JPS6052594A - セラミックス粒子の突起を有する金属コ−ト方法 - Google Patents
セラミックス粒子の突起を有する金属コ−ト方法Info
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- JPS6052594A JPS6052594A JP16097783A JP16097783A JPS6052594A JP S6052594 A JPS6052594 A JP S6052594A JP 16097783 A JP16097783 A JP 16097783A JP 16097783 A JP16097783 A JP 16097783A JP S6052594 A JPS6052594 A JP S6052594A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はダイヤモンド、立方晶窒化はう素、アルミナ、
炭化けい素等のセラミックス粒子を表面に突起を有する
金属層によってコートする方法に関する。
炭化けい素等のセラミックス粒子を表面に突起を有する
金属層によってコートする方法に関する。
一般に、ダイヤモンド、立方晶窒化はう素（以下ＣＢＮ
という）等のセラミックス粒子をレジンボンド砥石の
砥粒として使用する場合には、セラミックス粒子をその
まま用いず、粒子を金属によッテ：ｆｆ−）１．、これ
を砥２粒として用い、放熱およびレジンとの結合力をよ
くし、研削比を向上させており、種々な金属コート方法
、例えば表面に凹凸又は突起を有する金属コート方法な
どが発表されている。
という）等のセラミックス粒子をレジンボンド砥石の
砥粒として使用する場合には、セラミックス粒子をその
まま用いず、粒子を金属によッテ：ｆｆ−）１．、これ
を砥２粒として用い、放熱およびレジンとの結合力をよ
くし、研削比を向上させており、種々な金属コート方法
、例えば表面に凹凸又は突起を有する金属コート方法な
どが発表されている。
例えばダイヤモンド粒子をＮｌコートする場合、第１層
として化学コートにより緻密な金属Ｎ１コート層、第２
層として化学コートにより粒状の突起を有するＮ４ 金
属コート層、第３層として化学コートによる緻密なＮｄ
金属コート層を順次固着させる方法（特公昭５２−２
７８７４）、或いはダイヤモンド°またはＣＢＮ粒子を
導電性付与のためＳｎＣ勇２ の塩酸酸性溶液によって
処理する条件化処理（感受性化処理）、表面を活性化す
るため塩化パラジウムの塩酸酸性溶液等で処理する活性
化処理つソいてＮ１ 化学コート処理、または活性化処
理およびＮｌ 化学コート処理或いはＮｉ 化学コート
処理のいずれかの処理を２回以上繰返見して上記粒子表
面に細い突起を有するＮ１ 金属コート層を形成する方
法（特公昭５６−２４７１４）等がある。
として化学コートにより緻密な金属Ｎ１コート層、第２
層として化学コートにより粒状の突起を有するＮ４ 金
属コート層、第３層として化学コートによる緻密なＮｄ
金属コート層を順次固着させる方法（特公昭５２−２
７８７４）、或いはダイヤモンド°またはＣＢＮ粒子を
導電性付与のためＳｎＣ勇２ の塩酸酸性溶液によって
処理する条件化処理（感受性化処理）、表面を活性化す
るため塩化パラジウムの塩酸酸性溶液等で処理する活性
化処理つソいてＮ１ 化学コート処理、または活性化処
理およびＮｌ 化学コート処理或いはＮｉ 化学コート
処理のいずれかの処理を２回以上繰返見して上記粒子表
面に細い突起を有するＮ１ 金属コート層を形成する方
法（特公昭５６−２４７１４）等がある。
しかし、両者は、工程が複雑、かつ、高温反応である等
のため、コストが高い。又、得られたコート層の表面突
起も非常に小さいものであり、レジンボンド砥石として
高研削比を得るためには、今−歩不満がある。又工程が
不安定であり突起の状態にバラツキが大きい等の欠点が
あった。
のため、コストが高い。又、得られたコート層の表面突
起も非常に小さいものであり、レジンボンド砥石として
高研削比を得るためには、今−歩不満がある。又工程が
不安定であり突起の状態にバラツキが大きい等の欠点が
あった。
本発明は上記の事情に鑑み、工程が単純かつ安価で、安
定して表面に多数の機誓状突ｉを有（する強固な金属コ
ートが得られる方法を提供することを目的とするもので
、その要旨は、セラミックス粒子を先ず化学コート法に
より、活性点の少ない平滑な面に金属コートし、次いで
電解法により金属コートするセラミックス粒子の突起を
