JPS6048447B2 - 超硬高純度の微粒多結晶質窒化珪素 - Google Patents

超硬高純度の微粒多結晶質窒化珪素

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JPS6048447B2
JPS6048447B2 JP57233122A JP23312282A JPS6048447B2 JP S6048447 B2 JPS6048447 B2 JP S6048447B2 JP 57233122 A JP57233122 A JP 57233122A JP 23312282 A JP23312282 A JP 23312282A JP S6048447 B2 JPS6048447 B2 JP S6048447B2
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polycrystalline silicon
fine
hardness
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敏雄 平井
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TOHOKU DAIGAKU KINZOKU ZAIRYO KENKYU SHOCHO
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TOHOKU DAIGAKU KINZOKU ZAIRYO KENKYU SHOCHO
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は超硬高純度窒化珪素に係り、特に結晶粒の大き
さの平均が1μm未満の微結晶で一次錐組織が構成され
、マイクロビッカース硬度(以下MVHと称す)が荷重
l00gの時の値で4000〜5000に9/粛である
超硬高純度の微粒多結晶質窒化珪素を提供しようとする
ものてある。
従来、気相分解沈積による窒化珪素は知られており、そ
の製造方法は米国特許3226194号公報によれはS
IF。
とNH3の原料を300T$LHg以下のガス圧力で1
200〜1900℃の温度範囲で、上記温度に耐える基
体、なかでも好適には黒鉛、Al。O。、ホットプレス
BN、あるいは気相分解BN上て気相分解して沈積させ
、厚さ約17wt以下の結晶質あるいは非晶質からなる
窒化珪素が製造されており、前記結晶質の硬度はMVH
で2850に9/Trlitであり、高温の窓、燃料電
池の絶縁体、工具材、研磨剤に使用されることが記載さ
れている。また米国特許3637423号公報によれば
シリコンのハロゲン化物(SIX0)とアンモニア(N
H0)を低温で反応させ中間化合物SIX、・ 2NH
。を生成させ、これを真空中で100〜125℃の温度
範囲で蒸発させ、これをN2ガスにより搬送し850〜
13850Cの温度範囲で加熱した黒鉛又は高融点金属
上で分解反応させて窒化5珪素被膜が製造ちれており、
これらの窒化珪素被膜が沈積した材料は高温耐酸化性、
絶縁性が良いと記載されている。また特開昭50−13
319吋公報によればNH3とシリコン化合物が100
〜400℃で予備加熱され、上記混合ガスが400゜C
以上に加熱さ10れた基板上で気相分解沈積し、高緻密
度のS1。N。被膜が製造され、このものは半導体工業
の分野での利用が好適であると記載されている。また5
pecia1CeramicsV01.6(1973)
p305〜320に記載の論文題名「気相分解沈積Si
。N。被膜」15(Pyrolyticsilicon
nitrjdecoatjngs)によれば、原料とし
てSIYI、あるいはSICI。の何れかとNH。が8
00〜13800Cの温度範囲内で反応し、ガス圧力1
気圧下でキャリヤーガスとしてAr、No、1]。を用
い、黒鉛あるいは窒化珪素成型体あるいはSiか20ら
なる基体上で気相分解沈積し、厚さ最大O、87m7L
の結晶質あるいは非晶質からなる窒化珪素被膜が製造さ
れている。なお同論文によれば1μm以上の厚さの非晶
質窒化珪素にあつてはマイクロクラックが必ず発生し、
また、前記被膜を施した基体25は耐摩耗性、耐腐食性
、高温耐酸化性に優れていると記載されている。またJ
ournal()ftheElectrOchemic
alSOciety,VOl.ll4,NO.一(19
67)P733〜737に記載の論文題名「SiH。−
