JPS6077985A - 電解槽の洗浄方法および洗浄薬剤 - Google Patents
電解槽の洗浄方法および洗浄薬剤Info
- Publication number
- JPS6077985A JPS6077985A JP18591083A JP18591083A JPS6077985A JP S6077985 A JPS6077985 A JP S6077985A JP 18591083 A JP18591083 A JP 18591083A JP 18591083 A JP18591083 A JP 18591083A JP S6077985 A JPS6077985 A JP S6077985A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- acid
- cell
- tank
- electrolytic cell
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電解槽を効果的に洗浄することによって、ｍ解
槽の機能を回復させ、ｉｎ解により得を もれる製品の純度を向上させる方法に門する。
槽の機能を回復させ、ｉｎ解により得を もれる製品の純度を向上させる方法に門する。
渭１ｗｌ槽は電解容器と電極からなり、槽ｒ＋友には電
解液がためられる。他に付屑要素として隔膜や、温度調
整、ガス洗浄等の装置が電解の目的に応じて必要となる
。電極の陽極としては、苛↑′Ｌソーダ製造用に黒鉛が
、水電解用にニッケルメッキを施した缶板が用いられて
いる。陰極としては鋼板が用いられ、隔膜としては石綿
布が一般に用いられている。
解液がためられる。他に付屑要素として隔膜や、温度調
整、ガス洗浄等の装置が電解の目的に応じて必要となる
。電極の陽極としては、苛↑′Ｌソーダ製造用に黒鉛が
、水電解用にニッケルメッキを施した缶板が用いられて
いる。陰極としては鋼板が用いられ、隔膜としては石綿
布が一般に用いられている。
電解槽を長年使用していると、電解液内のマグネシウム
、カルシウム、鉄等の不純物や電極等の腐食生成物が槽
内、特にＷｃ極而面隔膜面に付着してくる。その結果、
隔膜の目詰り、電流効率の低下、興品純度の低下といっ
た電解槽の機能低下を引き起こしてきた。
、カルシウム、鉄等の不純物や電極等の腐食生成物が槽
内、特にＷｃ極而面隔膜面に付着してくる。その結果、
隔膜の目詰り、電流効率の低下、興品純度の低下といっ
た電解槽の機能低下を引き起こしてきた。
このため、従来ではｆｆ、 Ｍ ｌ＊内に水を循環させ
槽内に付着した汚れを系外に排出するといった洗浄方法
が実施されている。しかしながら、この方法では槽内に
付着した汚れを完全に除去することは不可能であったた
め、水洗後短期間で製品純度の低下が見られたり、電流
負荷を下げて運転したシすることを余儀なくされていた
。
槽内に付着した汚れを系外に排出するといった洗浄方法
が実施されている。しかしながら、この方法では槽内に
付着した汚れを完全に除去することは不可能であったた
め、水洗後短期間で製品純度の低下が見られたり、電流
負荷を下げて運転したシすることを余儀なくされていた
。
最悪の場合、このように機能低下した電解槽はオーバー
ホールによυ付着物を除去したり、部品の交換等が必要
であった。
ホールによυ付着物を除去したり、部品の交換等が必要
であった。
本発明の目的は、上記のようなオーバーホールすること
なく、電解槽内を効果的に洗浄することによって、短期
間で電解槽の機能を回復させることができる電解槽の洗
浄方法を提供する所にあるっ 本発明の電解槽の洗浄方法は、電解槽内に洗浄薬剤溶液
を注入して該槽内の汚れと接触させた後、洗浄に供した
洗浄薬剤溶液を排出するものである。
なく、電解槽内を効果的に洗浄することによって、短期
間で電解槽の機能を回復させることができる電解槽の洗
浄方法を提供する所にあるっ 本発明の電解槽の洗浄方法は、電解槽内に洗浄薬剤溶液
を注入して該槽内の汚れと接触させた後、洗浄に供した
洗浄薬剤溶液を排出するものである。
本発明において使用する洗浄薬剤溶液として杜、酸液、
アルカリ液、界面活性剤等である。
アルカリ液、界面活性剤等である。
槽内の電極や隔膜に付着する汚れは種々のものがあるが
、一般には酸液による洗浄が付着物に対する溶解力の点
で最も有効である。酸液としては、塩酸、硫酸、スルフ
アミン酸等の無機酸あるいはクエン酸、ヒドロキシ酢酸
、ギ酸、シュウ酸、エリソルビン酸、リンゴ酸等の有機
酸が挙げられ、この中でも塩酸、シュウ酸、クエン酸、
エリソルビン酸が好ましく、これらは単独または併用し
て使用できる。
、一般には酸液による洗浄が付着物に対する溶解力の点
で最も有効である。酸液としては、塩酸、硫酸、スルフ
アミン酸等の無機酸あるいはクエン酸、ヒドロキシ酢酸
、ギ酸、シュウ酸、エリソルビン酸、リンゴ酸等の有機
酸が挙げられ、この中でも塩酸、シュウ酸、クエン酸、
エリソルビン酸が好ましく、これらは単独または併用し
て使用できる。
界面活性剤としてれ、ドデシルベンゼンスルホン酸ナト
リウムで代表されるアニオン性のもの、またＬポリオキ
シエチレンノニルフェニールエーテルで代表されるノニ
