JPS6041591A - ホスフインオキシドを用いる溶媒抽出法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、酸性有機化合物を水溶液から除去する方法１
特に低級カルがン酸及びフェノール性化合物を商業的排
水から除去するために希釈剤を使用しないで２種又はそ
れ以上のホスフィンオキシトの混合物を使用する方法に
関する。

汚染物の除去、更に有用な化合物の溶液からの回収のた
めの水性排液の処理は近代化学工場において最も必要と
される部分である。そしてそれに対し水蒸気除去法及び
いくらか複雑な溶媒抽出法のよう力多くの方法が使用さ
れている。この後者の方法は回収する化合物の性質に非
常に依存するものである。溶媒の選択は厳密であり〜溶
媒損失を最小にしなければならない。

いくつかの有機化合物例えば希水溶液中の酢酸及びフェ
ノールは特に除去が困難でおる。酢酸をエーテル又はケ
トンを溶媒として用いて抽出することは公知である。し
かしながら、酢酸のこれらの溶媒との平衡分配係数Ｋａ
（平衡時における溶媒相の溶質の重量画分／水性相の重
量画分）は約１゜０又はそれ以下である。この低いＫ（
ｌは抽出工程において非常に高い溶媒流速を必要とし、
これらの溶媒での回収は１水溶液に酸が３〜５重量％以
下で存在している場合、経済的に魅力がない。

他の、またいくらか改良された溶媒系は、ある有機燐化
合物及び特にホスフィンオキシトを希釈剤中で用いるこ
とによって適用されてきた。しかしこれらの抽出剤／希
釈剤系は〜希釈剤（これは高融点の抽出剤を使用しうる
ためにしばしば必要とされる）の存在が抽出剤の濃度を
かなシ減少させ且つ水溶液から除去された化合物と並流
的に蒸発するために続く除去工程を妨害するという理由
から不利である。

それ故に希釈剤を用いないで１００チ抽出剤を溶媒とし
て用いることは有利であるが、抽出剤の融点及び除去を
行なう経済的な運転温度によってそれは制限される。特
に純トリアルキルホスフィ／オギシドを用いることは公
知であるが、その比較的高い融点は）除去工程を大気温
度以上で行なうことを必要とし、工場の故障中に凍結す
る危険をこうむる。

今回予期を越えて、トリアルキルホスフィンオキシト混
合物を用いることにより、融点がより許容しうる程度と
なるばかりでなく、この混合物の、希水溶液から酸性有
機化合物を抽出する能力が高くなるということが発見さ
れた。この混合物は酢酸のように抽出しにくい化合物に
対して予期を越えた高抽出係数を提供する。除去された
化合物を含む有機相は、蒸留又はアルカリ溶液での除去
のようないくつかの方法を用いて除去することができる
。

従って本発明によれば、炭素数１〜５の置換又は未置換
カルボン酸及び置換又は未置換フェノール性化合物から
なる群から選択される酸性有機化合物を希水溶液から除
去する際に、該水溶液を、少くとも２種のホスフィンオ
キシト、即ち式の第１のホスフィンオキシト及ヒ式 Ｒ、ｉ ＼ の第２のホスフィンオキシトの、但し式中勇、Ｒ２・Ｒ
，、Ｒ，／・Ｒ，／及びＲ３／はそれぞれ０４〜Ｃ１８
を有するアルキル１シクロアルキルｔアラルキル及び置
換アラルキルからなる群から独立に選択され）該第１の
ホスフィンオキシト中の炭素原子の全数は少くとも１５
であシ、該第２のホスフィンオキシト中の炭素原子の全
数は少くとも１７であり、第１及び第２のオキシドにお
ける炭素原本 子の全数における差は少くとも２でり、該ホスフィンオ
キシトの少くとも１種が少くとも５重量％で６０重量％
よシ多くない量で存在する〜ホスフィンオキシトの混合
物１）と、或いは式Ｒ，＃ＰＯ。

