JPS6042295A - 単結晶の製造方法 - Google Patents

単結晶の製造方法

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Publication number
JPS6042295A
JPS6042295A JP14062584A JP14062584A JPS6042295A JP S6042295 A JPS6042295 A JP S6042295A JP 14062584 A JP14062584 A JP 14062584A JP 14062584 A JP14062584 A JP 14062584A JP S6042295 A JPS6042295 A JP S6042295A
Authority
JP
Japan
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crystal
melt
single crystal
crucible
contact
Prior art date
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Pending
Application number
JP14062584A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshiharu Ito
伊藤 利晴
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP14062584A priority Critical patent/JPS6042295A/ja
Publication of JPS6042295A publication Critical patent/JPS6042295A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B15/00Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
    • C30B15/20Controlling or regulating
    • C30B15/22Stabilisation or shape controlling of the molten zone near the pulled crystal; Controlling the section of the crystal

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は単結晶製造の際の結晶と融液の接触を検知す
る方法に関する。
従来単結晶引上げの際の種子結晶を融液へ付ける作業及
び作成終了時の育成結晶の融液からの切り離し作業は人
間の眼にたよるしかなく、高度の熟練が必要でbった。
特に高融点物質の場合炉内が高輝度のため結晶と融液の
区別がつきにくく熟練していてもしばしば失敗する事が
あり、時間の損失、結晶のクラック等の歩留り低下を引
き起す原因となっていた。
と、の発明の目的は容易に確実に融液への種付け、作成
結晶の融液からの切り離しを行なえる単結晶の製造方法
を提供するものである。
種子結晶と融液物との間の電気信号(電圧及び電流)の
変化を検知する事によシ、結晶と融液の接触を検知する
ものである。
次に図面を参照して本発明方法を高融点物質LtTaO
,単結晶引上げに適用した実施例を説明する。種子結晶
(1)に導線例えばI WF+、φの白金のリード線(
2)をまきつける。このリード線(2)の一端を種子結
晶(1)に電気的に接続し、他端をテスタ(6)に接続
する。又TJ i T a OB単結晶−を引上げるた
めのルツボ(3)は例えばI r 91701m$ X
 70mmh X ]、mmt有底円筒状でルツボ(3
)の底(7)又はルツボと同等として扱われるルツボ(
7)を固定する部材に導線例えば上記同様の1ml+l
φの白金線(2)の一端を熱圧着し、そのリード線(2
)の他端を炉の外部に取シ出し、テスタ(6) K接続
する。ルツボ(3)の中にタンタル酸すチヱーム原料(
5)(出発物質、炭酸リチ二−ム、五酸化タンタル)を
入れ高周波加熱によル原料を融解しチョクラルスキー法
で作成を行なった。種子結晶(1)をLiTa09の融
液(5) K付ける際、種子結晶(1)及びルツボ(3
)の間に接続したテスター(6)で電流を測定しながら
種子結晶(1)を融液(5)に近づけた。融液(5)と
種子結晶(1)とが接触していない場合、テスター(6
)で検出される電流値は零(リーク電流等は無視した値
)であって接触と同時に1mA程度の電流(固定値)を
示す。又結晶を成長させて行くと電流が除去に少くなシ
、予め設定された電流値例えば0.5 mA程度の電流
値と同じになる。電流値が同じになれば所望の大きさの
結晶が成長したと判断される。この後ルツボの温度制御
等を行って単結晶の切シ離しを行ないながら電流値を検
知し、その電流値が零となれば結晶成長が終了したこと
になる。
この発明によって、困難だった融液への種子結晶(1)
付は及び引上げ単結晶を融液(5)から容易に切シ離し
が行え、しかも確実に行なえた。又、高温の炉内を見な
いでできる。又自動化にも応用できる。
岡上記実施例では種子結晶とルツボ間の電流変化をテス
タにょシ測定したが、電圧の変化を見て行っても同様で
ある。
1・・・種子結晶 2山種子結晶リード線3・・・ルツ
ボ 4・・・ルツボよシのリード線5・・・融液 6・
・テスター (7317)代理人 弁理士 則 近 憲 佑−乙

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ルツボに融液を収容し、この融液に種子結晶を接触させ
    、その種子結晶を引上げて単結晶を製造する際、前記ル
    ツボと種子結晶の間の電圧及び電流変化をテ・スタによ
    り測定し、その測定した電圧及び電流値が零より固定値
    に変化した時を結晶成長開始時とし、測定した電圧及び
    電流値が予め設定した電圧及び電流値と同じになった時
    点で融液から単結晶の切シ離し作業を行い、電圧及び電
    圧値が零となった時を結晶成長終了時とすることを特徴
    とする単結晶の製造方法。
JP14062584A 1984-07-09 1984-07-09 単結晶の製造方法 Pending JPS6042295A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012240854A (ja) * 2011-05-16 2012-12-10 Toyota Motor Corp 単結晶製造装置
WO2022047822A1 (zh) * 2020-09-03 2022-03-10 天通控股股份有限公司 一种大尺寸钽酸锂晶体的制备方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5848516A (ja) * 1981-09-18 1983-03-22 Toshiba Corp 弾性表面波装置

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