JPS6059689A - 加熱装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 になるヨーロソパ特許出願第８　３　３　０　７　３　
３　８．　０号明細書に記載されているような１つまた
はそれ以上の赤外線放射源を備えた加熱装置に関する。

この種の加熱装置は、例えば絶縁材層を備えかつ４個の
赤外線放射用タングステン・ハロゲンランプを支持して
いる薄い盆状体よりなる。この盆状体は他の３個の同様
な盆状体とともにガラス・セラミック層の下に取付けら
れてクツキング・ホブ（ｃｏｏｋｉｎｇ　ｈｏｂ　）　
ｆ構成している。

上記絶縁材層はこの加熱装置からの熱の散逸を効率良く
阻止するといっても、単に赤外線を吸収しそのうちの限
られた量を再放射するに過ぎないから、各ランプの下側
に反射性コーティングを施すことが必要となり、このコ
ーティングによってランプのフィラメントから下方に放
射きれる赤外線を上方へ反射させ、加熱装置からの赤外
線散逸をかなり阻止している。

本発明の目的はこの加熱装置からの赤外線の散逸を軽減
することを目的とする。

本発明によれば、絶縁材層上ｖｔ４たばこの絶縁材層内
に一部収容でれた状態で配置された少なくとも１つの赤
外線放射源を備え、前記絶縁材層に。

赤外線に対して実質的に不透過性となるような処理が施
されている加熱装置が提供きれる。

絶縁材層はその表面に対し赤外線反射物質のコーティン
グを施す処理がなされるのが好ましく、はもなければ赤
外線反射物質を絶縁材層の表向層１で豊富に含有せ（７
める処理がなされる。

赤外線放射源は管状のタングステン・ハロヶ゛ンランゾ
よりなるのが好ましく、絶縁利層の表面には各ランフ０
の表面領域の下方部分を収容する溝を形成してもよく、
これによって各フィラメントから下方に放射された赤外
線の一部がフィラメントに向って反射され、一部は絶縁
材層から１＝方に向って反射される。

以下図面を参照して本発明の一実施例について詳細に説
明しよう。

第１図において、金属製であることが好ましいほぼ円形
の盆状体１の内部の底部には適轟な絶縁材料よりなる層
２が配置はれている。盆状体１はその対向する両側縁部
に突串するフランツ３および４を備えており、この７ラ
ンノは多数の赤外線放射源５０両端をそれぞれ支持し７
ている。好祉シフい実施例では、４個の赤外線放射源５
が盆状体１の円形部分を横切って配置されている。

各赤外線放射源５は、ソーク・イーエムアイ・ピーエル
シー（’ＴＨＯＲＮ　ＥＭＩ　ｐｉｅ）を出願人とする
ヨーロソｉＰ特許出願第８４３０１６３６．１号明細書
に記載されているように、石英管６の内部ニ支持された
タングステン・フィラメンｌ−７ヲ有するタングステン
・ハロヶゝンランノよりなる。各ランプは成形されたセ
ラミック・エンドキャップ８および９を有し、このエン
ドキャップはそれぞれフィラメント７の両端を封入した
ピンチンール部（図示せず）と、このフィラメントの両
端に接続されたリード線とを包んでいる。

セラミック・ファイバ材よシなるエンドキャンプ８は盆
状体１の上方に取付けられ、フィラメント７の両端のま
わりに圧入されて適切な・やソキングを形成しでいる。

盆状体１は弾性的に取付けられた支持板（図示せず）に
よって、クツキング・ホブの頂面を形成するガラスセラ
ミック層１１の下面に向って押しつけられている。

また、ガラスセラミック層１１の破壊を防ぐために、ガ
ラスセラミック層１１が最高動作温度に達したときにラ
ンプを消勢するためのサーマルリミッタ（図示せず）が
加熱装置内に設けられている。

このリミッタは石英管内に支持これた金属ワイヤの形を
しており、最高温度に達したときは、このワイヤの熱膨
張によってマイクロスイッチを作動させランプを消勢す
る。

ガラスセラミック層】１に吸収されかつそれから放射さ
れる輻射に上古１ワイヤが主として感応し、かつランｆ
または絶縁材層から直接放射される輻射には感応しない
ように、ワイヤと石英管との間にコイル状のニッケル箔
または銀箔が配置されている。ひとたび管内で上記コイ
ル状の箔か膨張すると管の内壁に接触する。