Ｒ，＃ＰＯ１Ｒ，ｙ　Ｒｍ　ＰＯ、Ｒ＃　Ｒ２１＃　ｐ
○を有し、但しＲ′及びｆｉ　ｌ／／はそれぞれ０４〜
ＣＩ６　を有するアルキル、シクロアルキル、アラルキ
ル及び１ｍアラルギルからなる群から選択される、少く
とも４種のホスフィンオキシトの、室温において液体で
ある混合物であって、それぞれのホスフィンオキシトの
炭素原子の全数が少くとも１５、好しくけ少くとも１８
でアシ、該ホスフィンオキシトは少くとも１重量％で６
０重量％よシ多く々い量で存在する、混合物２）と接触
させることを含んでなる１該酸性有機化合物の除去法が
提供される。

好捷しくは、混合物１）の該第２のホスフィンオキシト
における炭素原子の全数は少くとも１９であり、また第
１及び第２のオキシドにおける炭素原子の全数の差は少
くとも４でおる。

更に好ましくは、混合物１）の少くとも１つのホスフィ
ンオキシトは約２５〜４５重量％の量で存在し・ホスフ
ィンオキシトの該混合物は約５０℃より低い融点を有す
る。

好ましくは１最低の炭素原子数を有する第１のホスフィ
ンオキシトの炭素原子の全数が１８である場合は、第二
番に最低の炭素原子数を有する混合物２）の第２のホス
フィンオキシトの炭素原子数は少くとも２０であり〜第
１のオキシドの炭素原子の全数と最高の炭素原子数を有
するオキシドのそれとの差は少くとも６である。

更に好ましくは、混合物２）におりる少くとも１種のホ
スフィンオキシトは約３５〜５０ｆｆｉｆｆｉ％の情で
存在し、ホスフィンオキシトの該混合物は約２０℃よシ
低い１更に普通には約１０℃より低い融点を有する。

本発明の方法は希水性流における種々の有用な汚染物又
は不純物に関して有用であると思われるが、酸性有機化
合物例えばカル日？ン酸及びフェノール性化合物に対し
て特に有用である。特に本方法は炭素数１〜５のカルボ
ン酸、好ましくは酢酸、ゾロピオン酸、酪酸及びも草酸
（通常工業排水に見出される）及びフェノールを除去す
るために用いられる。このカルボン酸は１つ又はそれ以
上のハロケ゛ン、ヒドロキシル、シアン又ハアルコキシ
ル基によって１ｕ換されていてよい０本発明の方法で除
去しうる他の特別な酸はｔヘキサン酸１ヘプタン酸、オ
クタン酸、ノナン酸、安息香酸、コノ１り酸、シュウ酸
−リンゴ酸、乳酸〜シアノ酢酸、グリコール酸及びマレ
イン酸を例示できる。本発明に供されるフェノール性化
合物は、１つ又はそれ以−ヒのアルキル基で置換された
ものを含む、希水性流から貯去しうるフェノール性化合
物の例は、ｐ−クレゾール、レゾルシノール、１−ナフ
トールへ２−ナフトール、０−ｌｍ−及びｐ−キシレノ
ール及び未置換又は置換ノ・イドロキノンーフロログル
シノール及びピロガロールを含む。

冷水溶液から除去をれる化合物は希溶液中にいずれかの
低量で又は適度に低量で存在しうるが、普通５重量％よ
り少ない量で、更に望ましくは２重量％より少ない或い
は１重量より少ない量であってもよい。

本発明の方法は、製紙及び合成燃料油工場の排水からカ
ルｄ？ン酸を回収するのに特に有用である。

本方法は、フェノール樹脂製造工程の排水からのフェノ
ールの回収に、また石英のガス化においても有用でちる
。普通抽出しにくい有機及び無機の化合物（例えばｓｂ
〜Ａｓ５１３１化合物）の回収は本発明の方法で行ない
うると思われる。