オン性のものが使用でき、ポリオキシエチレンノニルフ
ェニールエーテルは、隔膜や汚れに対して浸透力が強い
ので好ましい。
リウムで代表されるアニオン性のもの、またＬポリオキ
シエチレンノニルフェニールエーテルで代表されるノニ
オン性のものが使用でき、ポリオキシエチレンノニルフ
ェニールエーテルは、隔膜や汚れに対して浸透力が強い
ので好ましい。
洗浄薬剤は、前記した酸と界面活性剤を併用すると、−
汚れがとれやすくたるので好ましい。
汚れがとれやすくたるので好ましい。
以下、洗浄薬剤溶液として塩酸を用いた場合を示し図に
そって本発明を詳述する。
そって本発明を詳述する。
まず電ＷＦｆｉ！ｉｉから・電解液を排出する。槽内に
は電解液が残留していたシ、隔膜に浸み込んでいたりす
るため、水洗を十分に行うことが望ましい。電解液がア
ルカリの場合は予め酸を用いて中和しても良い。
は電解液が残留していたシ、隔膜に浸み込んでいたりす
るため、水洗を十分に行うことが望ましい。電解液がア
ルカリの場合は予め酸を用いて中和しても良い。
次に洗浄薬剤である塩酸を投入する。この場合、仮設タ
ンク２を設置して仮設タンク２から酸を投入し、循環ポ
ンプ３を介して槽底部より供給して洗浄後、洗浄液をセ
パレータータンク４を介して仮設タンク２へ戻し循環使
用するとＡい、、塩酸の投入量は付着物の世に応じて決
められる。但し、一般に槽内の付着物量の推定が田作な
場合が多いため、次のような方法をとると良い。即ち、
洗浄液を循環させながら塩酸を一定叶ずつ投入する。逐
次公知の方法で塩酸の濃度を測定し、仮設タンク内の塩
酸の濃度がｏ、 ｉ％以上、望ましくは１％以上となる
ように塩酸の投入を続ける。塩酸の投入を止めてからの
塩酸の濃度が一定値となった時点で酸洗浄を終了する。
ンク２を設置して仮設タンク２から酸を投入し、循環ポ
ンプ３を介して槽底部より供給して洗浄後、洗浄液をセ
パレータータンク４を介して仮設タンク２へ戻し循環使
用するとＡい、、塩酸の投入量は付着物の世に応じて決
められる。但し、一般に槽内の付着物量の推定が田作な
場合が多いため、次のような方法をとると良い。即ち、
洗浄液を循環させながら塩酸を一定叶ずつ投入する。逐
次公知の方法で塩酸の濃度を測定し、仮設タンク内の塩
酸の濃度がｏ、 ｉ％以上、望ましくは１％以上となる
ように塩酸の投入を続ける。塩酸の投入を止めてからの
塩酸の濃度が一定値となった時点で酸洗浄を終了する。
なお、図中５〜９は弁を示す。
次いで槽内の洗浄に供した洗浄液を槽下部よシ排出した
後、系内の水洗を十分に行う。水洗は、系全体に水張り
した後に槽下部よジ水洗液を排出するバッチ式水洗か、
あるいは水洗液を循環させながら水を供給して循環する
水洗液の一部を排出する連続式水洗のいずれか、あるい
はその併用のいずれも採用できる。水洗中に懸濁物が検
出されなくなるか、あるいは塩酸からの塩素イオンが検
出されなくなった時点で水洗を終了する。電気伝導度が
１０００μｑ／ｄ以下となる点を目安にしても良い。水
洗終了後は、水洗液を排出し所定の電解液を槽に満たし
て作業を終了する。
後、系内の水洗を十分に行う。水洗は、系全体に水張り
した後に槽下部よジ水洗液を排出するバッチ式水洗か、
あるいは水洗液を循環させながら水を供給して循環する
水洗液の一部を排出する連続式水洗のいずれか、あるい
はその併用のいずれも採用できる。水洗中に懸濁物が検
出されなくなるか、あるいは塩酸からの塩素イオンが検
出されなくなった時点で水洗を終了する。電気伝導度が
１０００μｑ／ｄ以下となる点を目安にしても良い。水
洗終了後は、水洗液を排出し所定の電解液を槽に満たし
て作業を終了する。
なお、電解槽が鋼材等からなっていて酸による腐食の恐
れがある場合は、酸液に公知の腐食抑制剤を添加して行
うことができる。また水洗時に電極等の腐食を防ぐため
に予めアルカリで中和処理したシ、公知の腐食抑制剤を
用いることも可能である。
れがある場合は、酸液に公知の腐食抑制剤を添加して行
うことができる。また水洗時に電極等の腐食を防ぐため
に予めアルカリで中和処理したシ、公知の腐食抑制剤を
用いることも可能である。
本発明によれば、上記したような洗浄薬剤溶液を槽内の
汚れと接触させることによって、汚れが容易に剥離し溶
解するため、効率良く電解槽の洗浄ができる。また、製
品の純度を確実に回復させることができる。
汚れと接触させることによって、汚れが容易に剥離し溶
解するため、効率良く電解槽の洗浄ができる。また、製
品の純度を確実に回復させることができる。
実施例１
化学薬品工場、水素原料製造用の並列式水電解槽３基に
ついて化学洗浄を行った。この電解槽は、陽陰極板とし
てニッケルメッキした鋼材、隔膜として石綿布を使用し
ておシ、電解質として苛性カリを３０％Ｗ／Ｖ添加して
、水を電解するものである。電解槽の極板は運転開始５
年では（・丁全面にわたシ腐食しており、付着物もｔｌ
は８０％が酸化鉄、酸化ニッケルを主体とした極板の腐
食生成物であった。電解ｉａ基とも洗浄前のガス純度が
９６〜９７％以下と低く、水洗を行っても純度が低下す
るため、装置の運転を停止していた。
ついて化学洗浄を行った。この電解槽は、陽陰極板とし
