JPH02124897A - エリスロフラノシルヌクレオシド誘導体の製造法及び新規誘導体 - Google Patents
エリスロフラノシルヌクレオシド誘導体の製造法及び新規誘導体Info
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は抗ウィルス薬などとして期待される工1)スロ
フラノシルヌオレオシト誘4 体の新規合成法に関する
ものである。
フラノシルヌオレオシト誘4 体の新規合成法に関する
ものである。
スレオフラノシルヌクレオシドには、例えば2−チオキ
ン−2−C−ヒドロキシメチル−Dスレオフラノシルア
デニン誘導体〔ジャーナル・オプ・ジ・アメリカン・ケ
ミカル・ンサイエテイ(Journal of the
American Chemical 5ociet
y)90巻、14号、3852−3857(1968)
)が知られており、その製造法が開示されているが、エ
リスロフラノシルヌクレオシド誘導体の製造法は従来全
く知られていない。
ン−2−C−ヒドロキシメチル−Dスレオフラノシルア
デニン誘導体〔ジャーナル・オプ・ジ・アメリカン・ケ
ミカル・ンサイエテイ(Journal of the
American Chemical 5ociet
y)90巻、14号、3852−3857(1968)
)が知られており、その製造法が開示されているが、エ
リスロフラノシルヌクレオシド誘導体の製造法は従来全
く知られていない。
従来の分枝糖ヌクレオシド誘導体の合成法は多段階であ
り困難であったため、その簡便な製造法が求められてい
る。
り困難であったため、その簡便な製造法が求められてい
る。
本発明者らは挿々研究の結果、−形式(1)のオキセタ
ン環化合物にルイス酸を作用させると5員環の糖化合物
が生成することを見い出し本発明を完成した。
ン環化合物にルイス酸を作用させると5員環の糖化合物
が生成することを見い出し本発明を完成した。
より詳しくは第1の発明は一般式
(式中、R1及びR2は同一もしくは相異なってもよい
保護基を示す。Yは塩基を示す。)で示される保護オキ
セタン環化合物にルイス酸を作用させ、必要に応じ保護
基を除去することを特徴とする 一般式 (式中、R1およびR’2は水素又は同−又は異なって
もよい保護基を示す。Yは前記と同じ)工)スロフラノ
シルヌクレオシド誘導体の製造法に関するものであり、
第2発明は、−形式(式中、R+及びR2は同一もしく
は相異なってもよい保護基を示す。Yは塩基を示す。)
で示される保護オキセタン環化合物にルイス酸を、官能
基を保護したヌクレオシドに含まれる塩基成分の共存下
に、作用させ、必要に応じて保護基を除去することを特
徴とする下記−形式(式中、人はヌクレオシドに含まれ
る塩基、R’+及びR’2は水素原子又は同−又は異な
ってもよい保護基を示す。) で表わされるエリスロフラノシルヌクレオシド誘導体の
製造法及び下記−形式 (式中、A′はアデニン塩基又はピリミジン塩導体及び
その塩に関するものである。
保護基を示す。Yは塩基を示す。)で示される保護オキ
セタン環化合物にルイス酸を作用させ、必要に応じ保護
基を除去することを特徴とする 一般式 (式中、R1およびR’2は水素又は同−又は異なって
もよい保護基を示す。Yは前記と同じ)工)スロフラノ
シルヌクレオシド誘導体の製造法に関するものであり、
第2発明は、−形式(式中、R+及びR2は同一もしく
は相異なってもよい保護基を示す。Yは塩基を示す。)
で示される保護オキセタン環化合物にルイス酸を、官能
基を保護したヌクレオシドに含まれる塩基成分の共存下
に、作用させ、必要に応じて保護基を除去することを特
徴とする下記−形式(式中、人はヌクレオシドに含まれ
る塩基、R’+及びR’2は水素原子又は同−又は異な
ってもよい保護基を示す。) で表わされるエリスロフラノシルヌクレオシド誘導体の
製造法及び下記−形式 (式中、A′はアデニン塩基又はピリミジン塩導体及び
その塩に関するものである。
本発明の一般式(1)の保護オキセタン環化合物にルイ
ス酸を作用させる反応は通常不活性な有機溶媒好ましく
は無水帛媒中で、通常約0°C〜約100℃、好ましく
は約10〜80℃の温度で行われる。
ス酸を作用させる反応は通常不活性な有機溶媒好ましく
は無水帛媒中で、通常約0°C〜約100℃、好ましく
