JPS6042884A - リング・レ−ザ−・ジヤイロ組立体及び該組立体用レ−ザ−・ミラ−を製造する方法 - Google Patents
リング・レ−ザ−・ジヤイロ組立体及び該組立体用レ−ザ−・ミラ−を製造する方法Info
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- JPS6042884A JPS6042884A JP59138114A JP13811484A JPS6042884A JP S6042884 A JPS6042884 A JP S6042884A JP 59138114 A JP59138114 A JP 59138114A JP 13811484 A JP13811484 A JP 13811484A JP S6042884 A JPS6042884 A JP S6042884A
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- gyro
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
- H01S3/08059—Constructional details of the reflector, e.g. shape
- H01S3/08063—Graded reflectivity, e.g. variable reflectivity mirror
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01C—MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
- G01C19/00—Gyroscopes; Turn-sensitive devices using vibrating masses; Turn-sensitive devices without moving masses; Measuring angular rate using gyroscopic effects
- G01C19/58—Turn-sensitive devices without moving masses
- G01C19/64—Gyrometers using the Sagnac effect, i.e. rotation-induced shifts between counter-rotating electromagnetic beams
- G01C19/66—Ring laser gyrometers
- G01C19/661—Ring laser gyrometers details
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
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- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
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- Lasers (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の分野
本発明はレーザー・モード制御のための方法および装置
、一層詳しくは、特殊形状の中央配置反射面を有する吸
収材被覆ミラーを利用してレーサー内でモード制御を達
成することに関する。
、一層詳しくは、特殊形状の中央配置反射面を有する吸
収材被覆ミラーを利用してレーサー内でモード制御を達
成することに関する。
発明の背景
従来、点滅外光とかガス放電を利用してレーサー媒質を
励起し、強烈なコヒーレント光線を発生するレーザー゛
作用を行なうことは周知である。このコヒーレント光線
は2以上のモードで発生させ得ることはわかっている。
励起し、強烈なコヒーレント光線を発生するレーザー゛
作用を行なうことは周知である。このコヒーレント光線
は2以上のモードで発生させ得ることはわかっている。
多レーサー・モードの存在はレーザー・オシレータのす