NH。−H。系を使つた気相沈積窒化珪素薄膜の2.3
の性質」(SOmePrOpertiesOfVapO
rDepOsitedSillcOnNltrideF
ilmsUsjnGtheSiH4−NH3−ルSys
tem」によれば、原料としてSiH。とNH3とH。
との混合ガスが600〜1400℃の温度範囲内で気相
分解反応し、Siからなる加熱基体上に、厚さ約9μm
の非晶質窒化珪素薄膜、またはウィスカー状結晶質窒化
珪素が沈着製造されている。同論文によればこの非晶質
窒化珪素薄膜のヤング率は6.7×10I3k9/一て
あり、その硬度は8g荷重のヌープ硬さて約4000k
9/一であると記載されている。このヌープ硬さは10
0g荷重におけるMVHに換算すると約2000kg/
一と同等である。しかしながら前記諸刊行物の記載によ
つてもわかるように、従来知られた気相分解沈積窒化珪
素の硬度は非晶質のものては荷重100gでMVH約2
000k9/一であり、また結晶質のものでは2850
k9/粛(荷重不明)であり、末た充分に硬い窒化−珪
素は知られていない。
また従来知られている気相分解沈積窒化珪素を製造する
には、その沈積速度がたかだか0.4T!m /Hrと
非常に遅く実用的でなかつた。なおまた従来ホットブレ
ス法により100g荷重てのMVHが約3500kg/
m!Ftの窒化珪素が2得られているが、このものはブ
ロック状でのみしか得られず、そのものはα−Si。N
。及びβ−Si。N。の混合物てあり、かつ1%以上の
MgO等が不純物として含有されており、このため高温
ての硬度及び桟械的性質は著しく劣化するという欠点が
あ3る。本発明は、前記従来知られた窒化珪素が有する
欠点を除去し、高純度・高密度でマイクロクラックが少
なく、常温ならびに高温において超高硬度及び機械的強
度の大きい窒化珪素を提供すること3:を目的とするも
のてある。
本発明は、主としてSi3N,の化学組成を有し、α型
六方晶系の微粒多結晶質超硬高純度窒化珪素(以下微粒
多結晶質窒化珪素と称し、FGと略記する)を提供する
ことに係る。
46 次に本発明を詳細に説明する。
本発明の微粒多結晶質窒化珪素(FG)はα型六方晶系
構造を有し、第1図の走査型電子顕微鏡写真に示すよう
に、1次錐組織が微結晶で構成されており、結晶粒径の
大きさの平均は1μm未満である。
また、この微粒多結晶質窒化珪素は結晶学的には配向多
結晶質のものと同様に結晶粒に(110),(210)
,(101),(222)等の結晶面が存在する。本発
明の微粒多結晶質窒化珪素(FG)の密度は第2図に1
例を示すように3.184g/dであり、α型構造を持
つ窒化珪素の理論密度と同一である。
これに対し、従来の焼結窒化珪素成型体にあつては、反
応焼結法あるいはホットブレス法によつて製造されたも
のであつてもその密度は理論密度の70〜80%である
に過ぎない。これにより大きい密度の成型体はMgO等
の不純物を1〜10wt加え、1600〜1800℃で
ホットブレスすることによつて初めて理論密度の97〜
100%のものが得られる。一方前記米国特許第322
6194号公報によれば、SiF。とNH。の気相分解
沈積によつて理論密度の97〜100%の窒化珪素が製
造されているが、後述するようにその窒化珪素の硬度は
本発明の窒化珪素の硬度より著しく低い。本発明の微粒
多結晶質窒化珪素(FG)の熱膨張係数ぼ2.7×10
−6/゜Cであり、12000C〜室温の加熱急冷サイ
クルには700〜2000回以上耐える。
本発明の微粒多結晶質窒化珪素は空気中1250’Cで
2時間加熱しても重量変化は0.01mg/cイ以下で
あり、ホットブレス焼結窒化珪素の0.1m9/Cm及
ひ反応焼結窒化珪素の5mg/c逍に比べると耐酸化性
に極めて優れていることが判る。またNa,K,Li,
Afなどの溶融金属に対する耐食性が良好てある。
本発明の微粒多結晶質窒化珪素は、室温電気抵抗が10
’”〜10゛゜Ω・Cmであり、反応焼結窒化珪素の電
気抵抗より10〜100倍大きく、高い電気絶縁叶を有
する。
本発明の微粒多結晶質窒化珪素の最も大きな特孜とする
硬度について以下に説明する。
本発明の微粒多結晶質窒化珪素の硬度は第3図本曲線F
Gでその1例を示すように、100g荷重て.4VH4
000〜5000k9/一、150g荷重てMVH35
OO〜300k9/一であり、従来知られたホットブレ
ス法こより製造される微粒多結晶質窒化珪素(Hp−I
3N,)の硬度は100g荷重でMVH約3500k9
