JPS6070815A - 縦振動型圧電振動子 - Google Patents
縦振動型圧電振動子Info
- Publication number
- JPS6070815A JPS6070815A JP17883683A JP17883683A JPS6070815A JP S6070815 A JPS6070815 A JP S6070815A JP 17883683 A JP17883683 A JP 17883683A JP 17883683 A JP17883683 A JP 17883683A JP S6070815 A JPS6070815 A JP S6070815A
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- Japan
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- main vibration
- vibration part
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- main vibrating
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- 238000005530 etching Methods 0.000 abstract description 11
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/15—Constructional features of resonators consisting of piezoelectric or electrostrictive material
- H03H9/17—Constructional features of resonators consisting of piezoelectric or electrostrictive material having a single resonator
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/05—Holders; Supports
- H03H9/0595—Holders; Supports the holder support and resonator being formed in one body
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Acoustics & Sound (AREA)
- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は縦振動をする主振動部と該主振動部を支持する
音叉形状の支持体とをフォトエツチング加工によって一
体に形成してなる縦振動型圧電振動子に関する。
音叉形状の支持体とをフォトエツチング加工によって一
体に形成してなる縦振動型圧電振動子に関する。
本発明の目的はより小型なかつ安価な縦振動型圧電振動
子を提供することにある。本発明の他の目的は製造条件
を変えるのみで周波数を広い範囲で変え得る縦振動型圧
電振動子を提供することにある０ 本発明の縦振動型圧電振動子の基本的な構成例として特
開昭５７−１３８２１２号を従来例として第１図に斜視
図で示す・第１図において本例は、縦振動をする主振動
部１と該主振動部１の振動変位の最も小さくなる位置に
該主振動部１の幅方向に設けられた支持連結部２α、２
ｂと該支持連結部２ａ、２ｂの両端から延長されている
支持腕部３ ａ 、３ ｂ％支持基部４とかフメトリソ
グラフィ加工により一体で形成されている。水晶板は光
軸Ｚに対しほぼ垂直に切り出され、主振動部１は機械軸
Ｙに沿って配置され主電極５′α、５′ｂは主振動部１
の側面に形成されている。
子を提供することにある。本発明の他の目的は製造条件
を変えるのみで周波数を広い範囲で変え得る縦振動型圧
電振動子を提供することにある０ 本発明の縦振動型圧電振動子の基本的な構成例として特
開昭５７−１３８２１２号を従来例として第１図に斜視
図で示す・第１図において本例は、縦振動をする主振動
部１と該主振動部１の振動変位の最も小さくなる位置に
該主振動部１の幅方向に設けられた支持連結部２α、２
ｂと該支持連結部２ａ、２ｂの両端から延長されている
支持腕部３ ａ 、３ ｂ％支持基部４とかフメトリソ
グラフィ加工により一体で形成されている。水晶板は光
軸Ｚに対しほぼ垂直に切り出され、主振動部１は機械軸
Ｙに沿って配置され主電極５′α、５′ｂは主振動部１
の側面に形成されている。
本例の縦振動型圧電振動子は主？ｌ；極５′σ、５′ｂ
による電界が水晶の電気軸Ｘに対して平行となることや
音叉形状の支持体部を有することから良好な振動特性が
得られるという利点を有する。
による電界が水晶の電気軸Ｘに対して平行となることや
音叉形状の支持体部を有することから良好な振動特性が
得られるという利点を有する。
ところで本例における縦振動型圧電振動子の周波数ｆは
ｆ＝に／９．（Ｋ：定数 ２：主振動部長さ） で表
わされ、周波数を低くする場合には主振動部の長さｐを
長くしなければならない。又、製造条件を変えることに
より周波数を可変できる範囲も主振動部の長さ２を変え
られる範囲からおのずと限定される。例えば、フォトリ
ソ工程において振動子外形形状の水晶エツチングの時間
を変えることによる周波数の変化量は２ ｏ ｏ ｏ