べてに見出されており、機械的形態では線形であり、そ
の他の形態では非線形である。
べてに見出されており、機械的形態では線形であり、そ
の他の形態では非線形である。
非線形レーザーの用途の1つはリング・レーザー・ジャ
イロであり、ここでは、光線を閉じた経路で時g1方向
と反時計方向に伝播し、逆方向に回転する光線を互いに
干渉させてうなシ周波数を発生させる。時計方向、反時
計方向に伝帳する光線の形成する平面に対して直角の軸
線まわシにジャイロが回転すると、減少を表わす回転方
向に移動する光線の周波数と、この回転方向と逆の方向
に移動する増加を表わす光線の周波数とが発生する。こ
うして、ジャイロ回転の程度を知るには、逆回転する光
線の干渉変化によって隼じろうなシ周波数の変化を検出
すればよい。
イロであり、ここでは、光線を閉じた経路で時g1方向
と反時計方向に伝播し、逆方向に回転する光線を互いに
干渉させてうなシ周波数を発生させる。時計方向、反時
計方向に伝帳する光線の形成する平面に対して直角の軸
線まわシにジャイロが回転すると、減少を表わす回転方
向に移動する光線の周波数と、この回転方向と逆の方向
に移動する増加を表わす光線の周波数とが発生する。こ
うして、ジャイロ回転の程度を知るには、逆回転する光
線の干渉変化によって隼じろうなシ周波数の変化を検出
すればよい。
多レーザー・モードの問題に加えて、リング・レーザー
・ジャイロで生じる別の問題は、モード同期であり、2
つの逆回転する光線が光の散乱によシ低い角回転速度レ
ヘルで同じ周波数を持つようになることである。光散乱
はレーザー内でのレーザー光線の反射毎に生じる可能性
がある。したがって、本発明に従って注意深く設計した
レーザー・ミラーは光の散乱を減らす助けとなり得る。
・ジャイロで生じる別の問題は、モード同期であり、2
つの逆回転する光線が光の散乱によシ低い角回転速度レ
ヘルで同じ周波数を持つようになることである。光散乱
はレーザー内でのレーザー光線の反射毎に生じる可能性
がある。したがって、本発明に従って注意深く設計した
レーザー・ミラーは光の散乱を減らす助けとなり得る。
代表的なリング・レーサー・ジャイロが、1978年9
月19日にThomas J、Hutchings等に
許され、本出願人に譲渡された、r Counter−
balanced Oscillating Ring
La5er Gyro Jなる名称の米国特許第4,
115,004号に示されている。このジャイロはクォ
ーツその他適当な材料で作った矩形ブロック内で4つの
通路によって形成された矩形経路を利用する。矩形経路
の交差点毎に、反射ミラーが装着してあって、レーザー
光線の時計回りのレーサー通路と反時計回りのレーザー
光線とが出合うようになっている。最下位次数のレーザ
ー・モードは通路のほぼ中心軸線に沿って伝播し、それ
よりも高い次数のモードはややごの軸線から外れて伝播
する。
月19日にThomas J、Hutchings等に
許され、本出願人に譲渡された、r Counter−
balanced Oscillating Ring
La5er Gyro Jなる名称の米国特許第4,
115,004号に示されている。このジャイロはクォ
ーツその他適当な材料で作った矩形ブロック内で4つの
通路によって形成された矩形経路を利用する。矩形経路
の交差点毎に、反射ミラーが装着してあって、レーザー
光線の時計回りのレーサー通路と反時計回りのレーザー
光線とが出合うようになっている。最下位次数のレーザ
ー・モードは通路のほぼ中心軸線に沿って伝播し、それ
よりも高い次数のモードはややごの軸線から外れて伝播
する。
リング・レーザー・ジャイロにおいて高次のモードを除
去する従来技術の1つは、逆回転丸線が伝帳する通路の
直径を小さくするということである。別の方法としては
、一箇所だけで通路の直径を絞り、残りの通路では直径
を大きいままとし、1つ1.5を形成するという方法が
ある。この孔は注意深く形成され、磨かれて高次モード
を排除する。しかしながら、この孔を機械加工するの難
しく、反復性はほとんど期待できない。筐た、この孔は
最下位次数モードの光の散乱を高める。
去する従来技術の1つは、逆回転丸線が伝帳する通路の