/一て?り、また従来知られた気相分解沈積により製造
ゝれた結晶質窒化珪素(CVD−Sl。
N,)の硬度はMVH285Ok9/一(荷重不明)で
あるのに比し、はるかに硬度が高く、ダイヤモンド、立
方晶BNに次ぐ超高硬度を有している。なお第3図に比
較のために代表的な高硬度物質の硬度を記載する。第3
図によれば代表的超硬材料であるB。Cの硬度Zは荷重
30gて5000k9/一、荷重100gで約3200
k9/一であるが、本発明の微粒多結晶質窒化珪素(F
G)の硬度よりもはるかに低いことが判り、本発明の微
粒多結晶質窒化珪素が超高硬度を有することが明らかで
ある。1 なお硬度においてグイヤモンドに匹敵すると言われてい
る立方晶BNは約5〜10万気圧、1500〜2000
゜Cて合成され、かつその径は大きくとも約0.5Tm
Lであるのに比し、本発明の微粒多結晶質窒化珪素は硬
度では立方晶窒化硼素に及ばないが、後述するようにブ
ロック及び被膜の形状で自由に製造することがきる点に
おいて、工業的用途ははるかに大てある。
すなわち、本発明の微粒多結晶質窒化珪素ては、前述し
たように配向多結晶窒化珪素と同じ結晶面を有するけれ
ども、一次錐組織を構成する微結晶間の粒界面がマイク
ロビッカース硬度の向上に寄与するもので、結晶面が硬
度の向上に寄与する配向多結晶質窒化珪素と全く異なる
次に本発明の微粒多結晶質窒化珪素の最も特徴とする硬
度の温度依存性について説明する。
本発明の微粒多結晶質窒化珪素の硬度の温度依存性は第
4図の直線FGでその1例を示すように、室温て荷重1
00gにおいてMVH5OOOk9/一てあり、150
0’Cの高温においても荷重100gでMVH22OO
k9/一という超高硬度を示し、高温における硬度の減
少は少ない。なおこの500’Cにおける微粒多結晶質
窒化珪素の硬度はホットブレスによる微粒結晶質窒化珪
素の室温における硬度値(荷重100gにおけるMVH
35OOk9/Rf7)FL)よりもさらに超高硬度を
有する。一般の材料ては高温硬度は著しく劣化し、特に
金属では数100〜1000℃て硬度は極めて小さくな
る。一方セラミックスは高温において、金属ほどは硬度
は低下しないといわれているが、それでも第4図に示す
ようにTiC,Aι′。0。
は温度と共に硬度は下る。例えはTICては室温硬度3
000kg/一から1500゜Cで100k9/Tf!
Aにまで減少する。SiCは温度による硬度減少は少な
いが、1000’C附近までしか測定データはなく、そ
れ以上では急激に減少するといわれている。また超硬材
料の代表とされているB,Cは室温て硬度は3000k
9/一であり、その硬度は1000℃まて変化しないが
、1000゜Cを越えると急に軟化する。一方上記既知
の超硬材料に比し、本発明の微粒多結晶質窒化珪素は第
4図からも判るように高温においても硬度の減少は極め
て少なく、かつ超高硬度を有することから後述するよう
に高温において硬度を必要とする工業用材料として最適
に使用することができる。本発明の微粒多結晶質窒化珪
素の硬度と密度の関係について以下に説明する。
本発明の微粒多結晶質窒化珪素は第5図のFGで示すよ
うに密度は同じく3.184g/dで理論密度と同一で
あり、その硬度は100g荷重てMVH4OOO〜50
00k9/一である。
次に本発明の微粒多結晶質窒化珪素の製造について説明
する。
本発明によれば1000〜約1900℃の温度範囲内に
加熱した基体上に窒素沈積源ガスと珪素沈積源ガスとを
組合せ管を用いてそれぞれ吹付け、前記基体上に吹付け
られる窒素沈積源ガス流束の周囲を珪素沈積源ガスによ
り包囲し、前記両ガスの気相分解反応を基体上あるいは
基体付近て生起させて微粒多結晶窒化珪素を生成させ、
かつ前記生成窒化珪素を基体上に沈積させる。
本発明の微粒多結晶質窒化珪素製造用出発原料の1つで
ある珪素沈積源化合物としては珪素のハロゲン化物(S
iCl4,SiF,,SiBr,,SiI4,Si2C
l6,Sj2Br6,Si2I6,SiBrCl3,S
iBr2CF2,SlBr。
Cl,SlICl3)、水素化物(SIH.,Si。H
,O,Si。NB,Sl。H。)、水素ハロゲン化物(
SlHCl3,SiHBr3,SlHF3,SiHI3
,SiH3Br)のうちから選ばれる何れか1種または
2種以上を5用いることができ、好適には室温でガス状
であるSill.、あるいは室温における蒸気圧が高い
SiHCl3,SiCl。を有利に使用することができ
る。また窒素沈積源化合物としては窒素の水素化合物(
