JPS6060916A - 低ハロゲン化シランまたはモノシランの製造方法 - Google Patents

低ハロゲン化シランまたはモノシランの製造方法

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JPS6060916A
JPS6060916A JP16833483A JP16833483A JPS6060916A JP S6060916 A JPS6060916 A JP S6060916A JP 16833483 A JP16833483 A JP 16833483A JP 16833483 A JP16833483 A JP 16833483A JP S6060916 A JPS6060916 A JP S6060916A
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JP
Japan
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monosilane
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halogenated silane
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silane
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Yasutaka Ozaki
尾崎　康隆
Takeyuki Hirashima
平島　偉行
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Tokuyama Corp
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011521953A (ja) * 2008-05-29 2011-07-28 エヌディーエスユー リサーチ ファウンデーション 官能化されたシランの形成法
US8206676B2 (en) 2009-04-15 2012-06-26 Air Products And Chemicals, Inc. Method for making a chlorosilane

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JP2011521953A (ja) * 2008-05-29 2011-07-28 エヌディーエスユー リサーチ ファウンデーション 官能化されたシランの形成法
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