直径を小さくするということである。別の方法としては
、一箇所だけで通路の直径を絞り、残りの通路では直径
を大きいままとし、1つ1.5を形成するという方法が
ある。この孔は注意深く形成され、磨かれて高次モード
を排除する。しかしながら、この孔を機械加工するの難
しく、反復性はほとんど期待できない。筐た、この孔は
最下位次数モードの光の散乱を高める。
発明の概要
本発明では、最下位次数レーザー・モードによって形成
された光線の寸法、形状、位置に合致する寸法、形状の
反射ミラーを設けることによってレーザー通路に孔を設
けなくてもよい。このような反射面が所定位置にあると
、軸線からやや外れた高次モードがレーサー通路まわり
に反射することがない。高次モートを除去するばかりで
なく、低次モードもより良く制@lされてその光散乱現
象が減る。
された光線の寸法、形状、位置に合致する寸法、形状の
反射ミラーを設けることによってレーザー通路に孔を設
けなくてもよい。このような反射面が所定位置にあると
、軸線からやや外れた高次モードがレーサー通路まわり
に反射することがない。高次モートを除去するばかりで
なく、低次モードもより良く制@lされてその光散乱現
象が減る。
したがって、本発明の目的は、レーザー通路の直径を絞
る必要性をなくすか、あるいは絞られた孔の設置をせず
ともよいレーザー・モード制御装置を提供することにあ
る。
る必要性をなくすか、あるいは絞られた孔の設置をせず
ともよいレーザー・モード制御装置を提供することにあ
る。
本発明の別の目的は部品の追加あるいは榎雑な形状なし
にレーザー内の光の散古りを減らすことにある。
にレーザー内の光の散古りを減らすことにある。
本発明のまた別の目的は経済的に利用してレーサー間の
品質のばらつきをなくすことのできる方法、装置によっ
てレーザiのモード制御を行なうことにある。
品質のばらつきをなくすことのできる方法、装置によっ
てレーザiのモード制御を行なうことにある。
実施例の説明
以下の説明および図面を参照することによって本発明の
目的および利点がより良く理解してもらえよう。
目的および利点がより良く理解してもらえよう。
図面を参照して、第1図は代表的な線形レーザー10を
示しており、このレーザーはソリッドステート・ルビー
・ロッド12のようなレーザー・ロッドからなる。この
ロッドの端面は部分反射面14と完全反射面16で覆わ
れている。適当な動力源(図示せず)がフラッシュ・ラ
ンプ20を駆動する端子18に接続しである。このフラ
ッシュ・ランプ20はルビー・ロッド12の原子を゛励
起することによって放射線を発生させる。この放射線は
コヒーレント光線22の放出を促す。説明の便宜北、最
下位次数レーザー・モードを26で示し、孔がなく、特
殊な設計のミラーがあるならば存在する可能性のあるよ
り高い次数のレーザー・モードを28で示しである。特
殊々設計のミラー66を以下に一層詳しく説明する。実
際に、孔あるいはミラーが存在していない場合、いくつ
かの高次モードが存在し、これらは図示するX方向ある
いはX方向もしくはその組合わせた方向に伝播する。
示しており、このレーザーはソリッドステート・ルビー
・ロッド12のようなレーザー・ロッドからなる。この
ロッドの端面は部分反射面14と完全反射面16で覆わ
れている。適当な動力源(図示せず)がフラッシュ・ラ
ンプ20を駆動する端子18に接続しである。このフラ
ッシュ・ランプ20はルビー・ロッド12の原子を゛励
起することによって放射線を発生させる。この放射線は
コヒーレント光線22の放出を促す。説明の便宜北、最
下位次数レーザー・モードを26で示し、孔がなく、特
殊な設計のミラーがあるならば存在する可能性のあるよ
り高い次数のレーザー・モードを28で示しである。特
殊々設計のミラー66を以下に一層詳しく説明する。実
際に、孔あるいはミラーが存在していない場合、いくつ
かの高次モードが存在し、これらは図示するX方向ある
いはX方向もしくはその組合わせた方向に伝播する。
第1図にはソリッドステート・レーザーが示しであるが
、ヘリウム・ネオン・レーザーのようなガス・レーサー
が第2図にしである。
、ヘリウム・ネオン・レーザーのようなガス・レーサー