1IN3,NH。,N。ル)、アンモニウムハロゲン化
物θ(NH。Cl,NH,F,NH.HF。,NH.I
)のうちから選はれる何れか1種または2種以上を用い
ることがてき、NH3,N2)1.は比較的安価てあり
また入手が容易である為に好適に使用することができる
。珪素沈積源化合物と窒素沈積源化合物から窒イF珪素
が得られる主な反応式は次の(a),(b),(c),
(dの通りてある。
(a)四塩化珪素とアンモニアを原料とした場合3S1
C14+4NH3→Sl3N4+12HC1(b)四水
素化珪素とアンモニアを原料とした場合3S1H4+4
NH3→Si3N,+12H2(c)四フッ化珪素とア
ンモニアを原料とした場合3S1F,+4NH3−Sl
N。+12HF(d)四塩化珪素とヒドラジンを原料と
した場合3S1CI? +2N2I1.→Sl。N。+
8HC1+2C1。上記反応を生起させ微粒多結晶質窒
化珪素を得る基体の温度は1000〜約1900’Cの
範囲内にある。なお前記窒素沈積源および珪素沈積源化
合物の1種または2種を搬送するためN2,Ar,He
,H2の何れか1種または2種以上をキャリア−ガスと
して必要により使用することが出来る。このうちN。は
窒素の沈積源原料にもなり得るし、H2は珪素沈積源化
合物の気相分解の際反応に関与することがある。キャリ
ア−ガスは基体を収容せる容器内の全ガス圧力の調節、
珪素および窒素沈積源原料の蒸気の混合比の調節、容器
内におけるガスの流束形状の調節、およびまたはN2,
H。のように一部反応に関与させるために用いることが
でき、またキャリア−ガスを使用しなくとも窒化珪素を
生成させることができる。次にSICI,とNH。
を原料とし、かつキャリア−ガスとしてH2を用いる場
合について、微粒多結晶質窒化珪素の製造を説明する。
前記SiCl。
とNH,を組合せ管を用いてそれぞ.れ容器内に導入す
るがNH。は前記組合せ管の内管を経て、SIC′,は
外管を経て導入し、NH。の流束の周囲をSiCf。で
包囲しつつ容器内基体上に前記両ガスを吹付ける。この
際キャリア−ガスであるH。は外管を経て吹付けられS
lce。と予め混−合させておくことは有利である。以
上のほか組合せ管として3重の同心管を用い、内管に窒
素沈積源ガスを外管に珪素沈積源ガスあるいは珪素沈積
源ガスとキャリア−ガスを、中間管にはキャリア−ガス
と同一組成のガスを通4過させることによつて、内管よ
り流出する窒素沈積源ガスと外管より流出する珪素沈積
源ガスとが基体上に到達する前に接触混合するのをでき
るだけ抑制して、基体上に到達する以前に前記両沈積源
ガスが気相分解する反応が起ることを有利に抑制するこ
とができ、この流束形状を用いることによりさらに均質
な微粒多結晶質窒化珪素を効率よく生成させることがで
きる。
5H2の流量により容器内に導入されるSlce,の蒸
気の量及び流束形状を調節することが出来る。
さらにルはSICI’。と基体上あるいはその付近で反
応し、SiHCl。,SiH2Cl2,SiH3Clな
どの中間化合物を生成し、原料ガスからSiの分離を促
’0進させるものと思われる。例えば容器の大きさが直
径300wft)長さ500TWLのものを用いる楊合
にはH2の流量は50〜3000cc/Minの範囲内
、特に400〜1500cc/Minが好ましく、60
0〜700cc/Minの範囲内で最も良い結果が5得
られる。
SiCl,の流量(液体状態)は0.4〜2cc/Mi
nの範囲内が良く、0.6〜1.5cc/Minが最も
適当てある。NH。の流量は20〜2000cc/Ml
nの範囲内が良く、50〜70cc/Mlnが最も適当
である。本発明においてNH。
流束の周囲をSICI,あるいは必要によりH。ガスと
ともに包囲しながら基体上に吹付ける必要があることの
理由について本発明者等は次のように考える。SiCl
,とNH。
は常温においても容易に反応し・て塩化アンモニウム(
NH。Cl)とシリコン・ジイミド〔Sl(NH)。〕
等の中間化合物が生成するので、基体上にSj。N,を
効率よくまた均質に沈積させるためには基体上あるいは
基体近傍て反応を生起させることが必要である。このた
め従来、前記SpecialCeramicsの記載に
よれば、内管にSiC′。を、外管にNH3を流し、か
つ内管の開口端を外管の開口端内に配置した構造となつ
ている。この構造の場合には、両原料ガスは内管から出
た処で激しく反応し、この領域で塩化アンモニウムとシ
リコン・ジイミド等の中間化合物が生成し効率よくまた