有する金属コート方法にある。
定して表面に多数の機誓状突ｉを有（する強固な金属コ
ートが得られる方法を提供することを目的とするもので
、その要旨は、セラミックス粒子を先ず化学コート法に
より、活性点の少ない平滑な面に金属コートし、次いで
電解法により金属コートするセラミックス粒子の突起を
有する金属コート方法にある。
以下本発明に係る金属コート方法を説明する。
本発明において使用するセラミックス粒子は、１〜３０
０μの大きさのもので、そのまま金属コート処理に供し
てもよいが、公知の方法によってセラミックス粒子表面
に５ｎＣＪ３゜を均一に分散塗布する感受性化処理およ
び感受性化処理した粒子表面、にｐｄ 金属を沈着ζせ
る活性化処理を前もって施しておくことが好ましい。
０μの大きさのもので、そのまま金属コート処理に供し
てもよいが、公知の方法によってセラミックス粒子表面
に５ｎＣＪ３゜を均一に分散塗布する感受性化処理およ
び感受性化処理した粒子表面、にｐｄ 金属を沈着ζせ
る活性化処理を前もって施しておくことが好ましい。
上記セラミックス粒子を先ずＮ１ 化学コート処理によ
って、表面が平滑（鏡面状）で未コート部分のないＮｉ
層で被覆し、次いで電解によって上記Ｎｉ 層の表面
に金属を電着し、表面に突起のある砥粒とする。
って、表面が平滑（鏡面状）で未コート部分のないＮｉ
層で被覆し、次いで電解によって上記Ｎｉ 層の表面
に金属を電着し、表面に突起のある砥粒とする。
上記化学コート処理は、次の手順によって打力われる。
すなわち、耐酸ナトリウム（ＣＨ３ＣＯＯＮａ・３Ｈ２
０、以下ａという’）：６〜８０！ｖ−／、、ｇ好まし
くは、８〜２０１ｉ’／沼、硫酸ニッケル（ＮｉＳ０４
−６Ｈ２０、以下すという）：４〜５０ｙ、’ｉ好まし
くは５〜１５７／、＃の濃度のコート液をセラミックス
粒子の表面＠ｘ扉２当り０．１〜２沼好ましくは０．５
〜１．５１となるように準備し、所定量のセラミックス
粒子を投入混合し、これを９０〜９５℃に保持した後、
チオ尿素（以下Ｃという）：０．１〜０．５１ｎｇ／Ｌ
好筐しくは０．２〜０．４ｑ／、＃となるように添加し
、十分攪拌均一化する。上記Ｃを添加した後５分以内好
ましくは０．１〜０．５分後に次亜燐酸ナトリウム（以
下ｄという）：２〜４０ ’；ｌ／１１好１しくは８〜
６り／ｌとなる量Ｚ小針の純水に溶解し、この水溶液を
上記コート液に一度に注入する。反応は２〜５分で終了
し、粒子は表面が鏡面状の未コート部分のないＮｉ 層
によってコートされる。こｌ７）Ｎ ｉ コートは、電
解コート時の活性点が極めて少ない。
０、以下ａという’）：６〜８０！ｖ−／、、ｇ好まし
くは、８〜２０１ｉ’／沼、硫酸ニッケル（ＮｉＳ０４
−６Ｈ２０、以下すという）：４〜５０ｙ、’ｉ好まし
くは５〜１５７／、＃の濃度のコート液をセラミックス
粒子の表面＠ｘ扉２当り０．１〜２沼好ましくは０．５
〜１．５１となるように準備し、所定量のセラミックス
粒子を投入混合し、これを９０〜９５℃に保持した後、
チオ尿素（以下Ｃという）：０．１〜０．５１ｎｇ／Ｌ
好筐しくは０．２〜０．４ｑ／、＃となるように添加し
、十分攪拌均一化する。上記Ｃを添加した後５分以内好
ましくは０．１〜０．５分後に次亜燐酸ナトリウム（以
下ｄという）：２〜４０ ’；ｌ／１１好１しくは８〜
６り／ｌとなる量Ｚ小針の純水に溶解し、この水溶液を
上記コート液に一度に注入する。反応は２〜５分で終了
し、粒子は表面が鏡面状の未コート部分のないＮｉ 層
によってコートされる。こｌ７）Ｎ ｉ コートは、電
解コート時の活性点が極めて少ない。
上記Ｎｉ 化学コートは、その処理液の濃度、混合順序
、処理液針と粒子との割合、および操作条件を違えると
、Ｎｉ コート乞形成しないか、或いは、未コート部分
か多くなったり、表面のざらざらしたコートしか得られ
ない。
、処理液針と粒子との割合、および操作条件を違えると
、Ｎｉ コート乞形成しないか、或いは、未コート部分
か多くなったり、表面のざらざらしたコートしか得られ
ない。
上記第１次化学Ｎｉコート層厚ぎは、０．２μｍ程度と
非常に薄いためこの１までは電導性が不安定であるので
、第２次化学コートにより、もつと厚いＮｉ コート層
として、安定な電導性を示す様にする周知の方法により
、Ｎｉ コート層ケ１５〜２ Ｑｗｔ％とする。表面状
態は第１次化学Ｎｉ コート層の状態ケ受は継ぎ非常に
なめらかとなる。
非常に薄いためこの１までは電導性が不安定であるので
