JPS6051131A - 重合用ブテン−1の回収法 - Google Patents
重合用ブテン−1の回収法Info
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- JPS6051131A JPS6051131A JP59155719A JP15571984A JPS6051131A JP S6051131 A JPS6051131 A JP S6051131A JP 59155719 A JP59155719 A JP 59155719A JP 15571984 A JP15571984 A JP 15571984A JP S6051131 A JPS6051131 A JP S6051131A
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- Japan
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C11/00—Aliphatic unsaturated hydrocarbons
- C07C11/02—Alkenes
- C07C11/08—Alkenes with four carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C7/00—Purification; Separation; Use of additives
- C07C7/005—Processes comprising at least two steps in series
-
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C7/00—Purification; Separation; Use of additives
- C07C7/04—Purification; Separation; Use of additives by distillation
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- Analytical Chemistry (AREA)
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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- Treatment Of Liquids With Adsorbents In General (AREA)
- Extraction Or Liquid Replacement (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
−1(以下、重合用ブテン−1という)を回収する方法
に係わる。
に係わる。
ブテン−Jは、各種の割合でブテン−1、イノブタン、
イソブテン、n−ブタン、ブテン−2及び飽和及びオレ
フィン系c3 及びc5炭化水素、フリジエン、アセチ
レン誘導体ヲ@有するc4 炭化水素フラクション中に
含まれる。
イソブテン、n−ブタン、ブテン−2及び飽和及びオレ
フィン系c3 及びc5炭化水素、フリジエン、アセチ
レン誘導体ヲ@有するc4 炭化水素フラクション中に
含まれる。
本発明により原料として使用されるc4炭化水素フラク
ションは、フリジエン及びアセチレン誘導体の含量が低
いものであり、かがる1ヴ科が水蒸気クラッキングから
のものである場合には、溶媒又は他の方法により、その
中に含有される多瞬のブタジェンを除去しなければなら
ない。
ションは、フリジエン及びアセチレン誘導体の含量が低
いものであり、かがる1ヴ科が水蒸気クラッキングから
のものである場合には、溶媒又は他の方法により、その
中に含有される多瞬のブタジェンを除去しなければなら
ない。
本発明により使用されるc4 炭化水素フラクションの
組成は以下の範囲内である。
組成は以下の範囲内である。
C50,2−1,5(重量%〕
1 04 ] 30
i−C−1,0−60
−0320
1−0−10−4’0
2−c −8−30
Cs O,1,−1,0
ブタジ工ン士アセチレン系0.1−6
現在直面している問題点は、ブタジェン及びアセチレン
誘導体の送択的水素化工程におけるブテン−jのブテン
−2への転化を、いかにしてできるかぎり低率に抑制し
、ブテン−1の回収を行なうかにある。
誘導体の送択的水素化工程におけるブテン−jのブテン
−2への転化を、いかにしてできるかぎり低率に抑制し
、ブテン−1の回収を行なうかにある。
公知の方法では、ブタジェン及びアセチレン系炭化水素
の選択的水素化を、ブテン−1からの各種成分の分離前
に行なわなければならない旨教示している。しかし、か
かる公知の方法によシ操作する場合には、水素化と共に
、ブテン−1のブテン−2への異性化が生ずる。
の選択的水素化を、ブテン−1からの各種成分の分離前
に行なわなければならない旨教示している。しかし、か
かる公知の方法によシ操作する場合には、水素化と共に
、ブテン−1のブテン−2への異性化が生ずる。
タジエンの敏に左右、される。ブテン−]の組成中に許
容されるブタジェンの最大含量が低ければ低いほど、水
素化後におけるC4 流中の残留ブタジェンの量も低く
なければならず、ブテン−2への異性化のためブテン−