均質な窒化珪素を基体上に沈積させることはできない。
本発明者等は内管にSICf。を外管にNH。を流し、
内管と外管の開口端を同一水準に配置して、両原料ガス
を基体上に吹付け窒化珪素を沈積させた結果、両原料ガ
スは両管から出た処で激しく反応し、塩化アンモニウム
とシリコン・ジイミド等の中間化合物が生成し、効率よ
くまた均質な窒化珪素を基体上に沈積させることはでき
なかつた。次に本発明者等は内管にSiCl。
を外管にNH3を流し、内管の開口端を外管の開口端の
外になるように配置して、両原料ガスを基体上に吹付け
窒化珪素を沈積させた結果、効率よく、均質でまた硬度
の高い窒化珪素は得られなかつた。次に本発明者等は内
管にNH。を外管にSICI。と必要によりH。とを流
し、内管の開口端を外管の開口端より外になるように配
置して、また内管を流れるNH。の流速に比し外管を流
れるSiCl,とH。の混合ガスの流速を大きくするこ
とにより、NH。の流速をSICI,とH。の流束で包
囲する流束形状を保持しながら、基体上に両原料ガスを
吹付け窒化珪素を沈積せしめた結果、効率よくしかも均
質で硬度の高い本発明の超硬高純度の微粒多結晶質窒化
珪素を得ることがてきることを新規に知見した。基体を
収容せる容器内の全ガス圧力は1〜760wLHgの範
囲内が良く、5〜10−Hgが最適である。なお1気圧
以上のガス圧力でも本発明の微粒多結晶質窒化珪素は製
造することができる。本発明において基体に吹付ける原
料ガスの吹付け方向は、基体面に対して垂直、斜めある
いは平行方向のいずれの方向とすることもてきる。また
基体を移動させるか、あるいは吹付け管を移動させるこ
とによつて線状あるいは幅広い板状ある(゛は管状の種
々の大きさの微粒多結晶質窒化珪素を得ることが出来る
。本発明において基体と吹付け管の間に静電位Xを設け
ることにより出発原料から歩留よく本発甲の微粒多結晶
質窒化珪素を沈積させることがでtる。
この場合吹付け管の内管と外管とを電気的i、絶縁して
内管あるいは外管のいずれか1つと基fとの間に静電位
差を設けて吹付けることもて冫る。また基体に超音波振
動を与えることにより基イ近傍におけるガスの流れを変
化させ基体上に本E明の微粒多結晶質窒化珪素を沈積さ
せることも−きる。
なお使用する原料の種類により、吹付ける前・両沈積源
化合物を予備加熱することにより中間・成物の生成を抑
えて歩留よく基体上に本発明の粒多結晶質窒化珪素を沈
積させることもできる次に本発明に用いる装置について
説明する。
本発明に用いる装置は雰囲気を自在に調節すことのでき
る容器と前記容器内に封入される基を把持し、かつ加熱
する手段と、前記基体上に窒素沈積源ガス並びに珪素沈
積源ガスとをそれぞれ吹付ける吹付け管とからなる窒化
珪素の気相分解沈積装置からなる。前記吹付け管は組合
せ管で、窒素沈積源ガス吹付け管を珪素沈積源ガス吹付
け管をもつて包囲し、前記窒素沈積源ガス吹付け管の開
口端と基体との距離を前記珪素沈積源ガス吹付け管開口
端と基体との距離より短くする。本発明に用いる装置の
一部てある雰囲気を自在に調節することのてきる容器と
しては10−゜TnmHg程度の真空に耐える金属製あ
るいはセラミックス製のものを用いることができ、なか
でも出発原料ガスに対し耐食性のあるステンレス製容器
を好適に使用することができる。この容器には、必要に
iより雰囲気を調整するため、また反応の際の排ガスを
排出するための開閉自在の導入孔およびまたは排出孔を
設ける。超硬高純度の微粒多結晶質窒化珪素を沈積せし
める基体としては、窒化珪素を沈積させるに必要クな1
000〜約1900℃の範囲内の温度に耐える基体を使
用することができ、金属材料、セラミックス材料を基体
として有利に使用することがてきる。
その際基体の形状は如何なる形状でもよく、すなわち線
状、板状、棒状、筒状、あるいはその他複雑’5な形状
のものを、必要により使用することができる。本発明の
微粒多結晶質窒化珪素をブロック形状て得たいときには
、板状の基体上に前記窒化珪素を沈積積層させた後、こ
の沈積積層体を基体から剥離して得ることができる。マ
0 前記基体の加熱手段としては、電気抵抗加熱、高周
波加熱、赤外線加熱、太陽光線加熱、アーク加熱、レー
ザー加熱あるいはプラズマ加熱等を使用することができ
る。
特に電導性基体を用いる場合は基体を直接に加熱する直
接加熱あるいは基体35を外部ヒーターにより加熱する
間接加熱の何れをも用いることができるが、電気抵抗加