、第２次化学コートにより、もつと厚いＮｉ コート層
として、安定な電導性を示す様にする周知の方法により
、Ｎｉ コート層ケ１５〜２ Ｑｗｔ％とする。表面状
態は第１次化学Ｎｉ コート層の状態ケ受は継ぎ非常に
なめらかとなる。
例えば、ａ、ｂ、ａ、ｄの濃度を上記範囲外とすると未
被覆部分の発生を避は得ない。また、ａ、・ｂ、ｃ、ｄ
を所定の濃度範囲としても、ａ、ｂ。
被覆部分の発生を避は得ない。また、ａ、・ｂ、ｃ、ｄ
を所定の濃度範囲としても、ａ、ｂ。
ｃ、ｄを同時混合してこれにセラミックス粒子を投入し
たり、ａ、ｂ、ｃを混合してセラミツゲス粒子を投入し
、しかる後、ｄを混合した場合には、Ｎｉ コートの反
応が行かわれない。また、ａ、ｂ。
たり、ａ、ｂ、ｃを混合してセラミツゲス粒子を投入し
、しかる後、ｄを混合した場合には、Ｎｉ コートの反
応が行かわれない。また、ａ、ｂ。
混合水溶液にセラミックス粒子を投入し、攪拌しなから
ｄを添加し、次いでＣを添加した場合には、Ｎｉ コー
ト反応は行なわれるが表面が非常に粗面化したコートと
なる。
ｄを添加し、次いでＣを添加した場合には、Ｎｉ コー
ト反応は行なわれるが表面が非常に粗面化したコートと
なる。
ａ、ｂの混合液が、粒子の衷面積１痛 当り０．１．ｅ
以下では、未被覆部分が多くなり、１以上では表面のざ
らざらしたコート層しか得られない。
以下では、未被覆部分が多くなり、１以上では表面のざ
らざらしたコート層しか得られない。
次いで、上記Ｎｉ コートされたセラミックス粒子を電
解槽に入れ、電解コート処理によって表面に多数の安定
した突起を有する金属層で被覆した粒子とする。
解槽に入れ、電解コート処理によって表面に多数の安定
した突起を有する金属層で被覆した粒子とする。
上記電解に用いる電解槽は、水平バレル回転型で、その
−例を第１図なｔハし第３図に示す。第１図および第２
図は、電解槽の縦断面図および横断面図で、図中符号１
は有底円筒状で円筒軸線１ａが水平となるように保持さ
れた胃、飼槽本体である。
−例を第１図なｔハし第３図に示す。第１図および第２
図は、電解槽の縦断面図および横断面図で、図中符号１
は有底円筒状で円筒軸線１ａが水平となるように保持さ
れた胃、飼槽本体である。
電解槽本体１の開口縁には、フランジ２が取付けられて
い左。このフランジ２には、蓋部３が着脱自在に取付け
られ、電解槽本体１を密閉している。
い左。このフランジ２には、蓋部３が着脱自在に取付け
られ、電解槽本体１を密閉している。
蓋部３の中心には、蓋部を貫通し、上記円筒軸線１ａに
沿う陽極棒４が固定されている。電解槽本体１および蓋
部３は通常合成樹脂等電気的絶縁物でつくられている。
沿う陽極棒４が固定されている。電解槽本体１および蓋
部３は通常合成樹脂等電気的絶縁物でつくられている。
蓋部３の内面には、陽極棒４を同心状に囲む有底円筒状
の網状の隔膜５の開口縁が取付けられ、陽極室６および
後述する陰極が設けられた陰極室７に区分されている。
の網状の隔膜５の開口縁が取付けられ、陽極室６および
後述する陰極が設けられた陰極室７に区分されている。
隔膜５の網目はセラミックス粒子を通過しない大きさで
、筐た陽極室６および陰極室７には、発生するガスを排
出する陽極室排出管１０および陰極室排出管１１が暇付
けられている。
、筐た陽極室６および陰極室７には、発生するガスを排
出する陽極室排出管１０および陰極室排出管１１が暇付
けられている。
電解槽本体１の内周面１ｂには、円筒軸線１ａに平行か
つ等間隔に４本（通常３〜５本）の陰極８が設けられ、
負に印加させる端子９が電解槽本体１の外部に引出され
ている。また、電解槽は円筒軸線１ａを中心として回転
駆動され、第３図に示す角θの間にある陰極のみが通電
されるようになっている。
つ等間隔に４本（通常３〜５本）の陰極８が設けられ、
負に印加させる端子９が電解槽本体１の外部に引出され
ている。また、電解槽は円筒軸線１ａを中心として回転
駆動され、第３図に示す角θの間にある陰極のみが通電
されるようになっている。
上記電解槽に用いる電解液は、目的とする金属の析出が
可能で、かつ陰分極が小さいことが望ましい。したがっ
て電解が可能であれげ錯化剤は使用しない方がよく、ま
た金属イオン濃度は大きい方がよい。
可能で、かつ陰分極が小さいことが望ましい。したがっ
て電解が可能であれげ錯化剤は使用しない方がよく、ま
た金属イオン濃度は大きい方がよい。
一！た、電解液組成は、当然のことながらコートする金
属によって異なるが、例えば、 Ｎ１ コートの場合の