1の損失も大きくなる。
容されるブタジェンの最大含量が低ければ低いほど、水
素化後におけるC4 流中の残留ブタジェンの量も低く
なければならず、ブテン−2への異性化のためブテン−
1の損失も大きくなる。
たとえば、水素化工程へ供給されるフラクション中のブ
タジェン含意が約2係のもの全使用するとすれば、ブテ
ン−1についての組成中における許容最大ブタジェン含
量が200 ppmであれば、異性化によるブテン−1
の損失は約2重量係であり、ブテン−1についての組成
中における許容最大ブタジェン含量が50 ppmであ
れは、ブテン−1の異性化による損失は5電量チ以上で
ある。
タジェン含意が約2係のもの全使用するとすれば、ブテ
ン−1についての組成中における許容最大ブタジェン含
量が200 ppmであれば、異性化によるブテン−1
の損失は約2重量係であり、ブテン−1についての組成
中における許容最大ブタジェン含量が50 ppmであ
れは、ブテン−1の異性化による損失は5電量チ以上で
ある。
発明者らは、ブタジェン及びアセチレン誘導体の選択的
水素化をプラントの適切な部位で行なうことにより、従
来法による欠点全低減できることを見出し、本発明に至
った。
水素化をプラントの適切な部位で行なうことにより、従
来法による欠点全低減できることを見出し、本発明に至
った。
捷ず、C4フラクションについて従来法によりイソブチ
ン除去を行なう。すなわち、スチレン−ジビニベンゼン
マトリックス上にスルホンe官能基をもつ不均一触媒(
特にAmberLyst 15 ) の存在下、脂肪族
アルコールとの反応によりイソフ゛テンをアルキル−第
3ブチルエーテルに変化させる。
ン除去を行なう。すなわち、スチレン−ジビニベンゼン
マトリックス上にスルホンe官能基をもつ不均一触媒(
特にAmberLyst 15 ) の存在下、脂肪族
アルコールとの反応によりイソフ゛テンをアルキル−第
3ブチルエーテルに変化させる。
この反応により、実質的にすべてのインブテンがアルキ
ル−第3ブチルエーテルに変化し、その後、公知の蒸留
法により除去する。
ル−第3ブチルエーテルに変化し、その後、公知の蒸留
法により除去する。
本発明による方法では、上述の成分を含有すると共に、
完全に又は実質的にイソブチンを除去し対 たC フラクションを、圧力5ないし20絶体気田で作
動する第1蒸貿塔で蒸留して、主としてイソブチンでな
る塔頂留分及び残りの成分でなる塔底留分を得る。つい
で、後者の留分全第2蒸留塔り”」 において、圧力3ないし10絶〜気圧で蒸留して、80
ないし95%の純度レベルをもつブテン−”■でなる塔
頂留分(ブテン−1に力0えて、基本的にブタン及びブ
タジェン士アセチレン誘導体を含有する)及び高沸点化
合物、n−ブタン及びシス−及びトランス−ブテン−2
を含有する塔底留分を(与る。
完全に又は実質的にイソブチンを除去し対 たC フラクションを、圧力5ないし20絶体気田で作
動する第1蒸貿塔で蒸留して、主としてイソブチンでな
る塔頂留分及び残りの成分でなる塔底留分を得る。つい
で、後者の留分全第2蒸留塔り”」 において、圧力3ないし10絶〜気圧で蒸留して、80
ないし95%の純度レベルをもつブテン−”■でなる塔
頂留分(ブテン−1に力0えて、基本的にブタン及びブ
タジェン士アセチレン誘導体を含有する)及び高沸点化
合物、n−ブタン及びシス−及びトランス−ブテン−2
を含有する塔底留分を(与る。
第2蒸留塔からの塔頂留分を、ブタジェン及びアセチレ
ン誘導体の選択水素化装置に供給して、これら化合物の
濃度を、重合用ブテン−1の組成に適合するものとする
ため、30ないし2 Q O,ppmの範囲の値まで低
減させる。
ン誘導体の選択水素化装置に供給して、これら化合物の
濃度を、重合用ブテン−1の組成に適合するものとする
ため、30ないし2 Q O,ppmの範囲の値まで低
減させる。
この水素化装置は、入口温度35ないし50 ’C。
対
操作圧力4ないし20絶浅気圧で作動する。
ジエン及びアセチレン系化合物を除去した選択的水素化
装置からの留分子i[留塔に供給し、正方対 3ないし10fe%気田で蒸留して、塔の頂部に近いだ
な段から重合用ブテン−1孕鴫ると共に、塔底留分とし
て、n−ブタン及びブテン−2及び少量のブテン−1を
得る。
装置からの留分子i[留塔に供給し、正方対 3ないし10fe%気田で蒸留して、塔の頂部に近いだ
な段から重合用ブテン−1孕鴫ると共に、塔底留分とし
て、n−ブタン及びブテン−2及び少量のブテン−1を
得る。
本発明による方法では、原料の04 フラクションに添
加したブチ/−1からブテン−2への結合異性化抑制剤
の存在下において選択的水素化を行なう場合にも、反応
条件として温和な条件−i ′:flJ用できる利点を
保持している。
加したブチ/−1からブテン−2への結合異性化抑制剤
の存在下において選択的水素化を行なう場合にも、反応
条件として温和な条件−i ′:flJ用できる利点を
保持している。
さらに、本発明による方法では、いかなる場合にも、選
択的水素化に必要な装置の寸法を低減でき、したがって
投下資本を低減できる利点を有する。
択的水素化に必要な装置の寸法を低減でき、したがって
投下資本を低減できる利点を有する。
各種原料流の成分の種類については、以下の実施例に参
照するが、各留分中の各種成分の濃度及び各工程におけ