ｐｐｍ程度であるため周波数の種類が製造条件による可
変範囲を越えていくつもある場合には、その種類毎に主
振動部長さ℃を変えたガラスマスクを用意しなければな
らない。
ｆ＝に／９．（Ｋ：定数 ２：主振動部長さ） で表
わされ、周波数を低くする場合には主振動部の長さｐを
長くしなければならない。又、製造条件を変えることに
より周波数を可変できる範囲も主振動部の長さ２を変え
られる範囲からおのずと限定される。例えば、フォトリ
ソ工程において振動子外形形状の水晶エツチングの時間
を変えることによる周波数の変化量は２ ｏ ｏ ｏ
ｐｐｍ程度であるため周波数の種類が製造条件による可
変範囲を越えていくつもある場合には、その種類毎に主
振動部長さ℃を変えたガラスマスクを用意しなければな
らない。
本発明は、主振動部の長さを長くせずに低周波数帯まで
カバーし、かつ振動子の外形形状のエツチング時間を増
減することによる周波数可変範囲も広くできる様にした
もので、その一実施例を第２図に示す。第２図は平面図
であり、主振動部１０の画先端部の巾Ｗ、は該主振動部
１０の中央部の巾Ｗ、よりも犬であることを特徴として
いる。
カバーし、かつ振動子の外形形状のエツチング時間を増
減することによる周波数可変範囲も広くできる様にした
もので、その一実施例を第２図に示す。第２図は平面図
であり、主振動部１０の画先端部の巾Ｗ、は該主振動部
１０の中央部の巾Ｗ、よりも犬であることを特徴として
いる。
主振動部１０の先端に巾広部１５ａ、１５ｂを設けるこ
とにより等価的に主振動部に質１ｉ： （、Ｊ加したこ
とになる。従って主振動部１０の長さＬを長くすること
なく周波数を低くすることができる。一方本例において
水晶エツチング時間を変えると主振動部の巾方向の寸法
が変わる。主振動部の先端と中央部で同じ量△Ｗだけｒ
ｊＪが変化した時、△Ｗ／Ｗ２〈△Ｖ／／Ｗ、となり、
主振動部の先端の等価質量が変化することがわかる。し
かも水晶のエツチング速度は結晶軸依存性があり、Ｘ軸
方向（すなわち主振動部の巾方向）はＹ軸方向（すなわ
ち主振動部の長さ方向）より数倍エツチング速度が速い
ことから、従って、水晶エツチング時間を変化させた場
合、従来の主振動部の巾が均一の場合には周波数はエツ
チング速度の遅い主振動部の長さ方向のみに依存する。
とにより等価的に主振動部に質１ｉ： （、Ｊ加したこ
とになる。従って主振動部１０の長さＬを長くすること
なく周波数を低くすることができる。一方本例において
水晶エツチング時間を変えると主振動部の巾方向の寸法
が変わる。主振動部の先端と中央部で同じ量△Ｗだけｒ
ｊＪが変化した時、△Ｗ／Ｗ２〈△Ｖ／／Ｗ、となり、
主振動部の先端の等価質量が変化することがわかる。し
かも水晶のエツチング速度は結晶軸依存性があり、Ｘ軸
方向（すなわち主振動部の巾方向）はＹ軸方向（すなわ
ち主振動部の長さ方向）より数倍エツチング速度が速い
ことから、従って、水晶エツチング時間を変化させた場
合、従来の主振動部の巾が均一の場合には周波数はエツ
チング速度の遅い主振動部の長さ方向のみに依存する。
このため、周波数可変巾は小さかったのに対し、本発明
によりエツチング速度の数倍速い主振動部の巾方向の寸
法を利用することにより周波数可変範囲を大きくするこ
とができる。
によりエツチング速度の数倍速い主振動部の巾方向の寸
法を利用することにより周波数可変範囲を大きくするこ
とができる。
第５図に本出願人によるエツチング時間と周波数の関係
を調査した結果を示す。ここで（ａ）は従来例の主振動
部の巾が均一な場合、（ｂ）は本発明による主振動部の
両先端巾を広くした場合を示している。この調査により
、本発明によれば約１０倍の周波数可変巾が得られるこ
とが確認できた。
を調査した結果を示す。ここで（ａ）は従来例の主振動
部の巾が均一な場合、（ｂ）は本発明による主振動部の
両先端巾を広くした場合を示している。この調査により
、本発明によれば約１０倍の周波数可変巾が得られるこ
とが確認できた。
第４図、第５図、第６図に本発明の応用例を示す。各図
において２０は主振動部であり２１ａ。
において２０は主振動部であり２１ａ。
２１ｂは支持連結部である０第４図は先端部２５ａ、２
５ｂが円形の例、第５図は先端部２６σ。
５ｂが円形の例、第５図は先端部２６σ。
２６ｂがＯ・し形の例、第６図は主振動部２０の中央部
の巾Ｗ１から先端部２４の巾Ｗ２に向って連続的に大き
くなっている例である。いずれも主振動部の中央部の巾
Ｗ、より先端部の「１］Ｗ２を大とすることにより前記
の利点を有するものであるＯ又、フメトエノチング加工
の利点として形状の複雑さは何ら加工性を阻害するもの
ではない。
の巾Ｗ１から先端部２４の巾Ｗ２に向って連続的に大き
くなっている例である。いずれも主振動部の中央部の巾
Ｗ、より先端部の「１］Ｗ２を大とすることにより前記
の利点を有するものであるＯ又、フメトエノチング加工
の利点として形状の複雑さは何ら加工性を阻害するもの
ではない。
第１図は従来例を示す斜視図。
第２図は本発明の実施例を示す平面図。１０は主振動部
、ｊ５ａ、１５ｂは本発明による巾広形状の突起部。 第３図はエツチング時間と周波数との相関図。 （ａ）は従来例の相関図、（ｂ）は本発明の一例の相関
図。 第４図、第５図、第１６図は本発明の応用例を示す平面
図。 以 上 出願人 松島工業株式会工（− オ ２ 図 オ ５ 図 オ６図
、ｊ５ａ、１５ｂは本発明による巾広形状の突起部。 第３図はエツチング時間と周波数との相関図。 （ａ）は従来例の相関図、（ｂ）は本発明の一例の相関