ランプから直接の赤外線輻射は、石英管の管壁を通って
伝導されるが箔で反射草れるので、ワイヤがこの輻射に
は感応しないようになされている。

しかしながら、ガラスセラミック層１１に吸収キれかつ
これから再放射される輻射線は上記反射された輻射線と
波長を異にし、石英管に吸収はれる。

したがってワイヤは熱せられ、石英管からの熱伝導によ
って熱膨張する。

「マイクロザーム（Ｍｉｃｒｏｔｈｅｒｍ　）　ｊ　と
して知られているような多孔質材料よりなる絶縁材層１
１ば、そのままではラングから下方に放射てれる赤外線
のうちの限られた量のみを反射するに過ぎない。

そこで本実施例においては、典型的には二酸化チタンの
ような酸化物よりなる赤外線反射物質のコーティング１
２を備えている。

赤外線反射物質は如何なる適当な形態においてもまた如
何なる適当な方法によっても絶縁材層２上に施すことが
できる。例えば微細粉末のスラリーにして絶縁材層２の
表面に散布してもよく、これによって絶縁材層２は入射
する赤外線に対して不透過性となされる。

第２図は本発明の他の実施例を示し、赤外線４本のラン
プ１３〜１６を備え、各ランプはその内部にフィラメン
ト１７〜２０をそれぞれ支持しており、これらランプの
一部分は、絶縁材層２に形成された溝２１〜２４内にそ
れぞれ収容されている。

各フィラメント１７〜２０は、赤外線反射物質のコーテ
ィング１２によって各港２１〜２４に形成きれた半円形
の反射面の焦点位置に配置てれ、フィラメント１７〜２
０から下方へ放射きれる赤外線がフィラメントに向って
反射きれ、一部は上方のガラスセラミック層１１に達す
る。

本発明の他の実施例では、絶縁拐層２の表面に酸化チタ
ンのような赤外線反射物質を豊富に含有せしめたものと
なされうる。この物質は、絶縁材を赤外線に対して不透
過性にする乳白剤（ｏｐａｃｉｆｉｅｒ　）として作用
する。

絶縁材層２をランプが動作する特定範囲内の波長に対し
て不透過性にするために、他の種々の物質が適用これう
る。

本発明においては、多少の赤外線は吸収するが赤外線を
反射［２うる絶縁材層を加熱装置に適用することにより
、加熱装置からの赤外線の散逸を減少させることができ
る利益がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の断面図、第２図は第１図の
Ｘ−Ｘ線における他の実施例を伴なう断面図である。 図面において、１は盆状体、２は絶縁材層、５は赤外線
放射源、７はフィラメント、１１はガラスセラミック層
、１２は赤外線反射物質のコーティング、１３〜１６は
赤外線ランプ、１７〜２０はフィラメント、２１〜２４
は清音それぞれ示す。 特許出願人　ソーン　イーエムアイ　ドメスティソクア
プライアンシズ　リミテッド 代理人弁理士　山元俊仁

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、絶縁材層上またはこの絶縁材層内に一部収容された
   状態で配置された少なくとも１つの赤外線放射源を備え
   た加熱装置において、前記絶縁材層に、それを赤外線に
   対し実質的に不透過性にならしめる処理が施されている
   ことを特徴とする加熱装置。 ２、前記絶縁材層の表面に、赤外線反射物質のコーティ
   ングが施されている特許請求の範囲第１項記載の加熱装
   置。 ３、前記赤外線反射物質のコーティングが二酸化チタン
   のような酸化物よ如なる特許請求の範囲第２項記載の加
   熱装置。 ４、前記絶縁材層の表面層が赤外線反射物質を豊富に含
   有せしめられている特許請求の範囲第１項記載の加熱装
   置。 ５、前記赤外線反射物質が二酸化チタンのような酸化物
   よりなる特許請求の範囲第４項記載の加熱装置。 ６、前記絶縁材層の表面に、前記赤外線放射源の表面領
   域の下方部分を収容する溝が形成されている特許請求の
   範囲第１項〜第５項のうちの何れかに記載された加熱装
   置。 ７、前記赤外線放射源がタングステンフィラメントを石
   英管内に支持したタングステン・ハロゲンランプよシな
   る特許請求の範囲第１項〜第６項のうちの何れかに記載
   された加熱装置。 ８、特許請求の範囲第１項〜第７項のうちの何れかに記
   載された加熱装置の少なくとも１つを備えたクツキング
   ・ホブ。