液組成は、 ＮｉＳＯ４−６Ｈ２Ｏ： ２１０ ｔ／ＡＮｌ（Ｊ２−
６ Ｈ２Ｏ： ４８９−／Ｊ３Ｈ３ＰＯ３・ １９ ｆ
−／Ａ ｐＨｓ〜６ ｃｏ コートの場合には、 Ｃｏ５０４（ＮＨ４）・２ＳＯ４−６Ｈ２Ｏ： １５０
ｔ／に３ＮＨ，（Ｊ ６９／１３ ＮａＣｊ！ １３９／１ ｐＨ（ＮＨ４０Ｈ） ・ ６ 等電気電導度の高いものが望ましい０ 金属の電解コートの操作は、陽極室６に原料金属１２を
十分充填し、陰極室７には所定量の鏡面Ｎｉ コートし
たセラミックス粒子１３を入れ、電解槽容量の２７３程
度の電解液１４を注入する。
属によって異なるが、例えば、 Ｎ１ コートの場合の
液組成は、 ＮｉＳＯ４−６Ｈ２Ｏ： ２１０ ｔ／ＡＮｌ（Ｊ２−
６ Ｈ２Ｏ： ４８９−／Ｊ３Ｈ３ＰＯ３・ １９ ｆ
−／Ａ ｐＨｓ〜６ ｃｏ コートの場合には、 Ｃｏ５０４（ＮＨ４）・２ＳＯ４−６Ｈ２Ｏ： １５０
ｔ／に３ＮＨ，（Ｊ ６９／１３ ＮａＣｊ！ １３９／１ ｐＨ（ＮＨ４０Ｈ） ・ ６ 等電気電導度の高いものが望ましい０ 金属の電解コートの操作は、陽極室６に原料金属１２を
十分充填し、陰極室７には所定量の鏡面Ｎｉ コートし
たセラミックス粒子１３を入れ、電解槽容量の２７３程
度の電解液１４を注入する。
この電解槽を円筒軸［１ａを中心として、所定回転速度
で回転駆動し電解を行なう。その際セラミックス粒子１
３は、円筒内周面１ｂをころがりながら、一定の安息角
を保持する位置に止まる。陰極８は順次周期的にセラミ
ックス粒子１３によって覆われる。この電解槽は、上記
粒子１３によって完全に覆われた（角θ内）陰極のみＫ
Ｍ電する間歇通電方式である。
で回転駆動し電解を行なう。その際セラミックス粒子１
３は、円筒内周面１ｂをころがりながら、一定の安息角
を保持する位置に止まる。陰極８は順次周期的にセラミ
ックス粒子１３によって覆われる。この電解槽は、上記
粒子１３によって完全に覆われた（角θ内）陰極のみＫ
Ｍ電する間歇通電方式である。
上記電解槽の回転数は、突起の成長の大きさを左右する
。最適回転数は電解槽の直径によって多少異るが−・通
常ｉ ５ ｒｐｍ 程度がよい。回転数が余り大きくな
ると、個々の粒子のころがりが悪くなり、内周面１ｂに
粒子が固着したり、複数個結合してコートされる割合が
増加し、凧粒製品収率が低下する。しかし、との電解方
式では、回転数が大きくなる程、突起の成長がよくなり
嵩比重は小さくなる傾向があり、嵩比重をを測定するこ
とにより突起数、大きさが判定出来る。
。最適回転数は電解槽の直径によって多少異るが−・通
常ｉ ５ ｒｐｍ 程度がよい。回転数が余り大きくな
ると、個々の粒子のころがりが悪くなり、内周面１ｂに
粒子が固着したり、複数個結合してコートされる割合が
増加し、凧粒製品収率が低下する。しかし、との電解方
式では、回転数が大きくなる程、突起の成長がよくなり
嵩比重は小さくなる傾向があり、嵩比重をを測定するこ
とにより突起数、大きさが判定出来る。
すなわち、 ！、解操作条件を選んで電解コートするこ
とにより、所望の突起を有する金属によってコート謬れ
たセラミックス粒子が得られる。
とにより、所望の突起を有する金属によってコート謬れ
たセラミックス粒子が得られる。
以下実施例を示し本発明を具体的に説明する。
実施例１
ａ：１５ｙ−／Ｊ３、ｂ：１０ｙ−／、８の濃度のコー
ト浴４．８１に６１７０／２００のＣＢＮｌｏｏＯＣＴ
（カラット）を投入混合し、これを９３℃に保持して
、Ｃ： １１９を添加して十分攪拌した。Ｃを投入して
０．５分後にｄ ： ｆ！５Ｓ’を小量の純水に溶解し
た水溶液を一度に注入した。反応は約３分で終了した。
ト浴４．８１に６１７０／２００のＣＢＮｌｏｏＯＣＴ
（カラット）を投入混合し、これを９３℃に保持して
、Ｃ： １１９を添加して十分攪拌した。Ｃを投入して
０．５分後にｄ ： ｆ！５Ｓ’を小量の純水に溶解し
た水溶液を一度に注入した。反応は約３分で終了した。
つソいて、上記Ｎｉ コー）ＣＢＮを水洗浄后第２次化
学コート浴５．３Ｊｌ ’（ａ ： ４１ｇ／沼、ｂ４
２６９／Ｊ３、クエン酸ナトリウム：５、９９／Ｊ 、
コハク酸ナトリウム５．４’／Ｉｔを溶解した水溶液）
に投入し、８０〜８５℃に保持し、粒子が沈降しない程
度に攪拌しながら、ｄ’１２０ｇｒｙ溶解した水溶液ｌ
ｌケ、８時間かけて注入し反応させてＮｉ コー）計１
７．２％（総重ｊｉｌｔ ２０ ｆｌ、５ Ｃ’Ｔ）の
鏡面状のＮｉ層によって被ＮぎれたＣＢＮが得られた。