る操作圧力については本発明を制限するものとして示し
たものではない。
照するが、各留分中の各種成分の濃度及び各工程におけ
る操作圧力については本発明を制限するものとして示し
たものではない。
実施例
本発明の″)5法の実姉に好適な1具体例を示す添付ノ
フローチャートに従って、本実篩例を行なった。図中、
符号1は、ブテン−1、イソブチン、ブタジェン及びア
セチレン誘導体等を含有するC4流を示す。2はイソブ
チンのエーテル化装置16に供給されるアルコールであ
り、3は生成したメチル−第3−ブチルエーテルでちり
、4は実質的にイソブチンが除去されたC4 流を示す
。18は対 約14絶捧気干で作動する第1蒸留塔であり、5は王と
してインブタンでなる塔頂留分てあり、6給される。7
は主としてブテン−1でなる留分であり、8は重質生成
物を含有する留分である。留分7は水素化装置17に供
給され、この水素化装置17にはライン19により水素
が供給される。
フローチャートに従って、本実篩例を行なった。図中、
符号1は、ブテン−1、イソブチン、ブタジェン及びア
セチレン誘導体等を含有するC4流を示す。2はイソブ
チンのエーテル化装置16に供給されるアルコールであ
り、3は生成したメチル−第3−ブチルエーテルでちり
、4は実質的にイソブチンが除去されたC4 流を示す
。18は対 約14絶捧気干で作動する第1蒸留塔であり、5は王と
してインブタンでなる塔頂留分てあり、6給される。7
は主としてブテン−1でなる留分であり、8は重質生成
物を含有する留分である。留分7は水素化装置17に供
給され、この水素化装置17にはライン19により水素
が供給される。
この装置から、主として過剰の水素及びブテン−1でな
る留分11が排出される。10は水素化留対 分であって、モカ約7絶体気田で作動される分別塔(蒸
留塔)20に供給され、この塔の頂部から非凝縮性物質
及びブテン−1でなる留分12が、頂部から10番目の
だな段から嘱合用ブテノ−1でなる留分13が、塔底か
らn−ブタン及びブテン−2でなる残渣14が碍られる
。
る留分11が排出される。10は水素化留対 分であって、モカ約7絶体気田で作動される分別塔(蒸
留塔)20に供給され、この塔の頂部から非凝縮性物質
及びブテン−1でなる留分12が、頂部から10番目の
だな段から嘱合用ブテノ−1でなる留分13が、塔底か
らn−ブタン及びブテン−2でなる残渣14が碍られる
。
流れ15は留分5.8旋び14の合わされたものである
。
。
かかる方法の物質収支を以下の表に示す。なお位置番号
は添付図面中の符号である。
は添付図面中の符号である。
図面は本発明方法の実施に好適な1具体例のフローチャ
ー1・である。 16・・エーテル化装置、】7・・水素化装置、18・
・第1蒸留塔、19拳・第2蒸留塔、20・・分別塔。
ー1・である。 16・・エーテル化装置、】7・・水素化装置、18・
・第1蒸留塔、19拳・第2蒸留塔、20・・分別塔。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 イソブチンを完全に又は実質的に除去したブテン−1含
有C4フラクションから重合用ブテン−1を回収する方
法において、該C4フラクション対 全第1蒸留塔において圧力5ないし20絶\気田で蒸留
して、主としてイノブタンを含有する塔頂留分及び残り
の成分でなる塔底留分を寿、該残シし95妬のブテン−
1でなる塔頂留分及び高dト点化合物、n−ブタン及び
シス−及びトランス−ブテン−2でなる塔底留分を優る
と共に、前記第2蒸留塔からの塔頂留分をブタジェン及
びアセチレン誘導体の選択水素化装置に供給して、これ
らの化合物ので震度を30ないし200 ppmに低減
し、該選択水素イヒ装置からの流出物を蒸留塔に供給し
て、圧力3ないし10絶に気圧で蒸留し、塔頂に近いだ
な段から重合用ブテン−1を市ることを特徴とする、取
合用ブテン−1の回収法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
IT22294/83A IT1194351B (it) | 1983-07-28 | 1983-07-28 | Procedimento per il recupero di butene-1 grado polimerizzazione |
IT22294A/83 | 1983-07-28 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6051131A true JPS6051131A (ja) | 1985-03-22 |
Family
ID=11194295
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59155719A Pending JPS6051131A (ja) | 1983-07-28 | 1984-07-27 | 重合用ブテン−1の回収法 |
Country Status (26)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6051131A (ja) |
KR (1) | KR870000583B1 (ja) |
AU (1) | AU561302B2 (ja) |
BE (1) | BE900248A (ja) |