熱、高周波加熱を用いる直接加熱の方が基体温度を精密
に制御てきる点でより好適であり、基体が不良電導体の
場合は一般に外部ヒーターによる間接加熱が好40適で
ある。なお、容器内の基体の把持機構に連接して基体の
移動、振動あるいは回転手段を配設することができ、こ
の手段によつて、基体を反応操作中に適当に移動、振動
あるいは回転させ得るようにする。
また振動手段として超音波発振装置を付設することもで
き、これによつてガスの流束形状、ガスの基体近傍にお
ける流動ならびに混合を調整することもできる。またガ
スの流束形状、ガスの基体近傍における 夕流動ならび
に混合を調整するために特別のガス攪拌器を付設するこ
ともできる。
次に本発明に用いる装置の主な構成要素の1つてある沈
積源ガスおよび必要により使用するキャリア−ガスの吹
付け管について説明する。
上記吹付け管は組合せ管をもつて構成させ、第6A−C
図に示すような種々の構造の組合せ管を使用することが
できる。
第6A図は同心2重管であり、第6B図は2本の内管と
1本の外管よりなる3重管てあり、第6C図は同心3重
管である。
このほか2本以上の内管と1本の外管とからなる組合せ
管を使用することもできる。また基体上への吹付け面績
を拡大する必要のあるときには前記諸種の組合せ管をさ
らに2本以上組合せた構造の吹付け管とすることができ
る。
上述した吹付け管において、内管の開口端は外管の開口
端より基体により接近し得る構造のものとすることが必
要である。同心3重管よりなる吹付け管において中間管
の.開口端は内管の開口端と外管の開口端との何れかと
同一水準またはこれらの開口端の中間領域で開口させる
ことができる。
かかる吹付け管において、基体と吹付け管との距離を必
要により調節し得るように、吹付け管が正容器壁を貫通
する部分に気密で摺動を許容するバッキングを用いるこ
とは有利である。
吹付け管において、組合せ管のそれぞれの開口端の水準
を摺動自在に変化させることができるが、本発明を実施
するに当つては、内管の開口端3と基体との距離を外管
の開口端と基体との距離より短くすることが必要である
吹付け管としては高温に耐え、かつ使用する原料ガスに
より腐食されない材質の材料を使用することができ、ス
テンレス鋼を水冷可能な2重筒に4fして用いることは
有利である。
吹付け管において、既述したように内管からは窒素沈積
源ガスを外管からは珪素沈積源ガスを流出させる。
なお第6C図に示す同心3重管を吹付け管とする楊合に
は中間管よりH2,He,N2,Arのうちから選ばれ
るいずれか1種または2種以上を流出させることによつ
て、基体に両沈積源ガスが到達する以前に互いに接触混
合することを前記フ中間管よりのガスによつて離隔防止
させ、基体上あるいは基体近傍において初めて前記両沈
積源ガスを接触、混合できる点で有利である。なお前記
吹付け管の外管の断面形状は必ずしも円形に限られす、
基体の形状あるいは基体上に窒ク化珪素を沈積させんと
する領域の形状に対応する形状の断面形とすることは有
利であり、その際の吹付け管の内管の断面形状も円形に
限られず、また内管本数ならびに内管の配設位置も外管
の断面形状及び基体上に窒化珪素を沈積させんとする領
丁域の形状に応じて適宜選択することができる。
次に本発明を図示の装置により説明する。第7図に示す
製造装置において容器1内に基体2を挿入し、水冷した
導電把持棒3をもつて基体の両側を固定する。
吹付け管4を基体の表面に開”口端が指向するように配
設する。第7図において容器1は水冷可能な冷却水導入
、排出孔9を有する2重壁で製作されており、容器1に
1個または2個以上のガス排出孔8を設ける。なおこの
容器に真空度を測定するために真空計配置孔(図示せず
)と基体の挿入・排出用扉6を設け、この扉の一部を透
明な石英ガラスとなし、容器内の様子を観察できるよう
にする。容器1内に扉6より基体2を挿入し、把持棒3
でその両側を把持し、容器1を例えば10−゜TWLH
gの真空にして、容器内の空気を排出した後、把持棒3
に通電して基体を約500’Cの温度に予備加熱して基
体中に吸蔵されている気体を排出させる。
次に基体を1000〜約1900℃の温度範囲内に加熱
保温し、吹付け管4の内管から窒素沈積源ガスを外管か
ら珪素沈積源ガスまたは必要によりキャリア−ガスをも
添加して、基体上に吹き出させる。この際両沈積源ガス
は基体上あるいはその近傍で互いに接触、混合され、気
相分解し、基体上に本発明の微粒多結晶質窒化珪素が沈
積する。なお沈債層の厚さを厚くするためには前記吹付