学コート浴５．３Ｊｌ ’（ａ ： ４１ｇ／沼、ｂ４
２６９／Ｊ３、クエン酸ナトリウム：５、９９／Ｊ 、
コハク酸ナトリウム５．４’／Ｉｔを溶解した水溶液）
に投入し、８０〜８５℃に保持し、粒子が沈降しない程
度に攪拌しながら、ｄ’１２０ｇｒｙ溶解した水溶液ｌ
ｌケ、８時間かけて注入し反応させてＮｉ コー）計１
７．２％（総重ｊｉｌｔ ２０ ｆｌ、５ Ｃ’Ｔ）の
鏡面状のＮｉ層によって被ＮぎれたＣＢＮが得られた。
このＣ’ＢＮ粒子を、内寸法１２５闘グＸ２００朋り、
塩化ヒーール製の第１図に示した電解槽の陰極室に入れ
、コバルト金属原料χ陰極室に充填して電解槽を組立て
た。
塩化ヒーール製の第１図に示した電解槽の陰極室に入れ
、コバルト金属原料χ陰極室に充填して電解槽を組立て
た。
電解液は、前記、Ｃｏ５０．（ＮＨ４”）ｔｓｑ−ＲＨ
２０：１５０り／Ｉｔ％ ＮＨ，Ｃ７ｌ： ｄり／ｌ
、ＮａＣ１’ １３９／ｌ、ｐＨ：Ｎのコバルトコート
液ヲ活性炭で処理し、突起の成長に有害な界面活性剤等
の有機不純物乞除去した後、１．４Ａを陽極室排出管よ
り注入して用いた。
２０：１５０り／Ｉｔ％ ＮＨ，Ｃ７ｌ： ｄり／ｌ
、ＮａＣ１’ １３９／ｌ、ｐＨ：Ｎのコバルトコート
液ヲ活性炭で処理し、突起の成長に有害な界面活性剤等
の有機不純物乞除去した後、１．４Ａを陽極室排出管よ
り注入して用いた。
上記電解槽ン１８ｒｐｍ で回転しながら、５Ａの電流
電流して７８時間４７分の電解ヶ行なった。
電流して７８時間４７分の電解ヶ行なった。
しかし通電は間歇的で、４本の陰極のうち、被コート粒
子１３に埋没して吟る（第３図に示す角θが６０°の区
間）陰極のみに通電したので、通電時間は４９時間１２
分であり、通Ｗｌ量は２４６ ＡＨであった。電解中、
２４時間経過毎に−の調整を行なった。電解終了後、コ
バルトコートしたＣＢＮ粒子を取出し、洗浄、乾燥後秤
量したところ、総重量は２５０１．．９ＣＴでコート量
は６０゜３ｗｔ％、陰極側電流効率は９５．８３４であ
った。
子１３に埋没して吟る（第３図に示す角θが６０°の区
間）陰極のみに通電したので、通電時間は４９時間１２
分であり、通Ｗｌ量は２４６ ＡＨであった。電解中、
２４時間経過毎に−の調整を行なった。電解終了後、コ
バルトコートしたＣＢＮ粒子を取出し、洗浄、乾燥後秤
量したところ、総重量は２５０１．．９ＣＴでコート量
は６０゜３ｗｔ％、陰極側電流効率は９５．８３４であ
った。
上記コバルトコートした粒子を篩分級により、単粒コー
ト品（良品）と複数個結合粒（不良品）とに分離したと
ころ、良品の収率は、８６．５ ％であった。また良品
についてＡＳＴＭ 法により嵩比重を測定したところ多
量の突起を有するため、１．６１と極めて小さい値を示
した。
ト品（良品）と複数個結合粒（不良品）とに分離したと
ころ、良品の収率は、８６．５ ％であった。また良品
についてＡＳＴＭ 法により嵩比重を測定したところ多
量の突起を有するため、１．６１と極めて小さい値を示
した。
なお、電解コートを行なう代りに、通常の方法で、Ｎｉ
化学コートによりＮｌ を６０ ｗｔ 係コートした
が、同様にして測定した粒子の嵩比重は、２．９〜３．
２を示し、電解法によるｃｏ コートが優れているとと
を示した。
化学コートによりＮｌ を６０ ｗｔ 係コートした
が、同様にして測定した粒子の嵩比重は、２．９〜３．
２を示し、電解法によるｃｏ コートが優れているとと
を示した。
実施例２
実施例１と同じＮｉ 化学；−トしたＣＢＮ ：２００
ＣＴを、内寸法１２５１１１１φ×３５隨りとした外は
、陰極数、通電角θその他を同じにした電解槽に充填し
、コバルトコート電解液２５０ｒｎＩ。
ＣＴを、内寸法１２５１１１１φ×３５隨りとした外は
、陰極数、通電角θその他を同じにした電解槽に充填し
、コバルトコート電解液２５０ｒｎＩ。
電流ＩＡで約３日の電解を種々な回転数で行ない、それ
ぞれの回転数における金属コート量のｗｔ ４、および
粒子の嵩比重を測定した。結果を第１表に示す。
ぞれの回転数における金属コート量のｗｔ ４、および
粒子の嵩比重を測定した。結果を第１表に示す。
第１表
回転数と嵩比重の関係は、第４図に示すように回転数が
多い程小さくなる連続した曲線となる。
多い程小さくなる連続した曲線となる。
この理由は、回転数が遅いと電解液の攪拌が不充分とな
り、微小粒子表面層と内部で電解液の濃度に差を生じ、
内部の濃度分極が大きくなり、内部に電流が流れ難くな
って、表面層に電流が集中し、表面層の電流密度が大と