ホスフィンオキシトにおいて、１つ又はそれ以上のＲ又
はＲ′基がアルキルである時、好適なアルキルは約０４
〜約Ｃ１８の直鎖及び分岐鎖アルキルを含み、一方好適
なシクロアルキルは炭素数６〜８の置換又は未置換シク
ロアルキルを含むゆ混合物１）として有用である適当な
ホスフインオキシドの例は〜トリーｎ−ヘキシルホスフ
ィーオキシド（ＴＨＰＯ）、）ソーｎ−オクチルホスフ
ィンオキシト（ＴＯＰＯ）、トリス（２ｔ’ｔ４−）！
Ｊメチルペンチル）−ホスフィンオキシト１トリシクロ
ヘキシルホスフインオキシド、）！Ｊ−ｎ−ドデシルホ
スフィンオキシト９、トリーｎ−オクタデシルホスフィ
ンオキシト、トリス（２−エチルヘキシル）ホスフィン
オキシト、ジ−ｎ−オクチルエチルホスフィンオキシト
、ジ−ｎ−ヘキシルイソブチルホスフィンオキシトルオ
クチルジインブチルホスフィンオキシト、トリベンジル
ホスフィンオキシド１ジーｎ−へキシルベンジルホスフ
ィンオキシド、ジ−ｎ−オクチルベンツルホスフィンオ
キシド〜９−オクチル−９−ホスファビシクロ（ｓ、ｓ
、ｔ３ノナ／−９−オキシドなどを含むが、これに限定
されるものではない。

ＴＯＰＯ及びＴＨＰＯは２パート・ミックス（ｐａｒｔ
　ｍ１ｘ）　おいて好適なオキシドである。

混合物１）の１つのオキシドは少くとも５重量％且つ高
々６０重量−の量で存在すべきでおシー好適な量は約２
５〜４５重′Ｊｉ１％、更に好ましくは約３５重ｆｆｉ
％である。多数のホスフィンオキシトが混合物１）に使
用できるけれど、　２Ａ−）・ミックスを用いることは
最も簡便である。特に好適な２パート・ミックスはトリ
ーｎ−オクチルホスフィンオキシト（ＴＯＰＯ）とトリ
ーｎ−ヘキシル−ホスフィンオキシト（ＴｆｌＰＯ）の
混合物である。ＴＯＰＯ／ＴＨＰＯ混合物に対して好適
ム比は３５／６５重量％である。しかしながら、予期を
越えて増大したＫｄ値を与える相乗効果は〜上述のホス
フィンオキシトの２パート・ミックス又はそれ以上の混
合物で得ることができる。

混合物１）で使用されるホスフィンオキシトは、第１及
び第２のオキシドにおける炭素原子の全数の差が少くと
も２、好ましくは少くとも４Ｓ更に好ましくは６又は８
であるように選択される。

好ましくは混合物１）の融点は１商業的排溶液を液／液
抽出法で処理する普通の上限温度である約６０℃よりも
低い、しかしながら、融点は工程の効率及び費用を改善
するためによシ低い方が望ましい、約５０℃の融点は好
ましく−従って約５０℃よシ低い、更に好ましくは３０
℃又は２５６よシ下で溶融するホスフィ／オキシド混合
物は・酸性有機化合物を抽出する能力が許容できる場合
へ実際上の観点から本方法で使用されるであろう。

ＴＯＰＯ／ＴＨＰＯの、３５／６５重量％割合の最も好
適な混合物は約１６℃で溶融する。

混合物２）として有用である適当なホスフィンオキシト
の例は混合物１〕に対して上述したものを含む、更に次
のホスフィンオキシトも使用しうるニジヘキシルモノオ
クチルホスフィンオキシド、ジオクチルモノへキシルホ
スフィンオキシト１ジへキシルモノデシルホスフィンオ
キシドｔソデシルモノへキシルホスフィンオキシＰ〜ジ
オクチルモノデシルホスフィンオキシド〜ジデシルモノ
オクチルホスフィンオキシド、及びジヘキシルモノプチ
ルホスフィンオキシド。

すべての酸化物は混合物２）に少くとも１重量％及び高
々６０重量％の量で存在すべきであるけれど、少くとも
１種のオキシドに対する好適な量は、約１．５〜１１０
重量％である。４つよシも多い）ホスフィンオキシトも
混合物２）に使用しつるけれども、２種のオレフィン化
合物から４ミツクスを製造することが最も簡便である。

特に好適な４ノクート・ミックスはトリーｎ−オクチル
ホスフィンオキシト（ＴＯＰＯ）：）ソーｎ−ヘキシル
ホスフィンオキシト（ＴＨＰＯ）ニジヘキシルモノオク
チルホスフィンオキシド及びジオクチルモノヘキシルホ
スフィンオキシドである。しかしながら予期を越えて増
大したＫＤ値を与える相乗効果は上記ホスフィンオキシ
トの４パート・ミックス又はそれ以上のノセート・ミッ
クスを用いて得ることができる。

