JPS6075493A - シチジン誘導体の製造法 - Google Patents

シチジン誘導体の製造法

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JPS6075493A
JPS6075493A JP18531783A JP18531783A JPS6075493A JP S6075493 A JPS6075493 A JP S6075493A JP 18531783 A JP18531783 A JP 18531783A JP 18531783 A JP18531783 A JP 18531783A JP S6075493 A JPS6075493 A JP S6075493A
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JP
Japan
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acid
formula
compound
cytidine
reaction
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Pending
Application number
JP18531783A
Other languages
English (en)
Inventor
Sumiyasu Furukawa
古川 純康
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Takeda Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Takeda Chemical Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、シチジン銹導体の製造法に関する。
さらに詳しくは、本発明は、式 し式中、R1は炭素数3以上のカルボン酸由来アシル基
を示す〕で表わされる化合物と式0式中、Rは水素また
は保強されていてもよいアミノ基を、R、RおよびRは
カルボン酸由来アシ/L’基を示す〕で表わされる化合
物とをp〔式中の各記号は前記と同麓義〕で表わされる
化合物の製造法を提供するものである。
シチジンは、現在医薬として用いられているシチジン−
ニリン酸コリン(一般名シチコリン)の合成原料として
重要な化合物である。
従来、シチジンの合成法としては、シトシンとリボース
との縮合によるか、ウリジンなアミノ化する方法が知ら
れている。本発明者はイノシンおよびグアノシンが、イ
ノシン酸およびグアニ/I’dの合成原料として工業的
に入手容易なことを考慮して、シチジンの合成に利用す
ることを検討した。
その結果、イノシンおよびグアノシンのりボーヌ部分を
シトシンに転移させるシチジンの合成法を見出し、本発
明を完成した。従来、プリン塩基からピリミジン塩基へ
の糖転移反応は文献未載でおり、本発明はかかる新しい
糖転移反応をはじめて提供するものである。
上記式(I)および(Ill)におけるR1 としての
伏素数3以上のカルボン酸由来アシfi7基は、脂肪族
系・芳香族系および11f鎮状・分枝状のいずれでもよ
く、たとえばプロピオニル、ブチリル、イソブチリル、
ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、パルミトイ
!、ベンゾイルなどが挙げられ、伏素数4〜16とりわ
けp#累数6〜10のアルカノイル 前記式(II)およびnu)におけるR”、R’および
R5 としての力〃ボン酸由来アVivmとしては、伏
素数2〜6程度のアルカノイルンゾイルが好ましく、と
9わけアセチ/L/またはベンゾイルが好ましい。
式(II)における′R.2 としてのアミノ基は保穫
式れていてもよく、保rIk基としては力μボン酸出来
アシμ基とシわけ次索数6までのアルカノイル(アセチ
ル、プロピオニル、イソブチリp,ヘキサノイμなど)
およびベンゾイルが好ましい。
化合物(I)と化合物(II)との反応は、ルイス酸の
存在下、溶媒中で行われる。通常(■)1七pに対して
(1)を1.2−2モp使うのが有利である。ルイス酸
としては、四塩化スズ、四塩化チタン、五塩化アンチモ
ン、塩化アルミニウム。
塩化第二鉄,塩化亜鉛,四塩化ジルコニウム等の金属ハ
ロゲン化物.p−ト/L/エンヌμホン酸,トリフルオ
ロメタンスルホン酸,トリフルレオ四メタンスμホン酸
ートリメチルシリルエステ/L’等のスルホン酸誘導体
が好ましく、これらは(■)1七μに対して1.2−2
モル使うのが有利である。
溶媒としては、1.2−ジクロロエタン、塩化メチレン
、クロロホルム、四塩化宍素,1.2−ジクロロプロパ
ン、1,1.2.2−テトラクロロエタン等のハロゲン
化炭化水素類,アセトニトリ/S/ウジオキサン、テト
ラヒドロフラン、ベンゼン。
クロロベンゼン等の非プロトン性溶媒が好ましい。
反応条件は50−100℃、5−24時間程度が好まし
い。
反応液から目的物を単離するには、中和,溶媒抽出,ク
ロマトグラフィー等、通常の手段により行われるが、こ
こで得られる(Ill)は中間体であるため、必ずしも
