JPS6076020A - 磁気デイスク媒体の表面潤滑処理装置 - Google Patents

磁気デイスク媒体の表面潤滑処理装置

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JPS6076020A
JPS6076020A JP58184148A JP18414883A JPS6076020A JP S6076020 A JPS6076020 A JP S6076020A JP 58184148 A JP58184148 A JP 58184148A JP 18414883 A JP18414883 A JP 18414883A JP S6076020 A JPS6076020 A JP S6076020A
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JP
Japan
Prior art keywords
magnetic disk
disk medium
medium
lubricant
attachment
Prior art date
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Pending
Application number
JP58184148A
Other languages
English (en)
Inventor
Takeo Hinobayashi
日野林 武夫
Shigetomo Sawada
沢田 茂友
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
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Publication of JPS6076020A publication Critical patent/JPS6076020A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (al 発明の技術分野 本発明は磁気ディスク媒体の表面潤滑処理装置に係り、
特に多数枚の磁気ディスク媒体の表面潤滑処理を連続し
て効率よく施す潤滑処理装置に関するものである。
山) 技術の背景 近年、磁気ディスク装置の高記録密度化に伴って磁気デ
ィスク媒体の磁性膜の薄膜化、及び磁気ヘッドの低浮上
化等が進められている。この磁気ヘッドの低浮上化、更
には停止時は磁気−\ソドを磁気ディスク媒体表面上に
接触させた状態にしておき、該磁気ディスク媒体の回転
速度が上昇するに従って磁気ヘッドを浮上させるように
した、所謂CS S (Contact 5tart 
5top)方式等が広く通用されるにつれて、回転起動
・停止時の磁気へ・ノドと磁気ディスク媒体表面とに接
触摺動による摩耗、損傷等のへ7ドクラソシユが発生し
易くなり、これを防止する為、予め磁気ディスク媒体の
表面に潤滑剤を塗布するか、或いは潤滑膜を被覆するな
どの特別な表面処理を施すことが一般に行われている。
fc) 従来技術と問題点 ところで上記した磁気ディスク媒体表面に、潤滑剤を塗
布する従来の方法としては、例えばキシレンなどの溶剤
で適当に熔解・希釈したステアリン酸、又はパルミチン
酸等からなる潤滑剤を磁気ディスク媒体の表面に、スピ
ンコード法、或&)&よスプレー法等によって塗布する
か、又はステアリン酸等の潤滑剤を加熱した磁気ディス
ク媒体面に溶融塗布した後、該潤滑塗布面の余剰の潤滑
剤をスキージ(Squeegee)等によって除去して
均一な薄い所定膜厚の潤滑膜を形成している。
しかしながらこのような潤滑処理は、従来、磁気ディス
ク媒体の表面に潤滑剤を塗布する工程から、該潤滑塗布
面の余剰の潤滑剤を、スキージ(Squeegee)等
によって除去して所定膜厚の潤滑膜を形成する工程に到
る全工程を1台の装置によって処理している為、効率が
悪く、量産性に欠けると共に、コスト高となる欠点があ
った。
(d) 発明の目的 本発明は上記従来の欠点に鑑み、1台の装置内に潤滑処
理に係る各工程別の機能部を工程順に設け、工程順に設
けた各工程別の機能部に磁気ディスク媒体を順次送り込
んで流れ工程により効率良く潤滑処理を行うことを可能
とした新規な磁気ディスク媒体の表面潤滑処理装置を提
供することを目的とするものである。
(Ill) 発明の構成 そしてこの目的は本発明によれば、磁気ディスク媒体の
表面に潤滑剤を溶融して回転塗布する装置であって、被
処理磁気ディスク媒体を回転駆動機構に取り付け、取り
外す第1の着脱部と、回転駆動機構に取り付けた被処理
磁気ディスク媒体の表面を加熱する加熱手段及び潤滑剤
塗布手段とを備えた第1の処理部と、回転駆動機構に取
り付けた被処理磁気ディスク媒体を加熱する加熱手段と