混合物２）で使用されるホスフィンオキシト′はオキシ
ドの少くとも２つの炭素原子の全数における差が少くと
も２であり、まｆｃ６まで、またはそれ以上までである
ように選択される。

好ましくは、混合物２）の融点は約２０℃より低い、し
かしながら、工程の効率及び費用を改良し、また物質の
取シ扱い性の利点を与えるために、融点は更に低い方が
望ましい、約１０℃よシ低い融点は好適であり、従って
約Ｔｏ′ｃ％更に好ましくは０±５℃で溶融するホスフ
ィンオキシト混合物は、その酸性有機化合物の抽出性能
が許容できるならば、実際的な観点から本方法に用いる
ために選択できる。

低融点ホスフィンオキシト混合物を用いることによって
得られるエネルギーの節約とは別にｔ低融点混合物の他
の利点は、ホスフィンオキシトがそのま＼で使用できる
ために希釈剤の使用が避けられ、また工場の運転停止中
の凍結の可能性が回避される。ホスフィンオキシトの低
融点の共融混合物は、今まで昇温度で或いは希釈剤と一
緒にだけ使用でき、しばしば複雑な除去操作が後続する
ホスフィンオキシトを、融点の低下のために使用するこ
とを可能にする。

更にヘキセン及びオクテンから製造される好適な４元ホ
スフィンオキシト混合物はへ約７０％のＴ［（ＯＰを有
するＴＨＯＰ／ＴＯＰＯの好適な２元ボスフィンオキシ
ド混合物と比べて、約２０％のＴＨＰＯ（、か有さない
、ＴＨＰＯは望ましい置板上に水に溶解するから、より
少ないＴＨＰＯを有する好適な４元ホスフィンオキシト
混合物は、明らかに水浴液への溶解度が小さくなシ、水
溶液から酸性有機化合物を抽出するのに２元系よシも有
利である。

しかしながら本発明の方法で用いるホスフィンオキシト
混合物の主な利点は、そのような混合物によって提供さ
れる予期を越えて増大した抽出性である。

この抽出性は、単独で用いたときのあるホスフィンオキ
シトと等しい量の抽出性を越え〜従って希水溶液から所
望の溶質を抽出するのに必要とされるホスフィンオキシ
トの量を工程時に節約する。

好適なホスフィンオキシト混合物２）は、２種又はそれ
以上のオレフィン化合物１例えばペンテン、ヘキセン１
オクテン及びデセンをホスフィンと反応させることによ
って製造される。２種のオレフィン性化合物例えばオク
テン及びヘキセンからの中間体の５級ホスフィン生成物
を過酸化水素で酸化してｔ４成分のトリアルキルホスフ
インオキクド混合物、即ちＲ，’ＰＯ，Ｒ，＃ＰＯ１Ｒ
＃Ｒ＃ＰＯ，Ｒ’Ｒ，＃ＰＯを得る。オレフィン化合物
（オクテン／ヘキサン）の比に依存して、混合物は室温
で液体でありうる１例えばヘキセン７０重量％：オクテ
ン３０重量％の混合物の凍結高度は約０℃である。実際
の取シ扱い上の理由から１混合物は室温で液体である０
例えばヘキセン１オクテン及びデセンから得られる９パ
ート・ミックスは特に簡便で効果的であることがわかっ
た。

単に例示の目的で示す次の実施例によって、本発明を更
に詳細に記述する。

実施例　１ 酢酸及び更にフェノールの、希水溶液からの抽出性に関
して溶媒の試料を試験した。各溶媒の試料を、酢酸を含
有する水溶液の一定量と共に振とうし且つ混合した。数
分後に、水性相及び有機相を分離し、水性相を酢酸の存
在に関して分析した。

すべての酢酸が有機相へ回収でれ且つ移動するまで水性
相との混合を繰返した。ｉｏｎチ回収のために必要とさ
れる有機相（溶媒）の容積量を水性／有機（Ａ１０　）
比で示す。