が第2図にしである。
カス・レーザー30はジャイロスコープで利用すること
のできるレーザーの代表的なものである。このレーザー
は本体32内に形成される。本体は、たとえば、クォー
ツ、Corning社の作っているru、t、E」チタ
ン・シリケートのような材料あるいはOwens l1
linoisで作っているr Cervit J のよ
うな材料でできている。レーザ一本体3りには、4つの
通路34が形成してあり、これらの通路は矩形レーザー
経路を構成するように配置しである。
のできるレーザーの代表的なものである。このレーザー
は本体32内に形成される。本体は、たとえば、クォー
ツ、Corning社の作っているru、t、E」チタ
ン・シリケートのような材料あるいはOwens l1
linoisで作っているr Cervit J のよ
うな材料でできている。レーザ一本体3りには、4つの
通路34が形成してあり、これらの通路は矩形レーザー
経路を構成するように配置しである。
本発明によれば、三角形も同様に使用できる。
通路34は密閉してあって約90%のヘリウム、10%
のネオンからなる混合ガスを約3torr の直空で保
′持する、。ここで、大気圧が約760tOrr であ
ることは了解されたい。
のネオンからなる混合ガスを約3torr の直空で保
′持する、。ここで、大気圧が約760tOrr であ
ることは了解されたい。
公知のレーザー実務によれば、レーザ一本イ本32は2
つのカソード36.38と2つの7ノード42とを備え
ており、これらの部品は周知要領でレーザ一本体に取付
けである。
つのカソード36.38と2つの7ノード42とを備え
ており、これらの部品は周知要領でレーザ一本体に取付
けである。
カス放電は通路34内でカソード36とアノード40の
間と、反対側の通路内でカソード38とアノード42の
間で行なわれる。レーザ一本体32の両端にはゲッタ4
4.46が設けてあり、通路34内のガスに含まれてい
る不純′吻を吸収する。リング・レーザー・ジャイロ3
0の通路34内に形成された光路の11つの角隅にはミ
ラー48.50.52.54が設置してあり、このうち
2つにミラー48.54はそれぞれ光検出出力装置上に
装着しである。光検出装置は2つの逆回転する光線によ
って形成される逆回転電磁エネルギのうなり周波数を測
定してリング・レーザー・ジャイロ30の回転を示す。
間と、反対側の通路内でカソード38とアノード42の
間で行なわれる。レーザ一本体32の両端にはゲッタ4
4.46が設けてあり、通路34内のガスに含まれてい
る不純′吻を吸収する。リング・レーザー・ジャイロ3
0の通路34内に形成された光路の11つの角隅にはミ
ラー48.50.52.54が設置してあり、このうち
2つにミラー48.54はそれぞれ光検出出力装置上に
装着しである。光検出装置は2つの逆回転する光線によ
って形成される逆回転電磁エネルギのうなり周波数を測
定してリング・レーザー・ジャイロ30の回転を示す。
第3図に示すように、通路34には、レーザ一本体32
を対問した方向から適当な深さ1で先行してカラー60
を形成することによって第1の直径部を形成しである。
を対問した方向から適当な深さ1で先行してカラー60
を形成することによって第1の直径部を形成しである。
次に、力・ラーにもつと小さいドリルで孔をあけ、モー
ド比重用孔62を形成しである。
ド比重用孔62を形成しである。
第1図でわかるように、線形レーザーからの最下位゛次
数レーザー・モードの代表的な横断面はほぼ円形である
。それに対して、非線形レーザーからのレーザー光線の
横断面はほぼ清円形である(第4図参照)。第2.3図
に示す従来技術では、孔2を手作業で楕円横断面に形成
しなければならない。4162を作る際、顕微鏡を使っ
て公差を測定する。しかしながら、楕円膨化は作るのが
難しい。さらに、成るリング・レーザー・ジャイロ30
の孔と別のリング・レーザー・ジャイロの孔とを同じに
するのには限界がある。
数レーザー・モードの代表的な横断面はほぼ円形である
。それに対して、非線形レーザーからのレーザー光線の
横断面はほぼ清円形である(第4図参照)。第2.3図
に示す従来技術では、孔2を手作業で楕円横断面に形成