けを長時団行えばよく、また広範囲の沈積層を得るには
既ホのように基体あるいは吹付け管を移動させればよい
。次に本発明において、第8図に示す内管101の径a
、外管102の径b)内管1口1と基体2との距離y、
内管101の開口端と外管102の開口端との水準差を
Xとしたとき、これらと生成される本発明の微粒多結晶
質窒化珪素の性状との関係について次に述べる。
容器の大きさが直径300wt、長さ500TWLであ
り、また前記容器内に把持された基体が2×12×仙一
の板状のものである場合はaとしては0.1〜4cmφ
、bとしては0.3〜10cmφ、xとしては0.3〜
14cm,.yとしては1〜14cmのそれぞれの範囲
が好適−である。
なおSiCl)。を珪素沈積源ガスとし、NH。を窒素
沈積源ガスとする場合SiCl。の流量が液体状態で0
.8cc/Min,,NH3の流量が60cc/Min
NH2の流量が700cc/Min)容器内の圧力が1
〜300廁Hg)基体温度が1100〜1500℃の場
合はa =1cm,.b=2cm)x=1cm)y=2
−とすると、均質て硬度の大なる本発明の微粒多結晶質
窒化珪素を効率よく得ることができる。前記方法・手順
を用いて、SiCl,の流量(液体状態で)が0.8C
C/Mln)NH3の流量が60cc/Min)H2の
流量が700cc/Min)aが1cm)bが2cmN
xが1cmNyが2cmという条件下で窒化珪素を沈積
せしめると、製造温度と容器内ガス圧力によつて、第9
図にその1例を示すような温度と容器内ガス圧力とで規
定される領域の条件において微粒多結晶質窒化珪素を沈
積させて得ることができる。
第9図の領域FGは微粒多結晶質窒化珪素が製造される
領域である。微粒多結晶質窒化珪素の製造に際し、製造
温度と容器内ガス圧力との関係は第9図の条件下で次表
の通りである。しかし、これら温度および圧力はガスの
流量、吹出し管の形状等を変化させると著しく変るが、
1000〜約1900をCおよび1〜76077177
!Hgの範囲内にある。本発明の微粒多結晶質窒化珪素
はダイヤモンド、立方晶BNに次ぐ高硬度を有し、超硬
材料0代表とされているB,Cよりも高い硬度を有する
。また本発明の微粒多結晶質窒化珪素は通常超硬材料と
いわれているTiC,SiC,WC,Al。O。などよ
りも硬度は高い。一方人工ダイヤモンド及び立方晶BN
は一般に5〜10万気圧の超高圧下で、1500〜20
00℃の高温に加熱して合成されるために、その大きさ
は0.5−以下の微粒であり、ブロック形状では得られ
ず、また被覆材にもなり得ない。
しかるに本発明による微粒多結晶質窒化珪素はブロック
形状にも膜状にも製造することが可能であり、超硬材料
としてダイヤモンド、立方晶BNよりもはるかに広い用
途があり、製造コストも著しく低い。本発明の微粒多結
晶質窒化珪素は第4図に示したように1500℃もの高
温においても現存する他の材料をはるかにしのく高温硬
度を有し、超高温材料として極めて有用である。
以上のような超高硬度ならびに優れた高温特性を利用し
て、本発明の微粒多結晶質窒化珪素は下ノ記の方面の利
用が期待される。
1 被覆材として (ィ)バイト、ダイス、ドリル、カッター等の工具材の
表面に被覆することによつて工具の寿命を延し、自動加
工システムの管理を容易な5 らしめる。
(ロ)ベアリング、歯車、回転軸等の耐摩耗性を要する
機械部品の表面に被覆することによつて摩耗及ひ高温焼
付を防止する。
レ→ 金属、化合物、セラミックス、黒鉛等の諸0 材
料の表面に被覆することによつて、高硬度表面をもたせ
、さらに高温における桟械的性質を向上させる(例えば
エンジン部品、タービン部品等)。
(ニ)諸材料の表面に被覆することにより、電気ゞ5
絶縁性を与える(高温絶縁体5。
(ホ)諸材料の表面に被覆することにより、酸化を防止
し、高温腐食性ガス、溶融金属、薬品等との反応を阻止
する(例えばルツボ、ボート、化学プラント、MHD発
電ダクト、ロケ10ツトノズル等)。
2 ブロック材として (べ 超硬バイト、超硬ダイス等の工具材として有用で
ある。
(ト)高い硬度が要求される硬質理化学器具に用いられ
、例えば硬度計の圧子として好適に包用することができ
る。
(チ)高い硬度が要求され、しかも高温度でその硬度を
保持する必要のあるベアリング、回転軸、軸受、シール
材等に有用である。
囲 高温で用いられる構造材として、例えばエンジン部
品、タービン部品等として利用出来る。