は約10〜80℃の温度で行われる。
こ穿反応は窒素などの不活性ガス雰囲気下で行うのが好
ましい。
ましい。
無水の溶媒としては特に制限はないが、アセトニトリル
、ハロゲノアルカン(例えばジクロロエタン)、キシレ
ン、ニトロベンゼン、ジクロロベンゼンなどがあげられ
る。
、ハロゲノアルカン(例えばジクロロエタン)、キシレ
ン、ニトロベンゼン、ジクロロベンゼンなどがあげられ
る。
本発明で使用するルイス酸としては、例えば4ハロゲノ
スズ(4塩化スズ、4臭化スズなど)、ハロゲノ第−又
は第二水銀(好ましくは臭化第−又は第二水銀、ヨウ化
第−又は第二水銀など)、トリ低級アルキル(C1〜C
4)シリルの酸結合体(例えばトリメチルシリルトリフ
ルオロメタンスルホネートなどのトリメチルシリルハロ
ゲノメタンスルホネート、トリメチルシリル過塩素酸な
どのトリメチルシリル過ハロゲノ酸)、スルホン酸系樹
脂、例えばダウエックス(])oweX(Pj)50(
M))などがあげられる。
スズ(4塩化スズ、4臭化スズなど)、ハロゲノ第−又
は第二水銀(好ましくは臭化第−又は第二水銀、ヨウ化
第−又は第二水銀など)、トリ低級アルキル(C1〜C
4)シリルの酸結合体(例えばトリメチルシリルトリフ
ルオロメタンスルホネートなどのトリメチルシリルハロ
ゲノメタンスルホネート、トリメチルシリル過塩素酸な
どのトリメチルシリル過ハロゲノ酸)、スルホン酸系樹
脂、例えばダウエックス(])oweX(Pj)50(
M))などがあげられる。
次に一般式(1)の保護オキセタン環化合物におけるY
の塩基としては特に制限はな(,1例としてはプリン塩
基(官能基があるときは必要に応じて保護)例えばアミ
ノ基の保護されたアデニン及び2−アミノアデニン、ヒ
ボキサンチンなどがあげられる。この場合のアミノ基の
保護としては一般に使用されるものがいずれも使用でき
る。具体的にはアシル基(例えばアセチル、エチルカル
ボニル、ハロゲノアセチルなどの置換基を有してもよい
アルキルカルボニル好ましくはC1〜C4の低級アルキ
ルカルボニル、ベンゾイルなどの芳香族カルボニル)、
置換基を有してもよいアルキルオキシカルボニル基(側
光ばメトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニルな
どのCI〜C4の低級アルキルオキシカルボニル)があ
げられる。
の塩基としては特に制限はな(,1例としてはプリン塩
基(官能基があるときは必要に応じて保護)例えばアミ
ノ基の保護されたアデニン及び2−アミノアデニン、ヒ
ボキサンチンなどがあげられる。この場合のアミノ基の
保護としては一般に使用されるものがいずれも使用でき
る。具体的にはアシル基(例えばアセチル、エチルカル
ボニル、ハロゲノアセチルなどの置換基を有してもよい
アルキルカルボニル好ましくはC1〜C4の低級アルキ
ルカルボニル、ベンゾイルなどの芳香族カルボニル)、
置換基を有してもよいアルキルオキシカルボニル基(側
光ばメトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニルな
どのCI〜C4の低級アルキルオキシカルボニル)があ
げられる。
R1及びR2の保護基としては、通常ヒドロキシ基の保
護基として使用されるものはいずれも使用することがで
き、例えば、上記アミン基の保護基として例示したもの
の他に、更に置換基を有してもよい低級アルキル基〔例
えば、t−ブチル、ベンジル、置換ベンジル(置換基と
してはハロゲン原子、低級アルキルまたは低級アルコキ
シなど)〕があげられ、更に低級アルキルジカルボン酸
モノ低級アルキルエステルのエステル(例えばメチルシ
ュウ酸エステル)などとして保護することもできる。
護基として使用されるものはいずれも使用することがで
き、例えば、上記アミン基の保護基として例示したもの
の他に、更に置換基を有してもよい低級アルキル基〔例
えば、t−ブチル、ベンジル、置換ベンジル(置換基と
してはハロゲン原子、低級アルキルまたは低級アルコキ
シなど)〕があげられ、更に低級アルキルジカルボン酸
モノ低級アルキルエステルのエステル(例えばメチルシ
ュウ酸エステル)などとして保護することもできる。
一般式(])の化合物の例としては例えば、アミン基及
びヒドロキシ基が保護されたオキセタノンン具体的には
、N(6)−ベンゾイル〔(2R13R14,5) −