BR (1) | BR8403665A (ja) |
CA (1) | CA1232919A (ja) |
CS (1) | CS250667B2 (ja) |
DD (1) | DD222000A5 (ja) |
DE (1) | DE3426349A1 (ja) |
DK (1) | DK369484A (ja) |
ES (1) | ES8507007A1 (ja) |
FR (1) | FR2549825B1 (ja) |
GB (1) | GB2144146B (ja) |
GR (1) | GR82261B (ja) |
HU (1) | HUT36762A (ja) |
IT (1) | IT1194351B (ja) |
LU (1) | LU85466A1 (ja) |
NL (1) | NL8402384A (ja) |
NO (1) | NO843022L (ja) |
PL (1) | PL248948A1 (ja) |
PT (1) | PT78990B (ja) |
RO (1) | RO90623A (ja) |
SE (1) | SE8403426L (ja) |
TR (1) | TR22082A (ja) |
YU (1) | YU132184A (ja) |
ZA (1) | ZA845088B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003063281A (ja) * | 2001-08-29 | 2003-03-05 | Sanwa Tekki Corp | 電車線ハンガイヤ及びこれに用いる絶縁結合体 |
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US20090174676A1 (en) | 2008-01-04 | 2009-07-09 | Apple Inc. | Motion component dominance factors for motion locking of touch sensor data |
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US8576193B2 (en) | 2008-04-25 | 2013-11-05 | Apple Inc. | Brick layout and stackup for a touch screen |
US8319747B2 (en) | 2008-12-11 | 2012-11-27 | Apple Inc. | Single layer touch panel with segmented drive and sense electrodes |
US9261997B2 (en) | 2009-02-02 | 2016-02-16 | Apple Inc. | Touch regions in diamond configuration |
US8922521B2 (en) | 2009-02-02 | 2014-12-30 | Apple Inc. | Switching circuitry for touch sensitive display |
US8593410B2 (en) | 2009-04-10 | 2013-11-26 | Apple Inc. | Touch sensor panel design |
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US9329723B2 (en) | 2012-04-16 | 2016-05-03 | Apple Inc. | Reconstruction of original touch image from differential touch image |
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US10936120B2 (en) | 2014-05-22 | 2021-03-02 | Apple Inc. | Panel bootstraping architectures for in-cell self-capacitance |
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EP3175330B1 (en) | 2014-09-22 | 2022-04-20 | Apple Inc. | Ungrounded user signal compensation for pixelated self-capacitance touch sensor panel |
CN112379792A (zh) | 2014-10-27 | 2021-02-19 | 苹果公司 | 像素化自电容水排斥 |
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US10488992B2 (en) | 2015-03-10 | 2019-11-26 | Apple Inc. | Multi-chip touch architecture for scalability |
