JPS6087840A - 真空装置の脱ガス方法 - Google Patents
真空装置の脱ガス方法Info
- Publication number
- JPS6087840A JPS6087840A JP19355483A JP19355483A JPS6087840A JP S6087840 A JPS6087840 A JP S6087840A JP 19355483 A JP19355483 A JP 19355483A JP 19355483 A JP19355483 A JP 19355483A JP S6087840 A JPS6087840 A JP S6087840A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- vacuum apparatus
- heating
- vacuum
- degassing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J3/00—Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
- B01J3/006—Processes utilising sub-atmospheric pressure; Apparatus therefor
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は真空装置内の吸着ガスの除去（以下脱ガスとい
う）方法に関するものである。
う）方法に関するものである。
従来、真空装置の脱ガス方法には、該装置の外周にヒー
ターを巻着してその内壁を加熱するが、または該装置内
部に赤外線ランプ等を設けて輻射熱で内壁を加熱するな
どにより、吸着ガスの除去をはかっている。これらの装
置において通常装置内部は高真空に保たれているので内
部の気体を介した熱伝達は期待できず、装置構成部品の
熱伝導でのみ内壁の加熱が進行するから、装置全体の均
一な加熱が困難で、温度の充分に上らない部分にガスが
再吸着して脱ガスが効率的に進行しない欠点があった。
ターを巻着してその内壁を加熱するが、または該装置内
部に赤外線ランプ等を設けて輻射熱で内壁を加熱するな
どにより、吸着ガスの除去をはかっている。これらの装
置において通常装置内部は高真空に保たれているので内
部の気体を介した熱伝達は期待できず、装置構成部品の
熱伝導でのみ内壁の加熱が進行するから、装置全体の均
一な加熱が困難で、温度の充分に上らない部分にガスが
再吸着して脱ガスが効率的に進行しない欠点があった。
本発明はこれらの欠点を除去するために装置内部に不活
性ガスを導入し該ガスを介しての熱伝導による加熱とそ
の排気にょシ脱ガスを行なうもので、以下図面について
詳細に説明する。
性ガスを導入し該ガスを介しての熱伝導による加熱とそ
の排気にょシ脱ガスを行なうもので、以下図面について
詳細に説明する。
第１図は本発明の第１実施例を示す外観説明図である。
１は真空装置、２はガス導入口、３はガス排気口、４は
覗き孔、５は電線導入端子を有する取付口であり真空装
置１に夫々形成されている。
覗き孔、５は電線導入端子を有する取付口であり真空装
置１に夫々形成されている。
ガス導入口２およびガス排気口３には図示していないが
夫々該口を閉じる手段又は真空ポンプ等を取シ付ける手
段が具備されている。６は加熱部材であって真空装置１
の内壁に装着されているが、加熱部材６として例えば加
熱用赤外線ラングと電線導入端子５を介しての配線部材
が設けられている。Ｇはアルゴン等の不活性ガスである
が矢印で示すようにガス導入口２から導入すると同時に
矢印で示すようにガス排気口３から排出し、真空装置１
の内部を常に１０−２〜１０ Ｔｏｒｒの圧力に保って
おく。この程度の圧力ではガス将人口２から導入した不
活性ガスＧの平均自由行程（ｍｅａｎ ｆｒｅｅ ｐａ
ｔｈ ）ＩＩＳ’、 ５ Ｗｕｎ以下であって、真空装
＠ｌの幾何学的寸法よシはるかに小である。しだがって
加熱部材６からの熱の伝達は熱輻射のほかに不活性ガス
Ｇの対流、拡散に依存する部分が大半を占め・図では省
略されているが、複雑な形状の真空装置の隅々まで均一
に加熱されることになる。これで溶接部分の隙間などに
吸着していたガスにも効果的な脱ガスを行なうことがで
きる。いったん装置内壁から放出した吸着したガス附１
、ガス排気口３から排出されるので真空装置内部に古吸
着されることはない。なお１０ Ｔｏｒｒを越すガスを
導入した場合には加熱によるガス膨張で真空装置１にひ
ずみが生ずる恐れがあって適当でない。
夫々該口を閉じる手段又は真空ポンプ等を取シ付ける手
段が具備されている。６は加熱部材であって真空装置１
の内壁に装着されているが、加熱部材６として例えば加
熱用赤外線ラングと電線導入端子５を介しての配線部材
が設けられている。Ｇはアルゴン等の不活性ガスである
が矢印で示すようにガス導入口２から導入すると同時に
矢印で示すようにガス排気口３から排出し、真空装置１
の内部を常に１０−２〜１０ Ｔｏｒｒの圧力に保って
おく。この程度の圧力ではガス将人口２から導入した不
活性ガスＧの平均自由行程（ｍｅａｎ ｆｒｅｅ ｐａ
ｔｈ ）ＩＩＳ’、 ５ Ｗｕｎ以下であって、真空装
＠ｌの幾何学的寸法よシはるかに小である。しだがって
加熱部材６からの熱の伝達は熱輻射のほかに不活性ガス
Ｇの対流、拡散に依存する部分が大半を占め・図では省
略されているが、複雑な形状の真空装置の隅々まで均一