酢　酸　（商業的排水） ｌ　ＤＰＡ中＋５０ｇ、ｐ、ｌ　ＴＯＰＯ（１５２ＤＰ
Ａ中４００ｇｐ＋１．　’ｒｏｐｏ　Ｃｌ３６５　Ｔｆ
（ＰＯ／ＴＯＰＯ （６５７３５劃０比）２．０ フェノール（合成溶液） ＋００　ｇｐｌ　ＴＯＰＯ ２Ｃｏｎｏｃｏ　５００中　６ ２［ＩＤ　ｇｐｌ　ＴＯＰＯ ３Ｃ！ｏｎｏｃｏ　５００中　５ ５２５　ｇｐｌ　ＴＯＰＯ ４Ｔ　Ｆ−Ｐ　Ｏ／Ｔ　ＯＰ　Ｏ（６５／　３５重量％
比）１０試料１及び２では、ＴＯＰＯを、ソフェニルア
ルカンからなる０ｏｎｏｃｏ［の市販の希釈剤ＤＰＡ中
に溶解した。溶媒中のＴＯＰＯＯ量を増加させると、有
機相の使用量が減る為即ち水性／有機（Ａ１０）比が増
大することが見られる。しかしながら溶媒試料３の場合
、ホスフィンオキシト混合物（ＴＨＰＯ：　ＴＯＰＯの
６５重量％＝３５重遍％）は酢酸の抽出能力を実質的に
増加させる。

ｔｉミツエノール抽出において１試料４は実質的に増大
しｉｃ　Ａ　／　Ｏ値を示した。これはフェノールの水
溶液からの１００％回収のために１より少量の有機（溶
媒）相で十分であることを明白に示している。

実施例　２ 耐酸及びプロピオン酸を６．１５及びｔｓｏｇｐ’１の
量で含有す□る商業的な水性排液を、ＴＨＰｏ／Ｔ　Ｏ
ＰＯ混合物を用いて抽出した。各カルボン酸に対する平
衡濃度を異なるＡ　／　Ｏ比に対して測定した。

第　１　表 溶媒（重量％）：　ＴＨＰＯ６５、ＴＯＰＯ５５温度：
５０℃ ５　１８．３　、２．５０７．３　６．Ｔ５α２７２２
．８２　９．７０１．３０７．５　２．７８α１１２５
．５１　５．５４１６１９．＋　１．４７α０３４９．
０＊水性分析及び物質収支に基づく。

残留する酸に対するＹ軸と一致した等混線。

更に同一の排水を、異なる濃度でＴＯＰＯを含有する溶
媒を用いて抽出した。

＊水性分析及び物質収支に基づく、他の酸に対する本質
的にＹ軸と一致した等混線。

ＴＨＰＯ／ＴＯＰＯ混合物に対するＫｄ値は対応するＡ
　／　Ｏ比に対して１ジフエニルアルカン（ＤＰＡ　）
希釈剤中にＴＯＰＯだけを用いたもののＫｄ値よシもか
なり大きいことが明確に示される。

実施例　５ １０　ｇｐ：Ｌ　フェノールを含む水溶液を・異なる抽
出剤濃度の溶媒で抽出した。

種々のＡ　／　Ｏ値に対する有機及び水性相におけ、平
衡のフェノール濃度を決定し、平衡分配係数−ｄを計算
した。この場合にも、ホスフィンオキ・ド混合物に対す
るＫｄ値はすべてのＡ　／　Ｏ値に一シ、単一のオキシ
ド溶媒よりも予期を越えて高・ということが見られる。

次の４つの実施例は１４元ホスフィンオキシト、金物の
製造におけるＣ！　ｓ／　Ｏａ混合物、更に、。／Ｃ０
混合物の使用例を示す。

：施例　４ オートクレーブ中において、ホスフィンを、オーテン７
０重量％及びヘキセン３０重量％からなオレフィン混合
物と反応させた。続いて中間体反応生成物（３級ホスフ
ィン）を過酸化水素で化して４種の５級ホスフィンオキ
ザイドの混合を含有する最終生成物を製造した。生成物
は、析ニよるとトリヘキシルホスフィンオキシド５９％
、ジヘギシルモノオクチルホスフィンオキシド２２．８
％、ジオクチルモノヘキシルホスフィンオキシド４５．
７％及びトリオクチルホスフィ／オキシド２７．　ｂ　
％　（重量基準）を含むことがわかった。最終生成物は
８〜１７℃の融点範囲を有し・室温で液体であった。