なり、均一な電解コート層に近くなるためと思料する。
り、微小粒子表面層と内部で電解液の濃度に差を生じ、
内部の濃度分極が大きくなり、内部に電流が流れ難くな
って、表面層に電流が集中し、表面層の電流密度が大と
なり、均一な電解コート層に近くなるためと思料する。
また、逆に回転数が速く、攪拌が充分に行なわれ、濃度
分極の全くない理想的な状態であれば、粒子表面積すべ
てが、同じ電位となることも可能なように、電導変のよ
い電解液を用いているので、電流密度が極めて小さくな
り、粒子表面の活性点への結晶成長が優先するので突起
を生じ、一旦生成した突起には電流の集中が起り、突起
の成長が促進されるものと思料する。
分極の全くない理想的な状態であれば、粒子表面積すべ
てが、同じ電位となることも可能なように、電導変のよ
い電解液を用いているので、電流密度が極めて小さくな
り、粒子表面の活性点への結晶成長が優先するので突起
を生じ、一旦生成した突起には電流の集中が起り、突起
の成長が促進されるものと思料する。
上記得られた４種類のＣＢＮ コバルトコート砥粒を用
いてレジンボンド砥石、６Ａ２型（濃度＝７５．１００
Ｄ×３５Ｔ×２Ｘ×３Ｗ×１５Ｅ×３８．１Ｈ）を製作
し、研削比を測定した。
いてレジンボンド砥石、６Ａ２型（濃度＝７５．１００
Ｄ×３５Ｔ×２Ｘ×３Ｗ×１５Ｅ×３８．１Ｈ）を製作
し、研削比を測定した。
試験装置：砥石軸モータ１．５ ＫＷの自動車工具研削
盤、使用材料：高周波ステッキバイトＪＩＳＪＳ型、（
ＳＫＨ−５７相当、Ｈｎｃ：６８）砥石周速：１１６０
ｍ／ ｍｉｎ 、切込；１００μ／ｐａｓｓ、テーブ
ル送り速度：２”／ｍｉｎ でトラバース研削した。
盤、使用材料：高周波ステッキバイトＪＩＳＪＳ型、（
ＳＫＨ−５７相当、Ｈｎｃ：６８）砥石周速：１１６０
ｍ／ ｍｉｎ 、切込；１００μ／ｐａｓｓ、テーブ
ル送り速度：２”／ｍｉｎ でトラバース研削した。
その結果を第５図に示す。図より明らかなように、嵩比
重の小さなもの程、突起が多数で大きく、研削比が大と
なり、砥粒としてぼれ、砥石が長持ちすることン示した
。この理由は、突起が大きくなる程、樹脂の砥粒保持力
が大となり、かつ研削時の熱放散がよくなるためと考え
る。
重の小さなもの程、突起が多数で大きく、研削比が大と
なり、砥粒としてぼれ、砥石が長持ちすることン示した
。この理由は、突起が大きくなる程、樹脂の砥粒保持力
が大となり、かつ研削時の熱放散がよくなるためと考え
る。
実施例８
＋ ２８０／２ ’Ｉ ＯのＣ’ＢＮ２００Ｃ’Ｔを実
施例１と同様にしてＮｉ 化学コートし、総重臘２８
ｆｌ、 ｆｌ ９ＣＴ （Ｎｉ ｆｉｌ ５−５ｗｔ％
） のＮｉ コートｃＢＮ粒子とした。
施例１と同様にしてＮｉ 化学コートし、総重臘２８
ｆｌ、 ｆｌ ９ＣＴ （Ｎｉ ｆｉｌ ５−５ｗｔ％
） のＮｉ コートｃＢＮ粒子とした。
この粒子を被コート粒子とし、ニッケル金属材料ン陽極
室に入れ、Ｎ１５Ｏ，−ｆｌＨ２０： ２１０ｇ／ｌ、
ＮｉＣ４−ＮＨ２Ｏ： ４８９／ｌｌ−Ｈ３ＰＯ３’１
９９／１１．ｐＨ’ ５〜６のニッケルコート電解液２
００ ｍｌン用い、実施例２と同じ電解槽を用いて、電
解Ｎｉ コートした。電解槽の回転数は、１５ｒｐｍ。
室に入れ、Ｎ１５Ｏ，−ｆｌＨ２０： ２１０ｇ／ｌ、
ＮｉＣ４−ＮＨ２Ｏ： ４８９／ｌｌ−Ｈ３ＰＯ３’１
９９／１１．ｐＨ’ ５〜６のニッケルコート電解液２
００ ｍｌン用い、実施例２と同じ電解槽を用いて、電
解Ｎｉ コートした。電解槽の回転数は、１５ｒｐｍ。
Ｗｉ流ＩＡにより、７８時間１０分の間歇通！ン行ない
、はぼ２４時間毎に電解液のｐＨ調整７行なった。この
間の通電時間は、４８時間４６分であり、通電量は、４
Ｂ、８ＡＨであった。
、はぼ２４時間毎に電解液のｐＨ調整７行なった。この
間の通電時間は、４８時間４６分であり、通電量は、４
Ｂ、８ＡＨであった。
電解終了後、Ｎｌ コートされ九ＣＢＮ 粒子を取出し
、洗浄、乾燥後秤量したところ、４９９．３ＣＴとなり
、コート會は５９．９４ ％で、陰極側電流効率は、９
８．３係であった。
、洗浄、乾燥後秤量したところ、４９９．３ＣＴとなり
、コート會は５９．９４ ％で、陰極側電流効率は、９
８．３係であった。
得られたＮ１ コー）ＣＢＮ を実施例１と同様にして
良品の割合を測守したところ８８．２ ％で、その嵩比
重は、１．８６であった。
良品の割合を測守したところ８８．２ ％で、その嵩比
重は、１．８６であった。
以上述べたように、本発明に係る金属コート方法は、セ