図。 第４図、第５図、第１６図は本発明の応用例を示す平面
図。 以 上 出願人 松島工業株式会工（− オ ２ 図 オ ５ 図 オ６図
Claims (1)
- 縦振動をする主振動部と該主振動部を支持する音叉形状
の支持体とを、フォトエツチング加工により一体で形成
し、主電極を該主振動部の側面に設けてなる縦振動型圧
電振動子において、該主振動部の画先端部の巾が該主振
動部の中央の巾より犬であることを特徴とする縦振動型
圧電振動子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17883683A JPS6070815A (ja) | 1983-09-27 | 1983-09-27 | 縦振動型圧電振動子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17883683A JPS6070815A (ja) | 1983-09-27 | 1983-09-27 | 縦振動型圧電振動子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6070815A true JPS6070815A (ja) | 1985-04-22 |
| JPH0351131B2 JPH0351131B2 (ja) | 1991-08-05 |
Family
ID=16055510
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17883683A Granted JPS6070815A (ja) | 1983-09-27 | 1983-09-27 | 縦振動型圧電振動子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6070815A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60189308A (ja) * | 1984-03-09 | 1985-09-26 | Kinseki Kk | 長辺縦振動子 |
| JPH02132912A (ja) * | 1988-11-14 | 1990-05-22 | Seiko Electronic Components Ltd | 縦水晶振動子 |
| JPH03158015A (ja) * | 1989-11-15 | 1991-07-08 | Seiko Electronic Components Ltd | 縦水晶振動子 |
| US9354419B2 (en) | 2010-12-20 | 2016-05-31 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Adjustment device, lens barrel, and optical apparatus |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5176089A (ja) * | 1974-12-26 | 1976-07-01 | Suwa Seikosha Kk | Tateshindogataatsudenshindoshi |
| JPS57138212A (en) * | 1981-01-15 | 1982-08-26 | Asulab Sa | Microminiature piezoelectric resonator |
-
1983
- 1983-09-27 JP JP17883683A patent/JPS6070815A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5176089A (ja) * | 1974-12-26 | 1976-07-01 | Suwa Seikosha Kk | Tateshindogataatsudenshindoshi |
| JPS57138212A (en) * | 1981-01-15 | 1982-08-26 | Asulab Sa | Microminiature piezoelectric resonator |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60189308A (ja) * | 1984-03-09 | 1985-09-26 | Kinseki Kk | 長辺縦振動子 |
| JPH02132912A (ja) * | 1988-11-14 | 1990-05-22 | Seiko Electronic Components Ltd | 縦水晶振動子 |
| JPH03158015A (ja) * | 1989-11-15 | 1991-07-08 | Seiko Electronic Components Ltd | 縦水晶振動子 |
| US9354419B2 (en) | 2010-12-20 | 2016-05-31 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Adjustment device, lens barrel, and optical apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0351131B2 (ja) | 1991-08-05 |
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