3,4−ビス(アセトキシメチル)−2−オキセタノン
ル〕アデニンなどがあケラれる。
びヒドロキシ基が保護されたオキセタノンン具体的には
、N(6)−ベンゾイル〔(2R13R14,5) −
3,4−ビス(アセトキシメチル)−2−オキセタノン
ル〕アデニンなどがあケラれる。
第2の発明において使用される官能基が保護されたヌク
レオシドに含まれる塩基成分としてはプリン塩基類の他
にピリミジン塩基類があげられ、例えばアミノ基やオキ
シ基が保護された2−オキシピリミジン類があげられ、
好ましくは下記−形式 〔式中、R3は保護基、R4は一〇−R6(R6は保護
基)または−N HR? (R?は保護基)、R5は水
素、ハロゲンまたは低級アルキル基を示す〕で表わされ
る官能基保護2−オキシピリミジン類があげられる。
レオシドに含まれる塩基成分としてはプリン塩基類の他
にピリミジン塩基類があげられ、例えばアミノ基やオキ
シ基が保護された2−オキシピリミジン類があげられ、
好ましくは下記−形式 〔式中、R3は保護基、R4は一〇−R6(R6は保護
基)または−N HR? (R?は保護基)、R5は水
素、ハロゲンまたは低級アルキル基を示す〕で表わされ
る官能基保護2−オキシピリミジン類があげられる。
R3およびR6の保護基としては了シル基、シリル保護
基(低級アルキルシリル、例えばトリメチルシリル、低
級アルキルアリールシリル、例えばイソプロピルジフェ
ニルシリル、t−ブチルジフェニルシリル、t−ブチル
ジメチルシリル)などがあげられる。
基(低級アルキルシリル、例えばトリメチルシリル、低
級アルキルアリールシリル、例えばイソプロピルジフェ
ニルシリル、t−ブチルジフェニルシリル、t−ブチル
ジメチルシリル)などがあげられる。
R7の保護基としてはアミノ基の保護に使用されるもの
は特に制限はなく、アシル基(例えばアセチル、エチル
カルボニル、ハロゲノアセチル等の置換または非置換の
低級アルキルカルボニル、ベンゾイルなどの芳香族カル
ボニルナトがあげられる。
は特に制限はなく、アシル基(例えばアセチル、エチル
カルボニル、ハロゲノアセチル等の置換または非置換の
低級アルキルカルボニル、ベンゾイルなどの芳香族カル
ボニルナトがあげられる。
具体的には、ビス(トリメチルシリル)チミン、ヒス(
トリメチルシリル)ウラシル、ビス() IJ メチル
シリル)−5−フルオロウラシル、ビス(トリメチルシ
リル)シトシン、ビス(トリメチルシリル)−5−ヨー
ドシトシン、ビス(トリメチルシリル−5−ブロモビニ
ルウラシル、ビス(トリメチルシリル)−N−アセチル
シトシンなどがあげられる。
トリメチルシリル)ウラシル、ビス() IJ メチル
シリル)−5−フルオロウラシル、ビス(トリメチルシ
リル)シトシン、ビス(トリメチルシリル)−5−ヨー
ドシトシン、ビス(トリメチルシリル−5−ブロモビニ
ルウラシル、ビス(トリメチルシリル)−N−アセチル
シトシンなどがあげられる。
一般式(Illのピリミジン塩基を有するエリスロフラ
ノシルヌクレオシド誘導体としてはで示される化合物が
あげられる。
ノシルヌクレオシド誘導体としてはで示される化合物が
あげられる。
一般式(IllのビIJ ミジン塩基およびプリン塩基
ヲ有スるエリスロフラノシルヌクレオシド誘導体は抗ウ
ィルス剤などの医薬に有用な化合物となることが期待さ
れる。
ヲ有スるエリスロフラノシルヌクレオシド誘導体は抗ウ
ィルス剤などの医薬に有用な化合物となることが期待さ
れる。
次に実施例を挙げて本発明の製造例を具体的に説明する
。
。
〔実施例1〕
化合物(1)の合成
(al (1)窒素気流中
で化合物(a) 100 rugの無水アセトニトリル
−無水ジクロロエタン(1:1)(3ml)溶液中に、
四塩化スズ(119■、53局)を加え25℃で85分
間撹拌する。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液C
2m1)を加えた後、クロロホルムで抽出する。クロロ
ホルム層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトIJ
ウムで乾燥する。減圧下、溶媒を留去して得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(60ml、ク