ラミックス粒子に未コート部分、電解活性点の少ない化
学コートを施した後、特殊な電解槽によって電解コート
することにより、表面に多数の大きい突起を有する金属
層によって均一かつ強固に被覆することが出来、レジン
ボンド砥石の砥粒として優れたものが得られる。
ラミックス粒子に未コート部分、電解活性点の少ない化
学コートを施した後、特殊な電解槽によって電解コート
することにより、表面に多数の大きい突起を有する金属
層によって均一かつ強固に被覆することが出来、レジン
ボンド砥石の砥粒として優れたものが得られる。
第１図ないし第３図は、本発明の方法において使用する
電解槽の一例を示すもので、第１図は縦断面図、第２図
は、第１図のｌｌ−１線視断面図、第３図は、陰極の通
電区間を示す図、第４図および第５図は、ＣＢＮ ｆ
Ｎｉ化学コート、コバルト金属コートした砥粒に関する
もので、第４図は、電解槽の回転数と嵩比重との関係を
示す図、第５図は、嵩比重の異なる砥粒によって製造し
７たレジンボンド砥石の研削比と、上記嵩比重との関係
を示す図である。 １・・・・・・電解槽本体、ｌａ・・・・・・円筒軸線
、１ｂ・・・・・・内周面、２・・・・・・フランジ、
３・・・・・・蓋部、４・・・・・・陽極棒、５・・・
・・・網状隔膜、６・・・・・・陽極室、７・・団・陰
極室、８・・・・・・陰極、９・・・・・・備子、１０
・・・・・・陰極室排出管、１１・・・・・・陰極室排
出管、１２・・団・原料金属、１３・・・・・・鏡面コ
ートされたセラミツ′ダ噌子、１４・・・・・・電解液
。 ｏ、、Ｊ 第２図 ２２ 第３図 ６ ８ Ｉｏ １２ １４１５ ７７ ｃｐ、ｍ 鬼七し１ −
電解槽の一例を示すもので、第１図は縦断面図、第２図
は、第１図のｌｌ−１線視断面図、第３図は、陰極の通
電区間を示す図、第４図および第５図は、ＣＢＮ ｆ
Ｎｉ化学コート、コバルト金属コートした砥粒に関する
もので、第４図は、電解槽の回転数と嵩比重との関係を
示す図、第５図は、嵩比重の異なる砥粒によって製造し
７たレジンボンド砥石の研削比と、上記嵩比重との関係
を示す図である。 １・・・・・・電解槽本体、ｌａ・・・・・・円筒軸線
、１ｂ・・・・・・内周面、２・・・・・・フランジ、
３・・・・・・蓋部、４・・・・・・陽極棒、５・・・
・・・網状隔膜、６・・・・・・陽極室、７・・団・陰
極室、８・・・・・・陰極、９・・・・・・備子、１０
・・・・・・陰極室排出管、１１・・・・・・陰極室排
出管、１２・・団・原料金属、１３・・・・・・鏡面コ
ートされたセラミツ′ダ噌子、１４・・・・・・電解液
。 ｏ、、Ｊ 第２図 ２２ 第３図 ６ ８ Ｉｏ １２ １４１５ ７７ ｃｐ、ｍ 鬼七し１ −
Claims (1)
- セラミックス粒子を先ず化学コート法により、活性点の
少ない平滑な面に金属コートし、次いで電解法により金
属コートすることを特徴とするセラミックス粒子の突起
を有する金属コート方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16097783A JPS6052594A (ja) | 1983-09-01 | 1983-09-01 | セラミックス粒子の突起を有する金属コ−ト方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16097783A JPS6052594A (ja) | 1983-09-01 | 1983-09-01 | セラミックス粒子の突起を有する金属コ−ト方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6052594A true JPS6052594A (ja) | 1985-03-25 |
Family
ID=15726227
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16097783A Pending JPS6052594A (ja) | 1983-09-01 | 1983-09-01 | セラミックス粒子の突起を有する金属コ−ト方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6052594A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5283116A (en) * | 1990-04-17 | 1994-02-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Sheet feeding member having a film containing inorganic powder |