に加熱されることになる。これで溶接部分の隙間などに
吸着していたガスにも効果的な脱ガスを行なうことがで
きる。いったん装置内壁から放出した吸着したガス附１
、ガス排気口３から排出されるので真空装置内部に古吸
着されることはない。なお１０ Ｔｏｒｒを越すガスを
導入した場合には加熱によるガス膨張で真空装置１にひ
ずみが生ずる恐れがあって適当でない。
第２図は本発明の第２実施例を示す外観説明図である。
第２実施例およびつぎに述べる第３実施例には第１実施
例と同じ部分には同じ符号を付しである。
例と同じ部分には同じ符号を付しである。
第２実施例では真空装置ｌ内に加熱部材６を設けること
なく、真空装置１の外周に加熱部拐としてヒーター７を
巻着してその内壁を加熱するとともに、アルゴン等の不
活性ガスＧを矢印に示すようニカス導入口２から導入す
ると同時にガス排気口３から排出し、真空装置１の内部
を常に１０〜１０ Ｔｏｒｒの圧力に保っておく、この
ように構成し、実施することによシ脱ガスを行なう。
なく、真空装置１の外周に加熱部拐としてヒーター７を
巻着してその内壁を加熱するとともに、アルゴン等の不
活性ガスＧを矢印に示すようニカス導入口２から導入す
ると同時にガス排気口３から排出し、真空装置１の内部
を常に１０〜１０ Ｔｏｒｒの圧力に保っておく、この
ように構成し、実施することによシ脱ガスを行なう。
第３図は本発明の第３実施例を示す外観説明図である。
第３実施例においては前２実施例と異なり加熱部材を真
空装置１に設けることなく、図示していないが加熱装置
によシあらかじめ加熱した不活性ガスＧをガス導入口２
から導入しガス排気口３から排出するもので前２実施例
同様真空装置１の内部を常に１０−２〜１０ Ｔｏｒｒ
の圧力に保って脱ガスを行なう。
空装置１に設けることなく、図示していないが加熱装置
によシあらかじめ加熱した不活性ガスＧをガス導入口２
から導入しガス排気口３から排出するもので前２実施例
同様真空装置１の内部を常に１０−２〜１０ Ｔｏｒｒ
の圧力に保って脱ガスを行なう。
以上説明したように不活性ガスを介した熱の伝達を利用
した加熱法を用いているだめに均一な加熱が可能で真壁
装置の脱ガスが効率的に行なわれるとともに該真空装置
に不均一な熱ひずみが生じないので − ゛−゛ 装置装置社命びる利点がある。
した加熱法を用いているだめに均一な加熱が可能で真壁
装置の脱ガスが効率的に行なわれるとともに該真空装置
に不均一な熱ひずみが生じないので − ゛−゛ 装置装置社命びる利点がある。
第１図は本発明の第１実施例を示す外観説明図、第２図
は本発明の第２実施例を示す外観説明図、第３図は本発
明の第３実施例を示す外観説明図である。 ｌ：真空装置、２：ガス導入口、３：ガス排出口、６．
７：加熱部材。 特許出願人 日本電信電話公社 １図
は本発明の第２実施例を示す外観説明図、第３図は本発
明の第３実施例を示す外観説明図である。 ｌ：真空装置、２：ガス導入口、３：ガス排出口、６．
７：加熱部材。 特許出願人 日本電信電話公社 １図
Claims (1)
- 真空装置内に１０−２〜］、 ＯＴｏｒｒの不活性ガス
を導入し）該不活性ガスを加熱、刊気することによって
該真空装置内の脱ガスを迅速、効率的に行なうことを特
徴とする真壁装置の脱ガス方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19355483A JPS6087840A (ja) | 1983-10-18 | 1983-10-18 | 真空装置の脱ガス方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19355483A JPS6087840A (ja) | 1983-10-18 | 1983-10-18 | 真空装置の脱ガス方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6087840A true JPS6087840A (ja) | 1985-05-17 |
Family
ID=16309976
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19355483A Pending JPS6087840A (ja) | 1983-10-18 | 1983-10-18 | 真空装置の脱ガス方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6087840A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5156771A (en) * | 1974-11-13 | 1976-05-18 | Tokyo Shibaura Electric Co | Hoikinaino gasuchikansenjohoho |
-
1983
- 1983-10-18 JP JP19355483A patent/JPS6087840A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5156771A (en) * | 1974-11-13 | 1976-05-18 | Tokyo Shibaura Electric Co | Hoikinaino gasuchikansenjohoho |
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