ロロホルム−メタノール=17:1)により分離し、化
合物(1)を16■を得る。
で化合物(a) 100 rugの無水アセトニトリル
−無水ジクロロエタン(1:1)(3ml)溶液中に、
四塩化スズ(119■、53局)を加え25℃で85分
間撹拌する。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液C
2m1)を加えた後、クロロホルムで抽出する。クロロ
ホルム層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトIJ
ウムで乾燥する。減圧下、溶媒を留去して得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(60ml、ク
ロロホルム−メタノール=17:1)により分離し、化
合物(1)を16■を得る。
化合物(i) : ’H−NMR(C’DCz3)δ2
.06 (3H,S)。
.06 (3H,S)。
2.10 (3H,s )、 3.27 (LH,m)
、 4.26−4.5 Q (4H,complex
)、 5.28 (IH,m)+6.28 (IH,
d、 J=3.26H2)、 7.48−7.66(
31七 complex )、 s、o 5 (2H
,d、 J=6.68Hz)、8.28(IH,s)
、8゜78(IH,S)。
、 4.26−4.5 Q (4H,complex
)、 5.28 (IH,m)+6.28 (IH,
d、 J=3.26H2)、 7.48−7.66(
31七 complex )、 s、o 5 (2H
,d、 J=6.68Hz)、8.28(IH,s)
、8゜78(IH,S)。
923(LH,S):
”CN M R(CD Cl3)δ20.76(Q+、
2 o、s 6(CI+。
2 o、s 6(CI+。
51.05(dL 61.86ft+、 73.6
9(tl、 75.11(di。
9(tl、 75.11(di。
87.03(d)、123.38(s)、127.88
(x2.d)。
(x2.d)。
128.90(x2.d)、132.86(d)、13
3.51(sl、 140.93(di、 149
.48(S)、 151.68(s)。
3.51(sl、 140.93(di、 149
.48(S)、 151.68(s)。
152.78(d)、 164.’56(s)、
170.19(s)。
170.19(s)。
170、59(s)。
〔実施例2〕
化合物(1)、(2)の合成
(a)
窒素気流中で化合物(a) 100■の無水アセトニト
リル−無水ジクロロエタン(1:1)(3ml)溶液中
に、ビス(トリメチルシリル)ウラシル876■、更に
四塩化スズ(400μp)を加え25°Cで20分間撹
拌する。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶H(2m
l )を加えた後、クロロホルムで抽出する。クロロホ
ルム層ヲ水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥する。減圧下、溶媒を留去して得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(60ml、クロロ
ホルム−メタノール−17:1)により分離し、化合物
(1)を32■、化合物(2)を26■得る。
リル−無水ジクロロエタン(1:1)(3ml)溶液中
に、ビス(トリメチルシリル)ウラシル876■、更に
四塩化スズ(400μp)を加え25°Cで20分間撹
拌する。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶H(2m
l )を加えた後、クロロホルムで抽出する。クロロホ
ルム層ヲ水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥する。減圧下、溶媒を留去して得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(60ml、クロロ
ホルム−メタノール−17:1)により分離し、化合物
(1)を32■、化合物(2)を26■得る。
化合物(2) : ’H−NMR(CDCz3)δ 2
.06 (3H,s )。
.06 (3H,s )。
2.11 (3H,S)、2.72(IH,m)、4.
