JPH0351131B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0351131B2 JPH0351131B2 JP58178836A JP17883683A JPH0351131B2 JP H0351131 B2 JPH0351131 B2 JP H0351131B2 JP 58178836 A JP58178836 A JP 58178836A JP 17883683 A JP17883683 A JP 17883683A JP H0351131 B2 JPH0351131 B2 JP H0351131B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- main
- main vibrating
- width
- vibrating part
- frequency
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
Links
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- 238000005530 etching Methods 0.000 description 11
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
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- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/15—Constructional features of resonators consisting of piezoelectric or electrostrictive material
- H03H9/17—Constructional features of resonators consisting of piezoelectric or electrostrictive material having a single resonator
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/05—Holders; Supports
- H03H9/0595—Holders; Supports the holder support and resonator being formed in one body
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Acoustics & Sound (AREA)
- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は縦振動をする主振動部と該主振動部を
支持する音叉形状の支持体とをフオトエツチング
加工によつて一体に形成してなる縦振動型圧電振
動子に関する。
支持する音叉形状の支持体とをフオトエツチング
加工によつて一体に形成してなる縦振動型圧電振
動子に関する。
本発明の目的はより小型なかつ安価な縦振動型
圧電振動子を提供することにある。本発明の他の
目的は製造条件を変えるのみで周波数を広い範囲
で変え得る縦振動型圧電振動子を提供することに
ある。
圧電振動子を提供することにある。本発明の他の
目的は製造条件を変えるのみで周波数を広い範囲
で変え得る縦振動型圧電振動子を提供することに
ある。
本発明の縦振動型圧電振動子の基本的な構成例
として特開昭57−138212号を従来例として第1図
に斜視図で示す。第1図において本例は、縦振動
をする主振動部1と該主振動部1の振動変位の最
も小さくなる位置に該主振動部1の幅方向に設け
られた支持連結部2a,2bと該支持連結部2
a,2bの両端から延長されている支持腕部3
a,3b、支持基部4とがフオトリソグラフイ加
工により一体で形成されている。水晶板は光軸z
に対しほぼ垂直に切り出され、主振動部1は機械
軸Yに沿つて配置され主電極5′a,5′bは主振
動部1の側面に形成されている。
として特開昭57−138212号を従来例として第1図
に斜視図で示す。第1図において本例は、縦振動
をする主振動部1と該主振動部1の振動変位の最
も小さくなる位置に該主振動部1の幅方向に設け
られた支持連結部2a,2bと該支持連結部2
a,2bの両端から延長されている支持腕部3
a,3b、支持基部4とがフオトリソグラフイ加
工により一体で形成されている。水晶板は光軸z
に対しほぼ垂直に切り出され、主振動部1は機械
軸Yに沿つて配置され主電極5′a,5′bは主振
動部1の側面に形成されている。
本例の縦振動型圧電振動子は主電極5′a,
5′bによる電界が水晶の電気軸xに対して平行
となることや音叉形状の支持体部を有することか
ら良好な振動特性が得られるという利点を有す
る。
5′bによる電界が水晶の電気軸xに対して平行
となることや音叉形状の支持体部を有することか
ら良好な振動特性が得られるという利点を有す
る。
ところで本例における縦振動型圧電振動子の周
波数は=k/l(k:定数 l:主振動部長
さ)で表わされ、周波数を低くする場合には主振
動部の長さlを長くしなければならない。又、製
造条件を変えることにより周波数を可変できる範