しなければならない。4162を作る際、顕微鏡を使っ
て公差を測定する。しかしながら、楕円膨化は作るのが
難しい。さらに、成るリング・レーザー・ジャイロ30
の孔と別のリング・レーザー・ジャイロの孔とを同じに
するのには限界がある。
′、本発明は特殊形状のミラーを利用することによって
楕円形孔62を不要にしようとするものである。代表的
なリング・レーザー・ジャイロで゛は、4つのミラーの
うち2つは彎曲しており、残りの2つのミラーは平らで
ある。
楕円形孔62を不要にしようとするものである。代表的
なリング・レーザー・ジャイロで゛は、4つのミラーの
うち2つは彎曲しており、残りの2つのミラーは平らで
ある。
一般的には、ミラー50.52に彎曲を与え、逆回転す
る光線を焦点合わせする助けとする。
る光線を焦点合わせする助けとする。
一方、ミラー48.50は平らである。本発明によれば
、ミラー48を、たとえば、第4図に示すように光吸収
層64で被覆する。こうして、ミラー48が吸収性コー
ティング64内で楕円形反射孔66を持つことになる。
、ミラー48を、たとえば、第4図に示すように光吸収
層64で被覆する。こうして、ミラー48が吸収性コー
ティング64内で楕円形反射孔66を持つことになる。
反射孔66は最下位次数レーサー・モード26によって
形成されたレーザー光線26の寸法、形状とほぼ等しい
ものとする。孔66の寸法は充分に大きくて最下位次数
レーザー・モードの伝11’Mを可能とすると共に、よ
り高次のレーザー・モードの伝帳を阻止するに充分小さ
くなければならない。好ましい実施例では、楕円形状の
反射孔66の長軸はその短軸に比例し、1.2対1の比
率となっている。
形成されたレーザー光線26の寸法、形状とほぼ等しい
ものとする。孔66の寸法は充分に大きくて最下位次数
レーザー・モードの伝11’Mを可能とすると共に、よ
り高次のレーザー・モードの伝帳を阻止するに充分小さ
くなければならない。好ましい実施例では、楕円形状の
反射孔66の長軸はその短軸に比例し、1.2対1の比
率となっている。
第4図に示すように、高次レーザー・モード28はミラ
ー48で反射されず、吸収性コーティング64で排除さ
れる。この排除は、吸収性コーティングが光エネルギの
反射を光学共振が生じるレベルより下に減じるので生じ
る。吸収性コーティング64は代表的なレーサ、−1た
とえば、ジャイロスコープで使用するリング・レーザー
の最下位次数先鞭によって生じる光散乱現象の肚を減ら
す助けともなる。
ー48で反射されず、吸収性コーティング64で排除さ
れる。この排除は、吸収性コーティングが光エネルギの
反射を光学共振が生じるレベルより下に減じるので生じ
る。吸収性コーティング64は代表的なレーサ、−1た
とえば、ジャイロスコープで使用するリング・レーザー
の最下位次数先鞭によって生じる光散乱現象の肚を減ら
す助けともなる。
第1図の線形レーザーでは、反射孔66はほぼ円形のレ
ーザー光線22の形に穎だ寸法となっている。第1図で
わかるように、円形孔66が吸収性コーティング64を
使用して反射ミラー16上に形成しである。この反射f
L66の存在で、第1図に示す光線22の高次レーザー
・モード28を除去、することは了解ちれたい。
ーザー光線22の形に穎だ寸法となっている。第1図で
わかるように、円形孔66が吸収性コーティング64を
使用して反射ミラー16上に形成しである。この反射f
L66の存在で、第1図に示す光線22の高次レーザー
・モード28を除去、することは了解ちれたい。
第5図を参照して、ここにはミラー48を形成するのに
利用するマスク68が示しである。このマスクは図示形
状に化学的に工゛ノチング処哩し得る薄い材料で作っで
ある。この桐材は楕円形中央マスク、74を支える内向
き放射線状のフィンカフ2を有する円形カラー70を包
含する。
利用するマスク68が示しである。このマスクは図示形
状に化学的に工゛ノチング処哩し得る薄い材料で作っで
ある。この桐材は楕円形中央マスク、74を支える内向
き放射線状のフィンカフ2を有する円形カラー70を包
含する。
マスク68を利用することによって、ミラー48の反射
孔66を形成すること75にできる。
