JPS608477B2 - 放射能で汚染されたフイルタ枠又はフイルタ枠組の最終貯蔵のための処理方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、低度乃至中程度に放射能で汚染されたフィル
タ枠又はこれを複数個組合わせたフィルタ枠組を最終的
に貯蔵するための処理方法に関している。

このようなフィルタ枠又はフィルタ枠組は特に原子力発
電所で問題になる。′ここでこれらは例えば冷却材を浄
化するための補助設備の中に組入れられる。このフィル
タ枠は、合成材料の帯の形で巻きつけられる本釆のフィ
ルタ材料のための一般に金属製の管状抵体より成る。勿
論フィルタ材料は金属繊維でも良く、安定した金属の保
護被覆を備えるようにしても良い。更に上記担体を剛的
形状の合成材料より製作することも考えられる。通過す
る流量が大きい場合には、多数のこのようなフィルタ枠
をまとめて枠組とし、個々のフィルタ枠を並列的に通流
させることもできる。このフィルタ枠乃至フィルタ枠組
は使用後は放射能で汚染されているので、放射能的に安
全な最終貯蔵が必要となる。フィル夕の使用場所、即ち
一般には原子力発電所に於いては貯蔵の可能性が時間的
にも空間的にも不充分であるので、フィルタ枠又はフィ
ルタ枠組の最終的貯蔵のためにはも一般に運搬の可能性
を考慮しなければならない。

その外汚染が予想される場合には、容器が破壊した場合
にも最終貯蔵個所で漏洩が起らないようにするため「汚
染された対象物が液密に密閉されている必要がある。従
って本発明の目的は、できる限り僅かな費用を以てこの
ような条件を満たすことである。この目的を達成するた
め本発明によめば「フィル夕枠又はフィル夕枠組が先づ
１００Ｑ乃至２００℃、成るべくは１３０ｏ乃至１６０
ｑＣの温度で乾燥され「次に熱いビチューメンを以て最
終貯蔵のために用意された容器の中にその全体が樫込ま
れ〜その麹込工程が３０分以上に亘つて段階的に施され
る。

このような処理が施された後〜容器「例えば「２００そ
の容量を有するいわゆる標準容器が菱で閉鎖される。次
も、で放射能保護の条件の考慮のもとにもいわゆる最終
貯蔵個所、たとえば岩塩廃坑への運搬が行われる。上記
乾燥を施すことにより「ビチューメンで密封されたフィ
ル夕枠又は枠組は蒸気の発生のために害されないように
することができる。

若し乾燥を施さなかったならばｔ フィルタ枠が多量に
水分を含んでいる場合蒸気の発生によりビチューメンに
泡立ちを起すことがある。同時に「場合によっては数時
間にも及ぶ埋込工程を行うことにより、残留湿気が泡の
形で逃げ去り〜従って好ましくない中空室の中に閉鎖さ
れたまま残留することがないようにすることができる。
なおこれと共に、冷却時のビチューメンの約１０乃至２
０％に及ぶ収縮が考えられる。これによればｔ同時に好
ましくない中空室の発生も回避される。なぜなら容器内
のピチューメンは、埋込工程中に既に著しい範囲におい
て冷却し、そのために生じた収納体積が充填されるから
である。乾燥は、最終貯蔵のために用意された容器の中
で行われると有利である。

容器の中で乾燥を施すことにより「汚染された対象物の
反覆的取扱いが回避されるので有利である。この乾燥は
、容器内のフィルタ枠に熱風を吹きつけて湿気を追い出
す熱風乾燥として施すこともできる。しかし又乾燥を〜
例えば赤外線発生器等をを用い容器の装填口からフィル
夕枠に作用させるように、外部から容器を加熱すること
によって行うこともできる。本発明による長時間に亘つ
て行われる埋込工程は〜冷却の場合の収縮によって起る
容積の減少が空所を生じないようにさせ得るので「埋込
工程及び冷却に要する時間は容積の状態とビチューメン
温度に関連する。従って樫込工程は〜３晩ごょりも著し
く長い時間「例えば２時間或はそれ以上にするとよい。
この場合必ずしも全時間に亘り中断なしにビチューメン
が充填されることを要しない。本発明の特に有利な実施
例によれば、埋込工程が２段階の工程で行われる。その
場合第２工程に於いても第Ｘ工程後劇ち３び分或はそれ
以上の休止の後「残りの５乃至２５％のどチューメンが
後から埋込まれるようにすれば〜放射能で汚染されたフ
ィル夕枠又はフィル夕枠組は完全に且つ空所ないこ確実
にビチューメンによって包囲されることになる。次に本
発明の−実施例を示す図面を参照して「本発明の作用及
び効果につき更に詳細に説明する。