実施例　５ オクテン６０重ｉ％及びヘキセン４０重量％からなるオ
レフィン混合物を用いて実施例４を繰返した。最終の３
級ホスフィンオキシト生成物は、分析によるとトリヘキ
シルホスフィンオキシト８％、ソヘキシルモノオクチル
ホスフインオキシド５１９％、ジオクチルモノへキシル
ホスフィ／オキシド４２．８％及びトリオクチルホスフ
ィンオキシト＋　７．４　％　（重量基準）を含有する
ことがわかった。最終生成物は、−５〜０℃の融点範囲
を有し、室温で液体であつｆｃつ 実施例　６ オクテン５０重量％及びヘキセン７０重量％からなるオ
レフィン混合物を用いて実施例４を繰返した。最終生成
物は分析によると１　トリヘキシルホスフィンオキシト
４［１２％１ジヘキシルモノオクチルホスフインオキシ
ド４２．６％、ジオクチルモノヘキシルホスフィンオキ
シド１５．５％及ヒドリオクチルホスフィンオキシト２
％を含有スることがわかった。３級ホスフィンオキシト
混合物は一７〜＋６℃の融点範囲を有し、室温で液体で
あった。

実施例　７ デセン５０重量％及びヘキセン５ｏ重ｉ％からなるオレ
フィン混合物を用いて実施例４を繰返した。最終生成物
は分析によると、トリヘキシルホスフィンオキシト２２
％、ジヘキシルモノデシルホスフィンオキシド４２．５
％、ジデシルモノヘキシルホスフィンオキシド２ａ９％
及ヒドリデシルホスフィンオキシド６．４チを含有する
ことがわかった。最終生成物は一５〜＋１０℃の融点範
囲を有し、室温で液体であった。

次の第４表は１ヘキセン７０重量％及びオクテン３０重
量％からの４元ホスフィンオキシト混合物（実施例６）
が、ＴＨＰＯｂ　５重量％／ＴＯＰ０３５重量％の２元
混合物と比較した時、溶媒抽出剤として用いるのに幾分
改良された性能特性を有すること１但し２元及び４元混
合物の双方とも従来法よ）優れていることを示す。

第４表 溶［：　（１）へキシル７０、オクチル３０．４元系（
２）ヘキシル６５〜オクチル５ｓＳ２元系水性：１［Ｌ
２５　ｇｐｌ　酢酸（合成）湛度：５０℃ 時間：５分 １０　５２ｊ　４．９Ｂ　１α５Ｂ　４７．１　５．５
４　α５０５　３ｚ４　五７８　α５７　２ａ０　４．
６５　６．Ｑ２２　１６．０２．２５　７．１？　１５
．５　２．４８．　α２５１　ａ６ｏ　ｔｓ７　５．４
ａ　＆［５１，４０６，５２α５　４７５　α７５　６
．５５　４．７４　［１７８６，０８即ち、種々のＡ１
０値に対し、有機及び水性相における平衡酢酸濃度を用
いてＫＩ）値を計算する時、４元混合物に対するＫＤ値
が、特に高酢酸負荷量において２元混合物よりもいくら
か高い（高Ａ　／　Ｏ比）ことが理解できる。更に第４
表に示す酢酸等ｍ線からの内挿は、２元混合物に対する
Ａ　／　Ｏ：　２において、４段階での完全な抽出を示
している。対比しうる４元混合物を用いる場合には、Ａ
１０＝−２において３段階が必要である。