囲も主振動部の長さlを変えられる範囲からおの
ずと限定される。例えば、フオトリン工程におい
て振動子外形形状の水晶エツチングの時間を変え
ることによる周波数の変化量は2000ppm程度であ
るため周波数の種類が製造条件による可変範囲を
越えていくつもある場合には、その種類毎に主振
動部長さlを変えたガラスマスクを用意しなけれ
ばならない。
波数は=k/l(k:定数 l:主振動部長
さ)で表わされ、周波数を低くする場合には主振
動部の長さlを長くしなければならない。又、製
造条件を変えることにより周波数を可変できる範
囲も主振動部の長さlを変えられる範囲からおの
ずと限定される。例えば、フオトリン工程におい
て振動子外形形状の水晶エツチングの時間を変え
ることによる周波数の変化量は2000ppm程度であ
るため周波数の種類が製造条件による可変範囲を
越えていくつもある場合には、その種類毎に主振
動部長さlを変えたガラスマスクを用意しなけれ
ばならない。
本発明は、主振動部の長さを長くせずに低周波
数帯までカバーし、かつ振動子の外形形状のエツ
チング時間を増減することによる周波数可変範囲
も広くできる様にしたもので、その一実施例を第
2図に示す。第2図は平面図であり、主振動部1
0の両先端部の巾W2は該主振動部10の中央部
の巾W1よりも大であることを特徴としている。
主振動部10の先端に巾広部15a,15bを設
けることにより等価的に主振動部に質量付加した
ことになる。従つて主振動部10の長さLを長く
することなく周波数を低くすることができる。一
方本例において水晶エツチング時間を変えると主
振動部の巾方向の寸法が変わる。主振動部の先端
と中央部で同じ量△Wだけ巾が変化した時、 △W/W2<△W/W1となり、主振動部の先端
の等価質量が変化することがわかる。しかも水晶
のエツチング速度は結晶軸依存性があり、X軸方
向(すなわち主振動部の巾方向)はY軸方向(す
なわち主振動部の長さ方向)より数倍エツチング
速度が速いことから、従つて、水晶エツチング時
間を変化させた場合、従来の主振動部の巾が均一
の場合には周波数はエツチング速度の遅い主振動
部の長さ方向のみに依存する。このため、周波数
可変巾は小さかつたのに対し、本発明によりエツ
チング速度の数倍速い主振動部の巾方向の寸法を
利用することにより周波数可変範囲を大きくする
ことができる。
数帯までカバーし、かつ振動子の外形形状のエツ
チング時間を増減することによる周波数可変範囲
も広くできる様にしたもので、その一実施例を第
2図に示す。第2図は平面図であり、主振動部1
0の両先端部の巾W2は該主振動部10の中央部
の巾W1よりも大であることを特徴としている。
主振動部10の先端に巾広部15a,15bを設
けることにより等価的に主振動部に質量付加した
ことになる。従つて主振動部10の長さLを長く
することなく周波数を低くすることができる。一
方本例において水晶エツチング時間を変えると主
振動部の巾方向の寸法が変わる。主振動部の先端
と中央部で同じ量△Wだけ巾が変化した時、 △W/W2<△W/W1となり、主振動部の先端
の等価質量が変化することがわかる。しかも水晶
のエツチング速度は結晶軸依存性があり、X軸方
向(すなわち主振動部の巾方向)はY軸方向(す
なわち主振動部の長さ方向)より数倍エツチング
速度が速いことから、従つて、水晶エツチング時
間を変化させた場合、従来の主振動部の巾が均一
の場合には周波数はエツチング速度の遅い主振動
部の長さ方向のみに依存する。このため、周波数
可変巾は小さかつたのに対し、本発明によりエツ
チング速度の数倍速い主振動部の巾方向の寸法を
利用することにより周波数可変範囲を大きくする
ことができる。
第3図に本出願人によるエツチング時間と周波
数の関係を調査した結果を示す。ここでaは従来
例の主振動部の巾が均一な場合、bは本発明によ
る主振動部の両先端巾を広くした場合を示してい
る。この調査により、本発明によれば約10倍の周
波数可変巾が得られることが確認できた。
数の関係を調査した結果を示す。ここでaは従来
例の主振動部の巾が均一な場合、bは本発明によ
る主振動部の両先端巾を広くした場合を示してい
る。この調査により、本発明によれば約10倍の周
波数可変巾が得られることが確認できた。
第4図および第5図には、本発明の応用例を示
してある。これらの図において、20は主振動部
であり、21a,21bは支持連結部である。第
4図の例は、巾広の先端部25a,25bが円形
をしており、第5図の例は、巾広の先端部26
a,26bがひし形をしている。いずれの例にお
いても、主振動部の巾は全体としてW1に設定さ
れており、この巾に比べて、両先端部分のみが局
所的に巾W2を有する広巾部分とされている。こ
れらの例においても、第2図に示す例の場合と同
様な効果を得ることができる。ここに、フイトエ
ツチング加工の利点として、このように振動子形
状を複雑にしても、その加工性はなんら阻害され
ない。なお、第6図には参考例として、中央部分
が巾W1と狭く、両端に向けて巾W2にまで徐々に
広がつている形状の振動子を示してある。
してある。これらの図において、20は主振動部
であり、21a,21bは支持連結部である。第
4図の例は、巾広の先端部25a,25bが円形
をしており、第5図の例は、巾広の先端部26
a,26bがひし形をしている。いずれの例にお