潤滑剤塗布手段及び該媒体表面に塗布した潤滑剤の余剰
分を拭き取る手段とを備えた第2の処理部と、前記被処
理磁気ディスク媒体とは別の被処理磁気ディスク媒体を
回転駆動機構に取り付け、取り外す第2の着脱部とを所
定の順序で配備し、被処理磁気ディスク媒体を装着した
少なくとも2連の回転駆動機構を上記第1の着脱部より
第2の着脱部方向へ、又は第2の着脱部より第1の着脱
部方向へ順次移動して前記磁気ディスク媒体の表面に潤
滑処理を施すようにしたことを特徴とする磁気ディスク
媒体の表面潤滑処理装置を提供することによって達成さ
れる。
(f) 発明の実施例 以下図面を用いて本発明の実施例について詳細に説明す
る。
第1図は本発明に係る磁気ディスク媒体の表面潤滑処理
装置の一実施例を概念的に示す平面図である。図におい
て、1及び4は潤滑処理すべき磁気ディスク媒体、又は
潤滑処理済みの磁気ディスク媒体を回転駆動機構5又は
6に着脱する第1及び第2のディスク着脱部、2は回転
駆動機構5又は6に装着された磁気ディスク媒体を、予
備加熱及び本加熱する電磁誘導加熱器等からなる加熱手
段8と潤滑剤塗布手段9とを備えた第1の処理部、そし
て3は回転駆動機構5又は6に装着され潤滑剤が塗布さ
れた磁気ディスク媒体を加熱する電磁誘導加熱器等から
なる加熱手段10と該媒体面に塗布された潤滑剤の余剰
分を拭き取る余剰潤滑剤除去手段11とを備えた第2の
処理部である。尚、上記余剰潤滑剤除去手段11として
は、例えば潤滑剤拭き取り用ペーパ12をペーパ繰り出
し部13より巻き取り部14へ、バンクテンションを付
加した状態で該巻き取り部14を回転駆動させて繰り出
し、その繰り出したペーパ12をゴムローラ15により
磁気ディスク媒体面に適当な押圧で押し付けることによ
り媒体面に塗布した潤滑剤の余剰分を拭き取る構成がと
られている。又、上記磁気ディスク媒体を回転駆動させ
る機構部5及び6は、共通の移動台7上に載置され、例
えば第1のディスク着脱部1と第1の処理部2の両部に
架けて配置した上記移動台7を図面に向かって右へ1ポ
ジシヨン移動させることにより、該移動台7上の前記回
転駆動機構5及び6は、第1の処理部2及び第2の処理
部3へ移動配置し得るようになっている。
しかして、このように構成された潤滑処理装置を用いて
磁気ディスク媒体の表面に潤滑剤を塗布処理するには、
例えば第2図の工程図によって示されるように、まず、
移動台7を第2の処理部3と第2のディスク着脱部4間
に配置し、該第2のディスク着脱部4に対応配置された
回転駆動機構6上に磁気ディスク媒体Aを配設する。次
に移動台7を第1のディスク着脱部1と第1の処理部2
間に移動して該第1のディスク着脱部1に対応配置され
た回転駆動機構5上に磁気ディスク媒体Bを配設する。
この時回転駆動機構6上に配設された磁気ディスク媒体
Aの表面には、第1の処理部2において電磁誘導加熱器
等からなる加熱手段8に才り予備加熱及び本加熱が行わ
れ、′a滑剤塗布手段9によってステアリン酸、ベヘン
酸等からなる潤滑剤が塗布される。次に移動台7を第1
の処理部2及び第2の処理部3間に移動することにより
、回転駆動機構6上の磁気ディスク媒体へ表面に塗布さ
れた潤滑剤の余剰分が、第2の処理部3において電磁誘
導加熱器等からなる加熱手段10により加熱されると共
に、前記余剰潤滑剤除去手段11によって拭き取られる
。一方、回転駆動機構5上の磁気ディスク媒体Bの表面
には、第1の処理部2において電磁誘導加熱器等からな
る加熱手段8により予備加熱及び本加熱が行われ、潤滑
剤塗布手段9によってステアリン酸、ベヘン酸等からな
る潤滑剤が塗布される。この後更に上記移動台7を第2
の処理部3と第2のディスク着脱部4間に移動すること
により、回転駆動機構5上の磁気ディスク媒体8表面に
塗布された潤滑剤の余剰分が、第2の処理部3において
電磁誘導加熱器等からなる加熱手段10により加熱され
ると共に、前記余剰潤滑剤除去手段11によって拭き取
られる。一方、回転駆動機構6上の磁気ディスク媒体A
は、第2のディスク着脱部4にて冷却され、潤滑処理完
成品として取り外されると共に、未処理の磁気ディスク
媒体Cが装着される。その後、上記ぎ動台7が第1のデ
ィスク着脱部1と第1の処理部2間に移動することによ
り、回転駆動機構5上の磁気ディスク媒体Bが第1のデ
ィスク着脱部lにて冷却されて潤滑処理完成品として取
り外されると共に、未処理の磁気ディスク媒体りが装着
される。
一方、回転駆動機構6上の磁気ディスク媒体C表面には
、第1の処理部2において電磁誘導加熱器等からなる加
熱手段8により加熱され、潤滑剤塗布手段9によってス
テアリン酸、ベヘン酸等からなる潤滑剤が塗布される。
以下上記の工程を繰り返すことによって多数枚の磁気デ