| US6199281B1 (en) * | 1999-11-23 | 2001-03-13 | Industrial Technology Research Institute | Method of preparing a hearth roll with a coating |
| JP2004001165A (ja) * | 2002-04-11 | 2004-01-08 | Showa Denko Kk | 金属被覆研削材、金属被覆研削材を用いた砥石および金属被覆研削材の製造方法 |
| US7097678B2 (en) | 2003-01-06 | 2006-08-29 | Showa Denko K.K. | Metal-coated cubic boron nitride abrasive grain, production method thereof, and resin bonded grinding wheel |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5647591A (en) * | 1979-09-18 | 1981-04-30 | Johnson Matthey Co Ltd | Composite body product and manufacture of same |
| JPS58104079A (ja) * | 1981-12-15 | 1983-06-21 | シエ−リング・アクチエンゲゼルシヤフト | セラミツク材料の固着金属化法 |
-
1983
- 1983-09-01 JP JP16097783A patent/JPS6052594A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5647591A (en) * | 1979-09-18 | 1981-04-30 | Johnson Matthey Co Ltd | Composite body product and manufacture of same |
| JPS58104079A (ja) * | 1981-12-15 | 1983-06-21 | シエ−リング・アクチエンゲゼルシヤフト | セラミツク材料の固着金属化法 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5283116A (en) * | 1990-04-17 | 1994-02-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Sheet feeding member having a film containing inorganic powder |
| US5404154A (en) * | 1990-04-17 | 1995-04-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Sheet feeding member having a film containing inorganic power |
| US6199281B1 (en) * | 1999-11-23 | 2001-03-13 | Industrial Technology Research Institute | Method of preparing a hearth roll with a coating |
| JP2004001165A (ja) * | 2002-04-11 | 2004-01-08 | Showa Denko Kk | 金属被覆研削材、金属被覆研削材を用いた砥石および金属被覆研削材の製造方法 |
| US7097678B2 (en) | 2003-01-06 | 2006-08-29 | Showa Denko K.K. | Metal-coated cubic boron nitride abrasive grain, production method thereof, and resin bonded grinding wheel |
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