US10365773B2 (en) | 2015-09-30 | 2019-07-30 | Apple Inc. | Flexible scan plan using coarse mutual capacitance and fully-guarded measurements |
US10534481B2 (en) | 2015-09-30 | 2020-01-14 | Apple Inc. | High aspect ratio capacitive sensor panel |
AU2017208277B2 (en) | 2016-09-06 | 2018-12-20 | Apple Inc. | Back of cover touch sensors |
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US11662867B1 (en) | 2020-05-30 | 2023-05-30 | Apple Inc. | Hover detection on a touch sensor panel |
Family Cites Families (6)
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FR2474024A1 (fr) * | 1980-01-23 | 1981-07-24 | Inst Francais Du Petrole | Procede de production de butene-1 a partir d'une coupe c4 d'hydrocarbures |
FR2493306A1 (fr) * | 1980-10-30 | 1982-05-07 | Inst Francais Du Petrole | Procede d'obtention de butene-1 de haute purete a partir d'une coupe c4 olefinique |
FR2495605A1 (fr) * | 1980-12-05 | 1982-06-11 | Inst Francais Du Petrole | Procede d'obtention du butene-1 de haute purete a partir d'une coupe c4 olefinique |
FR2508437A1 (fr) * | 1981-06-26 | 1982-12-31 | Inst Francais Du Petrole | Procede d'obtention conjointe de butene-1 de haute purete et de supercarburant a partir d'une coupe c4 olefinique |
US4820472A (en) * | 1981-07-14 | 1989-04-11 | Westinghouse Electric Corp. | Nuclear reactor spent fuel storage rack |
-
1983
- 1983-07-28 IT IT22294/83A patent/IT1194351B/it active
-
1984
- 1984-06-27 SE SE8403426A patent/SE8403426L/xx not_active Application Discontinuation
- 1984-07-03 ZA ZA845088A patent/ZA845088B/xx unknown
- 1984-07-04 GR GR75186A patent/GR82261B/el unknown
- 1984-07-05 CS CS845243A patent/CS250667B2/cs unknown
- 1984-07-06 GB GB08417309A patent/GB2144146B/en not_active Expired
- 1984-07-16 LU LU85466A patent/LU85466A1/fr unknown
- 1984-07-17 DE DE19843426349 patent/DE3426349A1/de not_active Ceased
- 1984-07-19 BR BR8403665A patent/BR8403665A/pt unknown
- 1984-07-23 KR KR1019840004354A patent/KR870000583B1/ko active IP Right Grant
- 1984-07-23 AU AU30960/84A patent/AU561302B2/en not_active Expired - Fee Related
- 1984-07-24 CA CA000459574A patent/CA1232919A/en not_active Expired
- 1984-07-25 TR TR22082A patent/TR22082A/xx unknown
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2003063281A (ja) * | 2001-08-29 | 2003-03-05 | Sanwa Tekki Corp | 電車線ハンガイヤ及びこれに用いる絶縁結合体 |
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