いても、主振動部の巾は全体としてW1に設定さ
れており、この巾に比べて、両先端部分のみが局
所的に巾W2を有する広巾部分とされている。こ
れらの例においても、第2図に示す例の場合と同
様な効果を得ることができる。ここに、フイトエ
ツチング加工の利点として、このように振動子形
状を複雑にしても、その加工性はなんら阻害され
ない。なお、第6図には参考例として、中央部分
が巾W1と狭く、両端に向けて巾W2にまで徐々に
広がつている形状の振動子を示してある。
第1図は従来例を示す斜視図。第2図は本発明
の実施例を示す平面図。10は主振動部、15
a,15bは本発明による巾広形状の突起部。第
3図はエツチング時間と周波数との相関図。aは
従来例の相関図、bは本発明の一例の相関図。第
4図および第5図はそれぞれ本発明の応用例を示
す平面図。第6図は振動子の別の形状を参考例と
して示す平面図。
の実施例を示す平面図。10は主振動部、15
a,15bは本発明による巾広形状の突起部。第
3図はエツチング時間と周波数との相関図。aは
従来例の相関図、bは本発明の一例の相関図。第
4図および第5図はそれぞれ本発明の応用例を示
す平面図。第6図は振動子の別の形状を参考例と
して示す平面図。
Claims (1)
- 1 縦振動をする主振動部と該主振動部を支持す
る音叉形状の支持体とを、フオトエツチング加工
により一体で形成し、主電極を該主振動部の側面
に設けてなる縦振動型圧電振動子において、該主
振動部は全体としてほぼ一定の巾を有しており、
その両先端部分の幅のみが、それ以外の部分の巾
よりも大きくなるように設定されていることを特
徴とする縦振動型圧電振動子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17883683A JPS6070815A (ja) | 1983-09-27 | 1983-09-27 | 縦振動型圧電振動子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17883683A JPS6070815A (ja) | 1983-09-27 | 1983-09-27 | 縦振動型圧電振動子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6070815A JPS6070815A (ja) | 1985-04-22 |
JPH0351131B2 true JPH0351131B2 (ja) | 1991-08-05 |
Family
ID=16055510
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17883683A Granted JPS6070815A (ja) | 1983-09-27 | 1983-09-27 | 縦振動型圧電振動子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6070815A (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60189308A (ja) * | 1984-03-09 | 1985-09-26 | Kinseki Kk | 長辺縦振動子 |
JPH0831763B2 (ja) * | 1988-11-14 | 1996-03-27 | セイコー電子工業株式会社 | 縦水晶振動子 |
JPH03158015A (ja) * | 1989-11-15 | 1991-07-08 | Seiko Electronic Components Ltd | 縦水晶振動子 |
CN102540385B (zh) | 2010-12-20 | 2016-01-20 | 三星电子株式会社 | 调芯机构、镜头筒及光学设备 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5176089A (ja) * | 1974-12-26 | 1976-07-01 | Suwa Seikosha Kk | Tateshindogataatsudenshindoshi |
JPS57138212A (en) * | 1981-01-15 | 1982-08-26 | Asulab Sa | Microminiature piezoelectric resonator |
-
1983
- 1983-09-27 JP JP17883683A patent/JPS6070815A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5176089A (ja) * | 1974-12-26 | 1976-07-01 | Suwa Seikosha Kk | Tateshindogataatsudenshindoshi |
JPS57138212A (en) * | 1981-01-15 | 1982-08-26 | Asulab Sa | Microminiature piezoelectric resonator |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6070815A (ja) | 1985-04-22 |
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