JPS6048191A - フッ素含有排水の処理方法 - Google Patents
フッ素含有排水の処理方法Info
- Publication number
- JPS6048191A JPS6048191A JP15534583A JP15534583A JPS6048191A JP S6048191 A JPS6048191 A JP S6048191A JP 15534583 A JP15534583 A JP 15534583A JP 15534583 A JP15534583 A JP 15534583A JP S6048191 A JPS6048191 A JP S6048191A
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- Japan
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- calcium
- fluorine
- calcium fluoride
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、フッ素含有排水からフッ素を除去する方法に
関する。
関する。
半導体、アルミニウム、ガラス等の製造工場では、フッ
素イオンを含有する排水が排出される。
素イオンを含有する排水が排出される。
従来、このような排水中のフッ素イオンを除去する方法
としては、塩化カルシウム、炭酸カルシウム、硫酸カル
シウム、水酸化カルシウム等のカルシウム化合物を排水
に添加し、その後、高分子凝集剤を添加して凝集させ、
フン化カルシウムとして沈澱分離する方法が採用されて
いる。しかしながら、この方法ではフッ素イオン濃度が
低くなると、カルシウム化合物を過剰に加えなければ、
フン化カルシウムを沈澱分離することができず、処理水
が悪化するという欠点があった。また、カルシウム化合
物を多量に添加するため、沈澱分離すべき汚泥が大量に
発生し、その処分に多大の費用を要するという欠点を生
じた。
としては、塩化カルシウム、炭酸カルシウム、硫酸カル
シウム、水酸化カルシウム等のカルシウム化合物を排水
に添加し、その後、高分子凝集剤を添加して凝集させ、
フン化カルシウムとして沈澱分離する方法が採用されて
いる。しかしながら、この方法ではフッ素イオン濃度が
低くなると、カルシウム化合物を過剰に加えなければ、
フン化カルシウムを沈澱分離することができず、処理水
が悪化するという欠点があった。また、カルシウム化合
物を多量に添加するため、沈澱分離すべき汚泥が大量に
発生し、その処分に多大の費用を要するという欠点を生
じた。
本発明の目的は、前記の従来技術の欠点を解消し、カル
シウム化合物及びｐｉ調整剤の添加量並びに発生汚泥量
が少なく、かつ処理水水質が良いフ・ッ素含有排水を処
理する方法を提供することにある。
シウム化合物及びｐｉ調整剤の添加量並びに発生汚泥量
が少なく、かつ処理水水質が良いフ・ッ素含有排水を処
理する方法を提供することにある。
本発明によるフッ素含有排水の処理方法は、フッ素含有
排水をｐＨ８，０以下で炭酸カルシウム塩鉱物と接触さ
せた後、予め硫酸で＆漬処理したフン化カルシウムを含
む結晶種と接触させることを特徴とする。
排水をｐＨ８，０以下で炭酸カルシウム塩鉱物と接触さ
せた後、予め硫酸で＆漬処理したフン化カルシウムを含
む結晶種と接触させることを特徴とする。
処理すべき排水のｐＨが８より高い場合には、予め鉱酸
等の酸を添加してｐＨを８以下に調節する。
等の酸を添加してｐＨを８以下に調節する。
本発明方法において、炭酸カルシウム塩鉱物としては、
大理石、石灰岩、サンゴ砂等を粒状で使用する。炭酸カ
ルシウム塩鉱物は、酸性条件下では徐々に水中に溶解し
てカルシウムイオンを生じる。そして、このカルシウム
イオンは排水中のフッ素イオンと反応して、フン化カル
シウムを生成し、同時に排水のｐＨは中性イ」近になる
。この段階で、沈澱するフッ化カルシウムを分離しても
よいが、そのまま次のフッ化カルシウム結晶種との接触
工程に導入してもよい。
大理石、石灰岩、サンゴ砂等を粒状で使用する。炭酸カ
ルシウム塩鉱物は、酸性条件下では徐々に水中に溶解し
てカルシウムイオンを生じる。そして、このカルシウム
イオンは排水中のフッ素イオンと反応して、フン化カル
シウムを生成し、同時に排水のｐＨは中性イ」近になる
。この段階で、沈澱するフッ化カルシウムを分離しても
よいが、そのまま次のフッ化カルシウム結晶種との接触
工程に導入してもよい。
結晶種としては、フン化カルシウムを主成分として含む
もの、例えばホタル石を予め硫酸で＆漬処理し、活性化
して使用する。浸漬処理に使用する硫酸は濃硫酸である
のが好ましい。例えば、ホタル石粒子を濃硫酸に１時間
以上浸漬し、余剰の、硫酸を洗浄除去することにより、
好適な結晶種が得られる。
もの、例えばホタル石を予め硫酸で＆漬処理し、活性化
して使用する。浸漬処理に使用する硫酸は濃硫酸である
のが好ましい。例えば、ホタル石粒子を濃硫酸に１時間
以上浸漬し、余剰の、硫酸を洗浄除去することにより、
好適な結晶種が得られる。
炭酸カルシウム塩鉱石と接触させた排水を、更に前記の
ようなフン化カルシウムの結晶種と接触させると、排水
中に沈澱せずに含まれているフン化カルシウムが結晶種
の表面に析出し、こうして水質の良好な処理水が得られ
る。
ようなフン化カルシウムの結晶種と接触させると、排水
中に沈澱せずに含まれているフン化カルシウムが結晶種