孔66を形成すること75にできる。
この手順の第1段階は基体の磨いた面に反射コーティン
グを施すことである。反射コーティングの層を、引き続
いて基体に施してその表面に適切な反射特性を与えた後
、マスク68をこの反射面を覆うように置く。その後、
ミラー48の表面とマスク6Bに吸収性コーティング6
4を施す。適正数の1及収1−を設けた′後、マスク6
8を除去してミラー48の反射面を露出する楕円形の孔
66を残す。好ましい実施例では、マスク68のフィン
ガ72もミラー48上に外向きに放射状の反射スポーク
を残す。しかしながら、これらのスポークは本発明のミ
ラーの行なうモ′−ド制御の邪、蜜にならない。
グを施すことである。反射コーティングの層を、引き続
いて基体に施してその表面に適切な反射特性を与えた後
、マスク68をこの反射面を覆うように置く。その後、
ミラー48の表面とマスク6Bに吸収性コーティング6
4を施す。適正数の1及収1−を設けた′後、マスク6
8を除去してミラー48の反射面を露出する楕円形の孔
66を残す。好ましい実施例では、マスク68のフィン
ガ72もミラー48上に外向きに放射状の反射スポーク
を残す。しかしながら、これらのスポークは本発明のミ
ラーの行なうモ′−ド制御の邪、蜜にならない。
好−ましい実施例では、代表的なミラーを、ミラー48
の反射面に吸収性コーティングを施す前後の00.01
.10モードからの損失を測定することによって評価し
てみた。このモードの命名では、00は最下位次数モー
ドを示す。01はX平面に返る次に高次レーザー・モー
ドを示し、10はX平面に位置する次の最高位次数のレ
ーザー・モードを示す。
の反射面に吸収性コーティングを施す前後の00.01
.10モードからの損失を測定することによって評価し
てみた。このモードの命名では、00は最下位次数モー
ドを示す。01はX平面に返る次に高次レーザー・モー
ドを示し、10はX平面に位置する次の最高位次数のレ
ーザー・モードを示す。
第1.3図に示す高次モードが01モードあ ゛ること
はわかるであろう。吸収性コーティングを加える前後の
00,01.10モードの反射損失を次に示す。
はわかるであろう。吸収性コーティングを加える前後の
00,01.10モードの反射損失を次に示す。
損失(PPM)
00 、・、01 ”’ 10
前 617 617 617
後 704’ 1949 1949
この場合、孔は00モードに6万あたり約87部を4加
えた。01.10モードでの損失を通路34内に設けた
絞りの生じる損失よりも良好である(高い)。
えた。01.10モードでの損失を通路34内に設けた
絞りの生じる損失よりも良好である(高い)。
本発明の楕円形反射孔66は種々の非緋形レーサーで使
用してそのレーザーのモード制御1生を改善すると共に
その散乱性を、減じることができる。同様に、はぼ円形
の孔も線形レーザーで使用できる。しかしながら、特許
請求の範囲に定義した本発明の範囲内で変更も自在であ
る。
用してそのレーザーのモード制御1生を改善すると共に
その散乱性を、減じることができる。同様に、はぼ円形
の孔も線形レーザーで使用できる。しかしながら、特許
請求の範囲に定義した本発明の範囲内で変更も自在であ
る。
第1図は代表的な線形レーザーを示す概略図であり、
第2図は代表的なリング・レーザー・ジャイロ組立体の
横断面図であり、 第3図は第2図のI■−■線に沿った図であり、リング
・レーザー・ジャイロの通路内にある従来の絞り孔を示
す図であり、 第4図は反射ミラーを利用する本発明のレーザー・モー
ド制御を゛説明する概略図であり、第5図は第4図に示
すミラーを作るときに使用するマスクを示す半面図であ
る。 〔主要゛部分の符号の説明〕 10・・・・・・線形レーナー、12・・・・ルビー・
ロッド、14・・・・・部分反射面、16・・・・・完
全反射面、20・・・・・・フラッシュ・ランプ、22
・・・・・・コヒーレント光線、2″6・・・・・・最
下位次数レーザー・モード、28・・・高次レーザー・
モード、30・・・・・ガス・レーザー、32・・・レ
ーザ一本体、34・・・・通路、36.38・・・・カ
ソード、40.42・・・・・7ノート、48゜50.