添伺する図面には、実施例８の４元ホスフィンオキシト
混合物及び２元混合物の抽出特性を示しである。

【図面の簡単な説明】

図面は、２元及び４元ホスフィンオキシトを用いた場合
の酢酸の抽出特性を示す。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、　炭素数１〜５の置換又は未置換カルボン酸及び置
   換又は未置換フェノール性化合物からなる群から選択さ
   れる酸性有機化合物を冷水溶液から除去する際に、該水
   溶液を、 少＜＋！：も２種のホスフィンオキシト、即ち式％式％ の第１のホスフィンオキシト及び式 Ｒ、ｒ の第２のホスフィンオキシトのへ但し式中Ｒ，％Ｒ，，
   Ｒいハ′％Ｒ，ｌ及びＲ８′はそれぞれ０４〜ＣＩ８を
   有するアルキル〜シクロアルキル１アラルキル及び置換
   アラルキルからなる群から独立に選択され、該第２のホ
   スフィンオキシト中の炭素原子の全数は少くとも１７で
   あム第１及び第２のオキシドにおける炭素原子の全数に
   おける差が少くトも２でｈｊ、ｖホスフィンオキシトの
   少くとも一方は１少くとも５重量％であって６０重量％
   より多くない量で存在する１ホスフィンオキジトノ混合
   物１．）　トｓ　Ｔｅｌ　イｔｆ：　”ｌ：、　Ｒ＠’
   　Ｐ　Ｏ％ＲＨ”　Ｐ　ＯｌＲ，／Ｒ／＃ＰＯ，Ｒ’Ｒ
   ，Ｉ’ＰＯを有し、但シＲ＃ヒＲ”はそれぞれ０４〜’
   ｔｓを有するアルキル、シクロアルキル１アラルキル及
   び置換アラルキルからなる群から独立に選択され）少く
   とも４種のホスフィンオキシトの、室ＩＮにおいて液体
   である混合物であって、各ホスフィンホキシト中の炭素
   原子の全数が少くとも１重量％で６０重量％より多くな
   い量で存在する混合物２）と１接触させることを含んで
   なる１核酸性有機化合物の除去法。 ２、混合物１）の該第２のホスフィンオキシト中の炭素
   原子の全数が少くとも１９であシ、また混合物１）の第
   １及び第２のオキシドにおける炭素原子の全数の差が少
   くとも４でちる特許請求の範囲第１項記載の方法つ 五　混合物１）の該少くとも１つのホスフィンオキシト
   が約２５〜４５重量％の量で存在する特許請求の範囲第
   １項記載の方法。 ４、混合物１）のホスフィンオキシトの該混合物が約５
   ０℃よシ低い融点を有する特許請求の範囲第１又は５項
   記載の方法。 ５、　該酸性有機化合物が酢酸Ｎプロピオン酸及びフェ
   ノールからなる群から選択される特許請求の範囲第１又
   は３項記載の方法。 ６　混合物１）の該少くとも１つのボスフィンオキシド
   が約３５重量％の量で存在する特許請求の範囲第１項記
   載の方法。 Ｚ　ホスフィンオキシトの該混合物りが約３０℃よシ低
   い融点を有する特許請求の範囲第１又ｉ、］：３項記載
   の方法。 ａ　混合物１）の該少くとも１つのホスフィンオキシト
   がトリーｎ−オクチルホスフィンオキシトである特許請
   求の範囲第１項記載の方法。 ２　ホスフィンオキシトの該混合物りがトリーｎ−ヘキ
   シルホスフィンオキシト及びトリーｎ−オクチルホスフ
   ィンオキシドである特許請求の範囲第３又は５項記載の
   方法。 ＩＱ、ホスフィンオキシトの該混合物が約２０℃より低
   い融点を有する特許請求の範囲第１項記載の方法。 １１、炭素数の最低数を有する混合物２）の該ホスフィ
   ンオキシトの第１のものの炭素原子の全数が少くとも１
   ８でありＳまた混合物２）の該ホスフィンオキシトの第
   ２のものが少くとも２０であり、そして混合物２）の第
   １のオキシドの炭素原子の全数及び混合物２）の炭素原
   子の最高数を有するオキシドのそれの差が少くとも６で
   ある特許請求の範囲第１項記載の方法。 １２、混合物２）における該ホスフィンオキシトの少く
   とも１つが約３５〜５０重量−の量で存在する特許請求
   の範囲第１項記載の方法。 １五　ホスフィンオキシトの該混合物２）が約１０℃よ
   り低い融点を有する特許請求の範囲第１項記載の方法。 １４゜　ホスフィンオキシトの該混合物２）がトＩＪ　