の表面に析出し、こうして水質の良好な処理水が得られ
る。
前記のように、本発明によればフッ素イオンとの返応に
必要なカルシウムイオンは炭酸カルシウム塩鉱石から供
給されるので、他にカルシウム化合物を添加しなくてず
み、従って、汚泥を発生せず、生成したフン化カルシウ
ムは結晶種の表面に析出して水から除去される。また、
本発明によれば処理の初めに排水のｐＨを８以下に調節
するだけで、その後の工程でｐｌ＋調節を行わなくてす
むので、ｐＨ調整剤も著しく節約することができる。
必要なカルシウムイオンは炭酸カルシウム塩鉱石から供
給されるので、他にカルシウム化合物を添加しなくてず
み、従って、汚泥を発生せず、生成したフン化カルシウ
ムは結晶種の表面に析出して水から除去される。また、
本発明によれば処理の初めに排水のｐＨを８以下に調節
するだけで、その後の工程でｐｌ＋調節を行わなくてす
むので、ｐＨ調整剤も著しく節約することができる。
次に、実施例に基づいて本発明を詳述するが、本発明は
これに限定されるものではない。
これに限定されるものではない。
実施例１
半導体工場から排出された２種の排水（Ａ及びＢと記す
）を、粒径５〜１０＋ｎの石灰岩の層に、ＳＶ２で接触
させ、その後、フン化カルシウムの結晶種と接触させた
。
）を、粒径５〜１０＋ｎの石灰岩の層に、ＳＶ２で接触
させ、その後、フン化カルシウムの結晶種と接触させた
。
使用した結晶種は、粒径１〜５龍のホタル石粒子を３６
Ｎ硫酸に１時間浸漬した後、水で洗浄して余剰の硫酸を
除去したものである。
Ｎ硫酸に１時間浸漬した後、水で洗浄して余剰の硫酸を
除去したものである。
原水及び処理水の性質を下記の表に示す。
この結果から明らかなとおり、良好な処理水が得られ、
汚泥は発生しなかった。
汚泥は発生しなかった。
特許出願人
日立プラント建設株式会社
Claims (1)
- （１）フッ素含有排水をｐＨ８，０以下で炭酸カルシウ
ム塩鉱物と接触させた後、予め硫酸で浸漬処理したフン
化カルシウムを含む結晶種と接触させることを特徴とす
るフッ素含有排水の処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15534583A JPS6048191A (ja) | 1983-08-25 | 1983-08-25 | フッ素含有排水の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15534583A JPS6048191A (ja) | 1983-08-25 | 1983-08-25 | フッ素含有排水の処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6048191A true JPS6048191A (ja) | 1985-03-15 |
Family
ID=15603858
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15534583A Pending JPS6048191A (ja) | 1983-08-25 | 1983-08-25 | フッ素含有排水の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6048191A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0698579A2 (en) | 1994-08-26 | 1996-02-28 | Sharp Kabushiki Kaisha | Apparatus and method for treatment of waste water and/or exhaust gases containing fluorine and surface active agents |
| JP2005021855A (ja) * | 2003-07-02 | 2005-01-27 | Japan Organo Co Ltd | ケイ素およびフッ素を含む排水の晶析処理方法 |
-
1983
- 1983-08-25 JP JP15534583A patent/JPS6048191A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0698579A2 (en) | 1994-08-26 | 1996-02-28 | Sharp Kabushiki Kaisha | Apparatus and method for treatment of waste water and/or exhaust gases containing fluorine and surface active agents |
| US5702594A (en) * | 1994-08-26 | 1997-12-30 | Sharp Kabushiki Kaisha | Apparatus for treatment of waste water and/or exhaust gases containing fluorine and surface active agents |
| JP2005021855A (ja) * | 2003-07-02 | 2005-01-27 | Japan Organo Co Ltd | ケイ素およびフッ素を含む排水の晶析処理方法 |
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