24(2H,complex )、 4.31 (2H
,d、 J二6,23Hz)、 5.19(IH,
m)、 5.78(IH,d、 J=8.18
Hz )、5.93 (IH,d、J=2.93Hz)
。
24(2H,complex )、 4.31 (2H
,d、 J二6,23Hz)、 5.19(IH,
m)、 5.78(IH,d、 J=8.18
Hz )、5.93 (IH,d、J=2.93Hz)
。
7.49 (LH,d、J=8.18H2)、9.31
(LH。
(LH。
br、 s ) :
13C−NMR(CDCLz)δ20.65(CIl、
2 o、s 5((11゜51.50(di、 6
1.74(t)、 74.24(t)、 75.1
5(di。
2 o、s 5((11゜51.50(di、 6
1.74(t)、 74.24(t)、 75.1
5(di。
88.37(di、 101.94(dl、 13
9.16(dl、 150.31(s)、 163
.57(s)、 169.89(s)、 170.
55(s)。
9.16(dl、 150.31(s)、 163
.57(s)、 169.89(s)、 170.
55(s)。
なお、本実施例2で原料化合物として使用される化合物
(alは下記のようにして得ることができる。
(alは下記のようにして得ることができる。
原料化合物(a)の合成
(al
N (6)−ベンゾイルオキセタノシン30■の無
水アセトニトリル(20mAり溶液中にトリエチルアミ
ン(291μり、ジメチルアミノピリジン(30■)、
更に無水酢酸(180μp)を加え室温で30分間撹拌
する。減圧下、溶媒を留去し、残渣にメタノールC2m
1>を加え10分間撹拌し、更に濃アンモニア水を加え
直ちに減圧下室源で濃縮する。残渣に水C3rnl)を
加え酢酸エチルエステルで抽出し、少量の水、飽和食塩
水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。減圧下溶
媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにより分離し化合物(al (311mg、
収率84%)を得る。
ン(291μり、ジメチルアミノピリジン(30■)、
更に無水酢酸(180μp)を加え室温で30分間撹拌
する。減圧下、溶媒を留去し、残渣にメタノールC2m
1>を加え10分間撹拌し、更に濃アンモニア水を加え
直ちに減圧下室源で濃縮する。残渣に水C3rnl)を
加え酢酸エチルエステルで抽出し、少量の水、飽和食塩
水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。減圧下溶
媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにより分離し化合物(al (311mg、
収率84%)を得る。
化合物(al : ’H−NMR(CDC4a)δ2.