精製する必要はなく、公知の手段(アルカリ処理)によ
りシチジンに導き、しかる後に混入するイノシンやグア
ノシンを分離しても良い。分離手段としては、塩基性の
イオン交換樹脂(OH型)を通過させることによシイノ
シンやグアノシンを選択的に吸着させる方法が有利であ
る。
以下に、本発明を実施例および参考例により式らに具体
的に説明するが、これらは本発明の範囲はいずれも文献
未載の新規化合物である。
実施例I N4 −ペンシイμシトシン430qとグ,3′。
5′−トリー〇−ベンゾイルイノシン5804トヲ1.
2−ジクロロエタン20mlKlfm濁させ、四塩化ス
ズ0.2alを加えて6時間還流させた。反応液にクロ
ロホルム30m1と10%惠W水50#ltを加えて振
り、沈殿をろ去した。クロロホルム層を水洗後、減圧乾
固し、残渣をシリカゲ/I/3011を用いるクロマト
に付し、クロロホルムで溶出した。
目的物の分画を集めて賦圧乾固し、残渣を酢酸エチル−
エタノ−/I/(6: 4 )から再結して、N。
2’、3’、5’−テトラベンゾイルシチジンの無色針
状結晶25(1’を得た。融点210−2+2°C夾施
例2 H4−イソグチリルシトシン3629.!= 2’、3
’。
5′−トリー〇−ベンゾイルイノシン580Wfとをジ
クロロメタン20m1に懸濁し、五塩化アンチモン0.
2alを加えて8時間還流させた。反応液を実施例1に
準じて処理し、H4−イソブチリル−2’、 3’、 
5’−)ソー0−ベンゾイルシチジンの無色針状結晶1
00Mk/を得た。融点181−183℃実施例3 N −オクタノイルシトシン4.741と2゜3.5−
)ソー0−アセチμイノシン3.94fとを1.2−ジ
クロロエタン200m1に懸濁させ、四塩化スズ2tx
tを加えて20時間還流させた。反応液を実施例1に準
じて処理し、N −オクタノイル−2、3’、 5−ト
リー〇−アセチルシチジンの無色針状結晶3.2yを得
た。
融点139−140°C 実施例4 H4−オクタノイルシトシン474qと2′、3′。
5′−トリー〇−アセチpグアノシン409”fとを1
.2−ジクロロエタン20titK懸濁させ、トリフル
オロメタンスルホン酸−トリメチ/レンリμエステル4
44qを加えて6時間還流させた。反応液を実施例1に
準じて処理し、H4−オクタノイ/L’−2’、 3’
、 5’−)ジ−0−アセチルシチジンの淡黄色針状結
晶170ダを得た。
融点139−140°C 夾箆例5 H4−バルミトイルシトシン7001’jlトH2,2
’。
3’ 、 5’−テトラベンゾイルグアノシン700’
Wとを1.2−ジクロロプロパン20m1に懸濁はせ、
四塩化チタン0.2alを加えて14時間還流させた。
反応液を実施例1に準じて処理し、H4−パルミトイ/
I’−2’、 3’、 5’−トリーQ −ヘン/ イ
A/シチジンの無色アメ状物質140呼を得た。
元素分析値: C46H55N309 としてC(%)
 H(%) N(%) 計算値: 69.59 6.98 5.29実測値: 
69.40 6.77 5.08実施例6 H4−ヘキサノイルシトシン4.18fと2′。
3’、5’−トリー〇−アセチμイノシン3.941と
を1.2−ジクロロエタン200g/に懸濁させ、四塩
化スズ2mlを加えて6時間還流させた。反応液に10
%重曹水100*tを加えてかきまぜ、沈殿をろ去、ジ
クロロエタン層を水洗後減圧乾固した。残渣をエタノ−
IL’40dに溶かし、濃アンモニア水20g/を加え
て室温で15時間放置した。
反応液を減圧乾固後、残渣を0.01Nアンモニア水2
0口titlに溶かし、ダウエックヌ−1(商品名、ダ
ウ・ケミカル社製品)(OH型>50wt0カラムに通
し、水洗した。通過液と水洗液を合して減圧乾固し、残
渣を90%エタノールから再結晶してシチジンの無色針
状結晶1.1gを得た。
融点220−222°C 実施例7 H4−デカノイルシトシン510〜と2′、3′。
5′−トリー〇−ベンゾイルイノシン580qとを1.
2−ジクロロエタン20txlに懸濁させ、四塩化スズ
0.2alを加えて10時間還流させた。反応液を実施
例1に準じて処理し、H4−デカ742m2’、3’、
5’−トリー〇−ペンシイpシチジンの無色油状物3γ
0IIIvを得た。
元素分析値” 40 H43N309 としてC(%)
 H(%) N(%)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 式 〔式中、R1は炭素数3以上の力pポン酸由来アVル基
    を示す〕で表わされる化合物と式〔式中、R2は水素ま
    たは保護されていてもよいアミノ基を、R3,R4およ
    びR5はカーボン酸由来アシ/L’基を示す〕で表わさ
    れる化合物とをルイス酸の存在丁に反応させることを特
    徴とする式C式中の各記号は前記と同意義〕で表わされ
    る化金物の製造法。
JP18531783A 1983-10-03 1983-10-03 シチジン誘導体の製造法 Pending JPS6075493A (ja)

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