てニッケルメッキした鋼材、隔膜として石綿布を使用し
ておシ、電解質として苛性カリを３０％Ｗ／Ｖ添加して
、水を電解するものである。電解槽の極板は運転開始５
年では（・丁全面にわたシ腐食しており、付着物もｔｌ
は８０％が酸化鉄、酸化ニッケルを主体とした極板の腐
食生成物であった。電解ｉａ基とも洗浄前のガス純度が
９６〜９７％以下と低く、水洗を行っても純度が低下す
るため、装置の運転を停止していた。
この電解槽において前述の方法に従って２５％塩酸で４
時間循環、洗浄した後、２０時間の水洗を行った。その
結果、ガス純度が９８〜９９％以上に回復し、長期にお
いても純度の低下は認められず、電流負荷を下げること
なく運転することが可能となった。
時間循環、洗浄した後、２０時間の水洗を行った。その
結果、ガス純度が９８〜９９％以上に回復し、長期にお
いても純度の低下は認められず、電流負荷を下げること
なく運転することが可能となった。
実施例２
９年間運転した水電解槽を分解し、その石綿布からなる
隔膜を切片とし、これを洗浄薬剤溶液に３時間浸漬した
。溶液中に溶出した全鉄濃度紘次表のとおシであった。
隔膜を切片とし、これを洗浄薬剤溶液に３時間浸漬した
。溶液中に溶出した全鉄濃度紘次表のとおシであった。
注）界面活性剤はポリオキシエチレンノニルフェニール
エーテル
エーテル
図は本発明の説明図である。
１・・・９． Ｍ槽 ２・・・仮設タンク特許出願人
花王石鹸株式会社 外１名
花王石鹸株式会社 外１名
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 電Ｗｌ槽内に洗浄薬剤溶液を注入して該槽内の汚れ
と接触させた後、洗浄に供した洗浄薬剤溶液を排出する
電解槽の洗浄方法。 ２ 電解槽は隔膜式のものである特許請求の範囲第１項
記載の洗浄方法。 ３、洗浄薬剤溶液は酸液である特許請求の範囲第１項又
は第２項記載の洗浄方法。 ４、 排出した洗浄薬剤溶液は循環使用される特許請求
の範囲第１項乃至第３項のいずれかに記載の洗浄方法。 ５、 酸および界面活性剤を含む電解槽用洗浄薬剤。 ６、 酸は塩酸、シュウ酸、クエン酸、エリソルビン酸
からなる群から選ばれる１種凍たは２種以上のものであ
るｌ（￥ｎＴ請求の範囲第５項記載の電解槽用洗浄薬剤
。 ７、界面活性剤はポリオキシエチレンノニルフエニール
エーデルであるＩｔ！ｊ許請求の範囲＠５項または第６
項記載のフル解槽用洗浄薬剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18591083A JPS6077985A (ja) | 1983-10-06 | 1983-10-06 | 電解槽の洗浄方法および洗浄薬剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18591083A JPS6077985A (ja) | 1983-10-06 | 1983-10-06 | 電解槽の洗浄方法および洗浄薬剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6077985A true JPS6077985A (ja) | 1985-05-02 |
Family
ID=16179015
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18591083A Pending JPS6077985A (ja) | 1983-10-06 | 1983-10-06 | 電解槽の洗浄方法および洗浄薬剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6077985A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0694632A1 (en) * | 1994-07-28 | 1996-01-31 | OxyTech Systems, Inc. | Electrolysis cell diaphragm reclamation |
| US5755951A (en) * | 1995-05-31 | 1998-05-26 | Basf Aktiengesellschaft | Regeneration of plastic diaphragm |
| JP2004538360A (ja) * | 2000-04-13 | 2004-12-24 | エラン・フアルマ・インターナシヨナル・リミテツド | 改善された電解槽 |
| JP2009242897A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Nippon Paper Industries Co Ltd | 多硫化物の製造に用いる電解槽の性能回復方法及び多硫化物の製造方法 |
| KR102146297B1 (ko) * | 2020-04-09 | 2020-08-20 | 주식회사 태현이엔지 | 정밀도 향상을 위한 차아염소산나트륨 발생 장치 및 하이브리드 차아염소산나트륨 발생 시스템 |