12 (3H,s )。
12 (3H,s )。
2.18(3H,s)、3.98(IH,m)、4.3
1−4.53 (4H,complex )、 4.8
4 (N−1,m)+6.56 (IH,d、 J=5
.94Hz )、 7.50−7.67(3[(、co
mplex )、 s、o 2−8.07 (2H,
complex)。
1−4.53 (4H,complex )、 4.8
4 (N−1,m)+6.56 (IH,d、 J=5
.94Hz )、 7.50−7.67(3[(、co
mplex )、 s、o 2−8.07 (2H,
complex)。
8.50 (IH,s )、 8.86 (IH,s
)、 9.07(lH,s)。
)、 9.07(lH,s)。
〔実施例3〕
化合物(3)の合成
化合物(2120mgノメタ/−ル(1ml )溶液に
濃アンモニア水(1ml)を加え60℃で1時間撹拌し
た後、減圧下溶媒を留去し、残渣を活性炭カラム(1,
4cmx l l (m)に積層し、水50m1テ洗浄
後、20%含水アセトン40m1,40%含水アセトン
60m1のj[に溶出し、化合物(3)9啄を得る。
濃アンモニア水(1ml)を加え60℃で1時間撹拌し
た後、減圧下溶媒を留去し、残渣を活性炭カラム(1,
4cmx l l (m)に積層し、水50m1テ洗浄
後、20%含水アセトン40m1,40%含水アセトン
60m1のj[に溶出し、化合物(3)9啄を得る。
化合物(3) : ’H−NMR(DMSO)δ2.2
5 (LH,m )。
5 (LH,m )。
3.53 (2H,complex)、 4.23 (
IHv m)+5.60 (IH,d、 J=6.89
Hz)、 5.88 (IH。
IHv m)+5.60 (IH,d、 J=6.89
Hz)、 5.88 (IH。
d、 J=3.18Hz )、 7.89 (LH,d
、 J=6.89Hz)。
、 J=6.89Hz)。
〔実施例4〕
化合物(4)の合成
化合物fl120■のナトリウムメトキサイド/メタノ
ール溶液(10ml)(ナトリウム231T1g、メタ
ノール10mA’)を室温で22時間撹拌する。
ール溶液(10ml)(ナトリウム231T1g、メタ
ノール10mA’)を室温で22時間撹拌する。
反応液を減圧下濃縮乾固して得られる残渣を活性炭カラ
ム(1,4cmx 12 cm)に積層し、水50m1
で洗浄後、20%含水アセト74Qml、40%含水ア
セトン70m1の順に溶出し化合物(4) 11mgを
得る。
ム(1,4cmx 12 cm)に積層し、水50m1
で洗浄後、20%含水アセト74Qml、40%含水ア
セトン70m1の順に溶出し化合物(4) 11mgを
得る。
化合物(4) : ’H−NMR(DMSO)δ2.7
5 (tH,m)。
5 (tH,m)。
3.59 (2H,complex )、 3.90−
4.06 (2H。
4.06 (2H。
corr+plez ) + 4.26 (I H1’
Q ) + 6.06 (I H+ d+J=4.7
7Hz )、 7.26 (3H+ complex
)。
Q ) + 6.06 (I H+ d+J=4.7
7Hz )、 7.26 (3H+ complex
)。
7.85−7.90 (2H,complex )、
8.19 (LH。
8.19 (LH。
S)。
8.40(IH。
S)。
実施例5
化合物(5)の合成
窒素気流中で化合物(at 50 mgの無水アセトニ
ド+’hリル(1ml)溶液中に、ビス(トリメチルシ
リル)チミ7126■の無水1.2−ジクロロエタン(
1ml)溶液さらに四塩化スズ(14μt)を加え60
°Cで6時間撹拌する。水冷下、反応液にメタノール(
1ml)を加えた後、減圧上溶媒を留去し、無色のシロ
ップを得ろ。
ド+’hリル(1ml)溶液中に、ビス(トリメチルシ
リル)チミ7126■の無水1.2−ジクロロエタン(
1ml)溶液さらに四塩化スズ(14μt)を加え60
°Cで6時間撹拌する。水冷下、反応液にメタノール(
1ml)を加えた後、減圧上溶媒を留去し、無色のシロ
ップを得ろ。
このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(30
ml、クロロホルム−メタノール−30=1)により分
離する。シリカゲルTLC〔展開溶媒;クロロホルム−
メタノール=10:1)でRfo、43付近のフラクシ
ョンを集め減圧上溶媒を留去し無色シロ7プ(10■)
を得る。
ml、クロロホルム−メタノール−30=1)により分
離する。シリカゲルTLC〔展開溶媒;クロロホルム−
メタノール=10:1)でRfo、43付近のフラクシ
ョンを集め減圧上溶媒を留去し無色シロ7プ(10■)
を得る。
このもののメタノール(1ml )溶液に濃アンモニア