ィスク媒体の表面潤滑処理を効率良く連続して実施する
ことが出来る。
因に、上記連続潤滑処理工程においてディスク移動用移
動台7を90秒毎に各処理部に移動操作して、磁気ディ
スク媒体の表面潤滑処理を実施した場合、磁気ディスク
媒体1孜当たりの処理時間(ディスクの移動時間は含ま
ない)は、135秒となり、従来の装置による磁気ディ
スク媒体1孜当たりの処理時間240秒と比較して約3
15倍に短縮され、又、時間当たりの潤滑処理枚数は、
従来装置による15枚/hrに対して、本装置を用いる
ことにより26枚/hr強と大幅にスピードアップされ
、工程コストを著しく低減することが可能となる。
尚、上記した実施例では、工程順に設けた各工程別の処
理機能部に対して、磁気ディスク媒体を装着した2基の
回転駆動機構が載置された移動台を移動往復させて、磁
気ディスク媒体の表面に潤滑処理を施す構成例について
説明したが、本発明はこの例に限定されるものではなく
、例えば長尺の移動台上に回転駆動機構を多数載置し、
これら各回転駆動機構に磁気ディスク媒体を順次配設す
ると共に、工程順に設けた各工程別の処理機能部に順に
移動させて連続的に潤滑処理を施す構成としてもよい。
その他、磁気ディスク媒体を加熱する加熱手段としては
、磁気誘導加熱に限らず、例えば赤外線ヒータ等を用い
るようにしてもよい。
又潤滑剤の塗布は、第1の処理部に限らず、第2の処理
部において実施するようにしてもよく、図面に示した実
施例に限定されることなく、その要旨を変更しない範囲
で種々変形して実施できることは勿論である。
(gl 発明の効果 以上の説明から明らかなように、本発明に係る磁気ディ
スク媒体の表面潤滑処理装置によれば、潤滑処理時間が
大幅に短縮化されると共に、連続的に大量処理が可能と
なる優れた利点を有し、実用上の効果は頗る大きい。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る磁気ディスク媒体の表面潤滑処理
装置の一実施例を概念的に示す平面図、第2図は本発明
に係る表面潤滑処理装置によって磁気ディスク媒体に潤
滑処理を施す工程を説明するための図である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (11磁気ディスク媒体の表面に潤滑剤を溶融して回転
    塗布する装置であって、被処理磁気ディスク媒体を回転
    駆動機構に取り付け、取り外す第1の着脱部と、回転駆
    動機構に取り付けた被処理磁気ディスク媒体の表面を加
    熱する加熱手段及び潤滑剤塗布手段とを備えた第1の処
    理部と、回転駆動機構に取り付けた被処理磁気ディスク
    媒体を加熱する加熱手段と潤滑剤塗布手段及び該媒体表
    面に塗布した潤滑剤の余剰分を拭き取る手段とを備えた
    第2の処理部と、前記被処理磁気ディスク媒体とは別の
    被処理磁気ディスク媒体を回転駆動機構に取り付け、取
    り外す第2の着脱部とを所定の順序で配備し、被処理磁
    気ディスク媒体を装着した少なくとも2連の回転駆動機
    構を上記第1の着脱部より第2の着脱部方向へ、又は第
    2の着脱部より第1の着脱部方向へ順次移動して前記磁
    気ディスク媒体の表面に潤滑処理を施すようにしたこと
    を特徴とする磁気ディスク媒体の表面潤滑処理装置。 (2)上記加熱手段が磁気誘導加熱であることを特徴と
    する特許請求の範囲第(1)項に記載の磁気ディスク媒
    体の表面潤滑処理装置。
JP58184148A 1983-09-30 1983-09-30 磁気デイスク媒体の表面潤滑処理装置 Pending JPS6076020A (ja)

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JP58184148A JPS6076020A (ja) 1983-09-30 1983-09-30 磁気デイスク媒体の表面潤滑処理装置

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JPS6076020A true JPS6076020A (ja) 1985-04-30

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ID=16148203

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JP58184148A Pending JPS6076020A (ja) 1983-09-30 1983-09-30 磁気デイスク媒体の表面潤滑処理装置

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