54・・・・・・ミラー、56.58・・・ 光検出装
置、60・・・・・・カラー、62・・・・モード阻[
上用孔、64・・・・・・吸収性コーティング、66・
・・・・・反射孔、68・・・・・マスク、To・・・
・・・円形カラー、72・・・・・・フィンガ、14・
目・楕円形中央マスク。 図面の浄fi!(内容に変更なし) 手続補正jV 昭和59118月3111 特1.′1庁長官 志賀 学殴 + 、 4Gl゛lの局:昭和59年 特許願第138
114号、1 補正をする8 ・1¥1″Iとの関係特許出願人 1 代 1甲 1、 (1)別紙の如く、正式図面1通を提出致します。
横断面図であり、 第3図は第2図のI■−■線に沿った図であり、リング
・レーザー・ジャイロの通路内にある従来の絞り孔を示
す図であり、 第4図は反射ミラーを利用する本発明のレーザー・モー
ド制御を゛説明する概略図であり、第5図は第4図に示
すミラーを作るときに使用するマスクを示す半面図であ
る。 〔主要゛部分の符号の説明〕 10・・・・・・線形レーナー、12・・・・ルビー・
ロッド、14・・・・・部分反射面、16・・・・・完
全反射面、20・・・・・・フラッシュ・ランプ、22
・・・・・・コヒーレント光線、2″6・・・・・・最
下位次数レーザー・モード、28・・・高次レーザー・
モード、30・・・・・ガス・レーザー、32・・・レ
ーザ一本体、34・・・・通路、36.38・・・・カ
ソード、40.42・・・・・7ノート、48゜50.
54・・・・・・ミラー、56.58・・・ 光検出装
置、60・・・・・・カラー、62・・・・モード阻[
上用孔、64・・・・・・吸収性コーティング、66・
・・・・・反射孔、68・・・・・マスク、To・・・
・・・円形カラー、72・・・・・・フィンガ、14・
目・楕円形中央マスク。 図面の浄fi!(内容に変更なし) 手続補正jV 昭和59118月3111 特1.′1庁長官 志賀 学殴 + 、 4Gl゛lの局:昭和59年 特許願第138
114号、1 補正をする8 ・1¥1″Iとの関係特許出願人 1 代 1甲 1、 (1)別紙の如く、正式図面1通を提出致します。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (D モード制商1用リング・レーザー・ジャイロ組立
体において、 複数の交差する通路を設けたレーサ一本体と、これらの
通路内に密封したレーザー媒質と、前記レーザ一本体上
に装着し、であって前記レーザー媒質を励起し、1つの
最下位次数のモードおよびそれより高い次数、のモード
を含む複数のモードでレーサー作用を行なわせる手段と
、前記通路の交差点に装着した複数のミラ一手段とを包
含し、これらミラ一手段の1つが前記通路内に袋溝し7
た比較的小さい反射面を有し、前記最下位次数レーザー
・モードを反射すると共に残りの前記高次数のレーサー
・モードの反射防IFを行なうようになっていることを
特徴とするリング・レーサー・ジャイロ組立体。 (2、特許請求の範囲第1項記載のリング・レーサー・
ジャイロ組立体において、前、11シミラ一手段の前記
比較的小さい反射面が前記最下位次数レーザー・モード
に・j′法、形状がほぼ等しい反射面を有することを特
徴とするリング・レーザー・ジャイロ組立体。 (3)特許請求の範囲第2項記載のリンク・レーザー・
ジャイロ組立体において、前記ミラ一手段の前記比較的
小さい反射面が楕円形であることを特徴とするリング・
レーサー・ジャイロ組立体。 (4)特許請求の範囲第3項記載のリンク・レーザー・
ジャイロ組立体において、前記(肯円形のミラ一手段が
比率約12対1の長軸、短軸を有することを特徴とする
リング・レーザー・ジャイロ組立体。 (5)特許請求の範囲第2項6ピ載のリンク・し−ザー
・ジャイロ組立体において、前記ミラ一手段の前記比較
的小さい反射面が吸収性コーティング手段で囲んであり
、前記ミラ一手段の光散乱特注を低減させると共に前記
残りの高次数レーザー・モードから反射してくる先着を
減少させるようになっていることを特徴とするリング・
レーザー・ジャイロ組立体。 (6)特許請求の範囲第2項記載のリング・レーサー・
ジャイロ組立体において、前記複数のミラ一手段が平ら
なミラ一手段と彎曲したミラ一手段からなり、前記比較
的小さい反射面が前記平らなミラ一手段上に位置してい
るーことを特徴とするリング・レーザー・ジャイロ組立