次に本発明を実施例によつて説明する。
実施例1 第7図および第8図に示す装置(容器の大きさ:30c
mφ×50cm)a =1cmNb=2cm)x=1c
m)y=2cm)を用いて銅製電極3の間に人造黒鉛か
ら成る板状基体2(大きさ:2×12×4−)をはさみ
、炉内を予め10−゜wurtHgに減圧し、基体に通
電し500’C以上に加熱し、基体の脱ガスを行なつた
次いで基体を1500’Cに保熱した。これにアンモニ
アガスを60cc/Minで内管より流出させ、同時に
水素ガスを700cc/Minで20℃の四塩化珪素(
蒸気圧180□Hg)中を通過させ、水素ガ.スに四塩
化珪素蒸気(液体状態で0.8cc/Min)を含ませ
た混合ガスを外管より流出させた。その時の容器内圧力
を1−Hgとした。4時間ガスを流した後、電流を切り
、冷却し、中の基体2を取り出したところ、基体2の表
面上に2.4m771厚さの2白灰色の微粒多結晶質窒
化珪素を得た。
この時の沈積速度は0.6TrgrL/Hrであつた。
この微粒多結晶質窒化珪素の特性は下記の通りであつた
。結晶構造:結晶性α型、結晶配向:(110)、(2
10)面、結晶粒径:平均1μm未満、密度:3.18
4g/d)3S1/N:0.73、硬度:4500〜5
000k9/ 一(荷重100g)、1500℃ての酸
化はほとんど認められす、酸化増量は101]寺間でわ
ずかに0.11m9/cイに過ぎなかつた。実施例23
j 実施例1と同様な装置を使用し、発熱体としてルツボ型
に成型した人造黒鉛(大きさ:12cmφ×407WL
)を用い、その中にタングステンカーバイドを主成分と
する超硬バイト (大きさ:5×5×30wrm)を設
置し、超硬バイトへ微粒多結晶質窒化珪素被膜を被覆し
た。
被覆条件は次の通りである。
基体温度:1300℃、アンモニアガス流量:30cc
/Min、水素ガス流量:1100cc/Min)四塩
化珪素蒸気圧:12077Z77IHg)四塩化珪素流
量:0.84cc/Min(液体状態)、容器内ガス圧
力ニ40−Hg)被覆時間:15分。その結果、超硬バ
イトの表面に厚さ0.057nIftの黒褐色の微粒多
結晶質窒化珪素被膜が被覆された。この時の被覆速度は
0.2悶/Hrであつた。この微粒多結晶質窒化珪素被
膜の特性は下記の通りであつた。結晶構造:結晶性α型
、結晶配向:(110)、(210)、(222)面、
結晶粒径:平均0.8μm未満、密度:3.184g/
d)Si/N:0.73反硬度:4300k9/Rr(
It(荷重100gに換算)であつた。また微粒多結晶
質窒化珪素被膜と超硬バイトとの密着性は良好で、15
00゜Cての酸化はほとんど認められず、酸化増量は1
時間でわずかに0.10mg/cイに過ぎなかつた。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による微粒多結晶質窒化珪素の表面走査
型電子顕微鏡写真てあり、第2図は本発明による微粒多
結晶質窒化珪素の製造ガス圧力と密度の関係を示す図で
あり、第3図は本発明の微粒多結晶質窒化珪素の硬度を
他物質の硬度と比較した図てあり、第4図は本発明によ
る微粒多結晶質窒化珪素の高温における硬度を他物質の
高温硬度と比較した図てあり、第5図は本発明の微粒多
結晶質窒化珪素の硬度と密度の関係を示す図てあり、第
6図A,B,Cは吹付け管の数例を示す斜視図であり、
第7図は本発明による微粒多結晶質窒化珪素を製造する
ために用いる装置の1例を示ナ破砕断面図であり、第8
図は本発明に用い吹付うナ管の斜視図てあり、第9図は
製造温度と容器内〃ス圧力が窒化珪素の結晶状態に及ぼ
す影響を示ナ図である。 1 ・・・容器、2 ・・・基体、3 ・・・把持棒、
4 ・・・吹付け”τ、6 ・・・扉、8 ・・・ガス
排出孔、9 ・・・冷却水導入、井出孔。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 結晶粒の大きさが平均1μm未満の微結晶で一次錐
    組織が構成されており、マイクロビッカース硬度が荷重
    100gの時の値で4000〜5000kg/mm^2
    であることを特徴とする超硬高純度の微粒多結晶質窒化
    珪素。
JP57233122A 1982-12-27 1982-12-27 超硬高純度の微粒多結晶質窒化珪素 Expired JPS6048447B2 (ja)

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