水(1ml )を加え60’Cで1時間撹拌した後、減
圧上溶媒を留去し、残渣をメタノール(2ml)に溶か
しシリカゲル(30mg )を加え減圧上溶媒を留去す
る。このものをクロロホルム−メタノール(8:1)で
平衡化したシリカゲルカラム(10ml)に積層し、ク
ロロホルムメタノール(8:1,4:l)で溶出する。
水(1ml )を加え60’Cで1時間撹拌した後、減
圧上溶媒を留去し、残渣をメタノール(2ml)に溶か
しシリカゲル(30mg )を加え減圧上溶媒を留去す
る。このものをクロロホルム−メタノール(8:1)で
平衡化したシリカゲルカラム(10ml)に積層し、ク
ロロホルムメタノール(8:1,4:l)で溶出する。
シリカゲルTLC(I開溶媒;クロロホルム−メタノー
ル(3:1))でRfo、47付近のフラクションを集
め減圧上溶媒を留去し化合物(S)の無色粉末(1,5
■)を得る。
ル(3:1))でRfo、47付近のフラクションを集
め減圧上溶媒を留去し化合物(S)の無色粉末(1,5
■)を得る。
化合物(11: NMR(400MHz、 DzO)p
pm ニア、66 (IH,s )、 5.86 (L
H,d、 J=3.6Hz)4.37 (I H,m)
4.05〜4.11(2H,m)、 3.6
5〜3.74 (2H,m)、 2.45(11−(、
m) 、 1.85(3H,s)なお本実施例で
原料化合物として使用される化合物(atは下記のよう
にして得ることができる。
pm ニア、66 (IH,s )、 5.86 (L
H,d、 J=3.6Hz)4.37 (I H,m)
4.05〜4.11(2H,m)、 3.6
5〜3.74 (2H,m)、 2.45(11−(、
m) 、 1.85(3H,s)なお本実施例で
原料化合物として使用される化合物(atは下記のよう
にして得ることができる。
原料化合物ta+の合成
(a)
N(6)−ベンゾイルオキセタノシン4001Tgの無
水アセトニトリル(60,ml)溶液中にトリエチルア
ミン(0,35ml )、ジメチルアミノピリジン(3
,5mg)さらに無水酢酸(o、24m1)を加え室温
で20時間撹拌する。減圧下、溶媒を留去し、残渣にメ
タノール(8ml)を加え不溶物を炉去し、炉液を減圧
下濃縮乾固し黄色のシロップを得る。このものをシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(80ml、クロロホル
ム−メタノール=50:1)により分離する。シリカゲ
ルTLC[: 展開溶媒;クロロホルム−メタノール1
0:1)でRfO,53付近のフラクションを集め、減
圧上溶媒を留去し化合物(5)の無色粉末(480+1
!g、収率97%)を得る。
水アセトニトリル(60,ml)溶液中にトリエチルア
ミン(0,35ml )、ジメチルアミノピリジン(3
,5mg)さらに無水酢酸(o、24m1)を加え室温
で20時間撹拌する。減圧下、溶媒を留去し、残渣にメ
タノール(8ml)を加え不溶物を炉去し、炉液を減圧
下濃縮乾固し黄色のシロップを得る。このものをシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(80ml、クロロホル
ム−メタノール=50:1)により分離する。シリカゲ
ルTLC[: 展開溶媒;クロロホルム−メタノール1
0:1)でRfO,53付近のフラクションを集め、減
圧上溶媒を留去し化合物(5)の無色粉末(480+1
!g、収率97%)を得る。
化合物fil : NMR(60MHz、 CDCh)
ppm :9.05(IH,broad、 NH)
、 8.66(LH,s、 8H)、 8.30(
II(、s、 2−H)、 7.76〜8.05(
21七 m )、 7.35〜7.60 (3H,m
)、 6.45(I H,d、 J=6.0Hz
、 1−H)、 4.60〜4.93(LH,m)
、 4.16〜4.60 (4H,m)、 3.5
〜4.16(IH,m)、 2.11(3H,s)、
2、o6(3H,S)
ppm :9.05(IH,broad、 NH)
、 8.66(LH,s、 8H)、 8.30(
II(、s、 2−H)、 7.76〜8.05(
21七 m )、 7.35〜7.60 (3H,m
)、 6.45(I H,d、 J=6.0Hz
、 1−H)、 4.60〜4.93(LH,m)
、 4.16〜4.60 (4H,m)、 3.5
〜4.16(IH,m)、 2.11(3H,s)、
2、o6(3H,S)
Claims (3)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1及びR_2は同一もしくは相異なっても
よい保護基を示す。Yは塩基を示す。)で示される保護