   ＋　ｎ−ヘキシルホスフィンオキシト、）！Ｊ−ｎ−オ
   クチルホスフインオ中シト、ジヘキシルモノオクチルホ
   スフィンオキシド及びジオクチルモノヘキシルホスフィ
   ンオキシドである特許請求の範囲第１項記載の方法。 １５、ホスフィンオキシトの該混合物２ンがトリーｎ−
   ヘキシルホスフィンオキシト〜　トリーｎ−デシルホス
   フィンオキシト、ジヘキシルモノデシルホスフィンオキ
   シド及びソデシルモノヘキシルホスフィンオキシドであ
   る特許請求の範囲第１項記載の方法。 １６、ホスフィンオキシトの該混合物２〕が少くとも９
   つのホスフィンオキシトを含む特許請求の範囲第１項記
   載の方法。 ＩＺ　ヘキシル−オクチル及びデシル基が混合物２）に
   存在する特許請求の範囲第１６項記載の方法。 １ａ　式Ｒ１＃ＰＯ，Ｒ，ｌ＃Ｐｏ、Ｒ，＃ＲＩＩ　Ｐ
   ＯｌＲ１１Ｅ　ｔ１７／　Ｐ　□をＭし１但しＲ′及び
   Ｒ“がそれぞれ０４〜Ｃ１，を有するアルキル、シクロ
   アルキル、アシルキル及び置換アラルキルからなる群か
   ら独立に選択され・各ホスフィンオキシト中の炭素原子
   の全数が少くとも１５であり、該ホスフィンオキシトが
   混合物中に少くとも１重量％で６０重重量上り多くない
   昔で存在し、該混合物が室温で液体である、少くとも４
   種のホスフィンオキシトのホスフィンオキシト混合物。 １９２０℃よシ低い融点を有する特許請求の範囲第１８
   項記載のホスフィンオキシト混合物。 ２α　炭素数の最低数を有する該ホスフィンオキシトの
   第１のものの炭素原子の全数が少くとも１８であり、ま
   た該ホスフィンオキシトの第２のものが少くとも２Ｇで
   あり、そして第１のオキシドの炭素原子の全数及び炭素
   原子の最高数を有するオキシドのそれの差が少くとも６
   である特許請求の範囲第１８項記載のホスフィンオキシ
   ト混合物。 ２１、少くとも１つの該ボスフィンオキシドが約５５〜
   ５０重ｉ％のＩで存在する特許請求の範囲第１８項記載
   のホスフィンオキシト混合物。 ２Ｚ　約１０℃よシ低い融点を有する特許請求の範囲第
   １８項記載のホスフィンオキシト混合物。 ２＆　トリヘキシルホスフィンオキシト約２〜４５Ｍ１
   ｔｓｓ　ジヘキシルモノオクチルポスフィンオキシド２
   ０〜４５重１１％　ジオクチルモノヘキシルホスフィン
   オキシド１０〜４８重量％、及びトリオクチルホスフィ
   ンオキシト１〜３０重ｉ％を含んでなる特許請求の範囲
   第１８項記載のホスフィンオキシト混合物。 ２４、トリへキシルホスフィンオキシト約２〜２４ｉＪ
   ｉハソへキシルモノデシルホスフィンオキシド４０〜４
   ５重量％１ジデシルモノヘキシルホスフインオキシド２
   ６〜３３重量％及びトリデシルホスフィンオキシド４〜
   ９重量％を含んでなる特許請求の範囲第１８項記載のホ
   スフィンオキシト混合物。 ２５、少くとも２８ｉのオレフィン性化合物をホスフィ
   ンと反応させて中間体の３級ホスフィン生成物を製造し
   、該３級ホスフィン生成物を酸化して少くとも４種のホ
   スフィンオキシトのホスフィンオキシト混合物を得る特
   許請求の範囲第１８項記載のボスフィンオキシド混合物
   の製造法。 ２＆　該酸化を過酸化水素の添加で行なう特許請求の範
   囲第２５項記載の方法。 ２ｚ　ヘキセンをオクテンと一緒に反応させる特許請求
   の範囲第２５又は２６項記載の方法。 ２＆　オクテン約２５〜６５重量％をヘキセン約７５〜
   ３５重量％と一緒に反応させる特許請求の範囲第２５又
   は２６項記載の方法つ ２９、オクテン約５５〜６５重量％をヘキセン約５５〜
   ４５重量％と一緒に反応させる特許請求の範囲第２５又
   は２６項記載の方法。 ５α　ヘキセンをデセンと一緒に反応させる特許請求の
   範囲第２５又は２６項記載の方法。 ３１、ヘキセンｔオクテン及びデセンを反応させ一続い
   て酸化して該混合物中に９つのホスフィンオキシト全生
   成せしめる特許請求の範囲第２５又は２６項記載の方法
   。