体。 (7) レーザー・モード制御用レーザー組立体におい
て、 レーサ一本体とζこのレーザ一本体を励起して1つの最
下位次数モードとそれよりも高い次数のモードを含む複
数のコヒーレント光レーザー・モードを生じさせる手段
と、前記コヒーレント光を反射するように装着してあり
、反射面を有するミラ、一手段と、比較的小さい反射域
を除いて前記反射面を覆っている吸収性コーティング手
段とを包含し、前記ミラ一手段が前記小さい反射域を前
記最下位次数レーザー・モードと整合させて前記最下位
次数モードを反射し、それより高い次数のモードを吸収
し、それによってレーザー組立体のモードを制御するこ
とを特徴とするレーザー組立体。 (8)特許請求の範囲第7項記載のレーザー組立体にお
いて、前記小さい反射域がほぼ円形であり1、レーザー
組立体そのものが線形であることを特徴とするレーザー
組立体。 (9)特許請求の範囲第7項記載のレーザー組立体にお
いて、前記小さい反射域がほぼ楕円形であり、レーザー
組立体そのものが非線形であることを特徴とするレーザ
ー組立体。 (+(1) 特許請求の範囲第9項記載のレーサー組立
体において、前記非線形レーザーがリン。 グ・レーザー・ジャイロで使用され、前記レーザ一本体
が複数の父差レーザー通路を有し、この通路内に前記ミ
ラ一手段が装着しであることを特徴、とするレーザー組
立体。 (11)特許請求の範囲第10項記載のレーザー組立体
において、前′記交差通路が長方形を成していることを
特徴とするレーザー組立1本。 (]2、特許請求の範囲第10項記載のレーザー組伝体
において、前記交差通路が三角形を作っていることを特
徴とするレーザー組立体。 (13)特許請求の範囲第9項記載のレーザー組立体に
おいて、前記楕円形反射域が比率12対1の長軸、短軸
を有することを特徴とするレーザー組立体。 (14) レーザーを励起して最下位とそれよりも高い
次数のレーザー・モードを発生する手段を有し、前記レ
ーザー・モードがミラ一手段によって反射させられるモ
ード制ml 、144レ一ザー組立体のレーザー・ミラ
ーを製造する方法において、 反射層で基体を被覆し、前記反射層の中央域を楕円形の
中心部分を有するマスクで覆い、マスクで覆っていない
反射層を吸収性コーティングで被覆し、前記マ、スクを
取除くこと、からなることを特徴とする方法。 (15)特許請求の範囲第14項記載の方法において、
前記反射層の中央域をマスクで覆う工程が、前記最下位
次数レーザー・モードの形状に合致していて1.2対1
の比率の長袖と短軸を有する楕円形中心を前記マスクに
形成し、この楕円形中心を周囲カラーに向って放射状に
なっているフィンガ要素で支える段階を包含すること全
特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
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US51060783A | 1983-07-05 | 1983-07-05 | |
US510607 | 1983-07-05 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
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Family Applications (1)
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---|---|
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1984
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- 1984-07-04 SE SE8403548A patent/SE8403548L/ not_active Application Discontinuation
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- 1984-07-05 JP JP59138114A patent/JPS6042884A/ja active Pending
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