楽町1丁目4番1号明細書の
発明の詳細な説明の欄 5、補正の内容 (11昭和58年11月21日付手続補正書第2頁を別
紙訂正第2頁と差訂正第2頁 3)同 第7頁において、第1行rsioかSiO□」
をrsioや5iOQJと訂正、第9行[ガスH,Jを
「ガスやH,Jと訂正する。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 炭化水素ガスを供給管から反応器に供給し熱分解させ生
    成した浮遊状態の炭素微粉末と一酸化けい素ガスとを非
    酸化性雰囲気上温度14oo℃以上で接触させることを
    特徴とする炭化けい集機粉末の製造方法。
JP58197888A 1983-10-22 1983-10-22 炭化けい素微粉末の製造方法 Granted JPS6090809A (ja)

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JPH0372008B2 JPH0372008B2 (ja) 1991-11-15

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6512437B2 (en) 1997-07-03 2003-01-28 The Furukawa Electric Co., Ltd. Isolation transformer

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6512437B2 (en) 1997-07-03 2003-01-28 The Furukawa Electric Co., Ltd. Isolation transformer

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