| CN111910189A (zh) * | 2020-07-14 | 2020-11-10 | 广东省稀有金属研究所 | 一种贵金属氧化物电极表面污物的去除方法 |
-
1983
- 1983-10-06 JP JP18591083A patent/JPS6077985A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0694632A1 (en) * | 1994-07-28 | 1996-01-31 | OxyTech Systems, Inc. | Electrolysis cell diaphragm reclamation |
| US5755951A (en) * | 1995-05-31 | 1998-05-26 | Basf Aktiengesellschaft | Regeneration of plastic diaphragm |
| JP2004538360A (ja) * | 2000-04-13 | 2004-12-24 | エラン・フアルマ・インターナシヨナル・リミテツド | 改善された電解槽 |
| JP2009242897A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Nippon Paper Industries Co Ltd | 多硫化物の製造に用いる電解槽の性能回復方法及び多硫化物の製造方法 |
| KR102146297B1 (ko) * | 2020-04-09 | 2020-08-20 | 주식회사 태현이엔지 | 정밀도 향상을 위한 차아염소산나트륨 발생 장치 및 하이브리드 차아염소산나트륨 발생 시스템 |
| CN111910189A (zh) * | 2020-07-14 | 2020-11-10 | 广东省稀有金属研究所 | 一种贵金属氧化物电极表面污物的去除方法 |
| CN111910189B (zh) * | 2020-07-14 | 2021-12-17 | 广东省科学院稀有金属研究所 | 一种贵金属氧化物电极表面污物的去除方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100663116B1 (ko) | 세정제의 제조방법 | |
| US3819504A (en) | Method of maintaining cathodes of an electrolytic cell free of deposits | |
| JPS6077985A (ja) | 電解槽の洗浄方法および洗浄薬剤 | |
| JP4462513B2 (ja) | 電解水の製造方法、洗浄水、及び洗浄方法 | |
| US9165801B2 (en) | Partial solution replacement in recyclable persulfuric acid cleaning systems | |
| KR101267201B1 (ko) | 도금 배수로부터의 귀금속 이온 회수 방법 | |
| US3915817A (en) | Method of maintaining cathodes of an electrolytic cell free of deposits | |
| US3467586A (en) | Rejuvenation of diaphragms for chlor-alkali cells | |
| KR19990062970A (ko) | 막과 산소환원 음극을 지닌 전해전지의 차단 방법 | |
| US3485730A (en) | On-off operation of chlor-alkali diaphragm cells | |
| JP6236392B2 (ja) | 多硫化物製造用電解槽による連続電解方法及びそれを実施する電解装置 | |
| CN210341086U (zh) | 一种具有储垢功能的次氯酸钠发生器电解槽 | |
| JPH07116664A (ja) | 電解式殺菌洗浄装置 | |
| CN212174470U (zh) | 一种钨渣无害化回收利用装置 | |
| JP2009005747A (ja) | 洗浄装置 | |
| JP3813080B2 (ja) | 洗浄水生成装置 | |
| US5755951A (en) | Regeneration of plastic diaphragm | |
| CN2523767Y (zh) | 一种次氯酸钠发生装置 | |
| CN113373460B (zh) | 一种电解水制备臭氧同时在线维护阴极的方法 | |
| CN117867606A (zh) | 电解铜箔用阳极板寿命延长工艺 | |
| JPH08182988A (ja) | 電解水生成装置およびその洗浄方法 | |
| CN216663241U (zh) | 一种电解水制备臭氧的发生器 | |
| JPS622036B2 (ja) | ||
| CN114197005B (zh) | 一种电解水制氢气体扩散阳极板及其电镀铂金方法 | |
| US4204937A (en) | Novel electrolytic amalgam denuder apparatus |