オキセタン環化合物にルイス酸を作用させ、必要に応じ
保護基を除去するとを特徴とする 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R′_1、およびR′_2は水素又は同一又は
異なってもよい保護基を示す、Yは前記と同じ)エリス
ロフラノシルヌクレオシド誘導体の製造法 - (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1及びR_2は同一もしくは相異なっても
よい保護基を示す。Yは塩基を示す。)で示される保護
オキセタン環化合物にルイス酸を、官能基を保護したヌ
クレオシドに含まれる塩基成分の共存下に、作用させ、
必要に応じて保護基を除去することを特徴とする下記一
般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、Aはヌクレオシドに含まれる塩基、R′_1、
及びR′_2は水素原子又は同一又は異なってもよい保
護基を示す。) で表わされるエリスロフラノシルヌクレオシド誘導体の
製造法 - (3)下記一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Aはアデニン塩基又はピリミジン塩基を示す。 ) で示されるエリスロフラノシルヌクレオシド誘導体及び
その塩
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1009979A JPH02124897A (ja) | 1988-07-28 | 1989-01-20 | エリスロフラノシルヌクレオシド誘導体の製造法及び新規誘導体 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63-186716 | 1988-07-28 | ||
JP18671688 | 1988-07-28 | ||
JP1009979A JPH02124897A (ja) | 1988-07-28 | 1989-01-20 | エリスロフラノシルヌクレオシド誘導体の製造法及び新規誘導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02124897A true JPH02124897A (ja) | 1990-05-14 |
Family
ID=26344817
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1009979A Pending JPH02124897A (ja) | 1988-07-28 | 1989-01-20 | エリスロフラノシルヌクレオシド誘導体の製造法及び新規誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02124897A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5494912A (en) * | 1991-06-26 | 1996-02-27 | Merrell Pharmaceuticals Inc. | 9-purinyl phosphonic acid derivitives for treating gout |
US5527803A (en) * | 1990-07-04 | 1996-06-18 | Merrell Pharmaceuticals Inc. | 9-purinyl phosphonic acid derivatives |
-
1989
- 1989-01-20 JP JP1009979A patent/JPH02124897A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5527803A (en) * | 1990-07-04 | 1996-06-18 | Merrell Pharmaceuticals Inc. | 9-purinyl phosphonic acid derivatives |
US5538978A (en) * | 1990-07-04 | 1996-07-23 | Merrell Pharmaceuticals Inc. | 9-purinyl phosphonic acid derivatives |
US5494912A (en) * | 1991-06-26 | 1996-02-27 | Merrell Pharmaceuticals Inc. | 9-purinyl phosphonic acid derivitives for treating gout |
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