図面に於いて、川まいわゆる標準型容器を示す。

これは２００その容量を有する鋼製の容器で〜原子力設
備特に原子力発電所から汚染された廃棄物を運び出すの
に使用される。この容器は例えば２柵の壁厚を持つ鋼板
から成っている。この円筒状容器の上端には、補強縁３
を備えた装填□２が設けられている。更にこの容器を鋼
製リングで補強することもできる。しかしこれは図を簡
単にするために省かれている。容器１の中には「一つの
フィルタ枠組５が収容されておりこれは水の浄化に使用
される数個のフィルタ枠６を含んでいる。

この図面には破線でフィルタ枠Ｓが示されている。フィ
ルタ枠は、支持管９によって相互に隔てられた２つの端
板７，８の間に配置されている。支持管９は、端板７の
下側のフランジｉ亀の中に配置されたねじ１０を以て締
めつけられている。更に支持管９はねじ結合部亀２を以
て機板８に取付けられている。上方の端板８１こは管片
１４を介して固定された円板１６が設けられており「こ
の円板はフィルタ枠組５の運搬及び貯蔵のために役立て
られる。使用後のフィルタ枠組５は、放射能から保護さ
れたマニピュレー夕を用いて容器１の中へ挿入される。

その場合フィルタ枠組５は全側面から均等に封印される
ことが望ましいので、適当な支持装置を用いて容器１の
中のフィル夕枠組の位置をできるだけ中心におくように
すると良い。次いで容器１の中に入れられたフィルタ枠
組は熱風の流れを以て乾燥される。

約２００ｏｏの温度の熱風の流れがノズルにより閉口２
を経て容器内の一脚へ向けられ、そして他の側から出る
ようにされ、その際できるだけフィル夕枠組の全面が均
等に洗われるように案内される。乾燥は、その過程に１
乃至２時間もかけ、特に精密フィル夕ではそれ以上の時
間をかけるというように正味の作用時間に関係的に、或
は容器１から出る空気の湿度に関係的に行われる。次い
で既知のビチューメン施工装置を用いて１８０ｏ乃至２
００午０の温度を有するビチューメン１７が容器１へ導
入される。

この埋込工程では約２０分の間にフィルタ枠組５が隠れ
る程度まで容器が満たされる。その２時間後、ビチュー
メンの液面をフィルタ枠組５の下まで沈下させるような
冷却時に生ずる収縮を埋め合わせるために、前に埋込ま
れたビチューメンの体積の１５％の残量が更に充填され
る。この後から注入されるビチューメンによりフィルタ
枠組５は完全に隠される。冷却後、この容器に付属する
蓋を以て関口２が閉鎖され、そこでこの容器が運び出さ
れ得ることになる。ピチューメンの放射線耐力は約１ぴ
ｒａｄに逢しており、これは中程度のフィル夕には十分
である。フィルタ枠組を形成するため重い金属部材を以
て結合されていないフィルタ枠を埋入する場合には、フ
ィル夕枠がその多孔的構造のために、充填されたビチュ
ーメン中で浮上るおそれがある。そこで重みをつけるこ
とによって、フィルタ枠がビチューメン液面以下に止ま
るように考慮する必要がある。図面の簡単な説鯛 図面は、本発明の方法によって処理されるフィルタ枠組
を収容した容器の断面図である。

１・・・…容器、２・・・…充填用閉口、３・…・・補
強縁、５……フィルタ枠組、６……フィルタ枠、７，８
・…−・端板「 ９・・…・支持管、１０・…・・ねじ
、１２・・・・・・ねじ連結部、１４・・・・・・管片
、１５・・・・・・円板部村。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 低乃至中程度に放射能で汚染されたフイルタ枠又は
   フイルタ枠組が先づ１００°乃至２００℃の温度で乾燥
   され、次に最終貯蔵のために用意された容器の中で熱い
   ビチユーメンを以て全体が埋込まれ、その場合埋込工程
   が３０分以上に亘つて段階的に行われることを特徴とす
   る放射能で汚染されたフイルタ枠又はフイルタ枠組の最
   終貯蔵のための処理方法。 ２ 乾燥が１３０°乃至１６０℃の温度で行われること
   を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 乾燥が最終貯蔵のために用意された容器の中で行わ
   れることを特徴とする特許請求の範囲第１項又は第２項
   記載の方法。 ４ 熱風乾燥を施すことを特徴とする特許請求の範囲第
   ３項記載の方法。 ５ 埋込み工程が２工程で行われ、第２工程に於いては
   第１工程後３０分以上の休止後５乃至２５％のビチユー
   メンが後から埋込まれることを特徴とする特許請求の範
   囲第１項乃至第４項のいずれかに記載の方法。