JPS6036445A - ３，４′−ジアミノジフエニル化合物の製造方法 - Google Patents
３，４′−ジアミノジフエニル化合物の製造方法Info
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- JPS6036445A JPS6036445A JP14435783A JP14435783A JPS6036445A JP S6036445 A JPS6036445 A JP S6036445A JP 14435783 A JP14435783 A JP 14435783A JP 14435783 A JP14435783 A JP 14435783A JP S6036445 A JPS6036445 A JP S6036445A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、３，４−ジアミノジフェニル化合′吻の製造
ＪＪ法に関する。
ＪＪ法に関する。
さらに詳しくは、一般式（１）
（式中、ＸはＣＯまたは５Ｏｆｆｉを示す）て表わされ
る３−アミノ−４−クロロジノエニル化合物をアンモニ
アと処理することを特徴とする一般式（１１）（式中、
ＸはＣＯまたは８０．を示ず）て表わされる：３．・１
−ジアミノジフェニル化合′吻に関するものである。
る３−アミノ−４−クロロジノエニル化合物をアンモニ
アと処理することを特徴とする一般式（１１）（式中、
ＸはＣＯまたは８０．を示ず）て表わされる：３．・１
−ジアミノジフェニル化合′吻に関するものである。
３．４−ジアミノジフェニル化合物はｌ１熱性高分子単
量体、農医薬および染料中間体等にイ］用であり、！１
牙に耐熱性ポリイミドの原を１となる屯ザな物質である
。
量体、農医薬および染料中間体等にイ］用であり、！１
牙に耐熱性ポリイミドの原を１となる屯ザな物質である
。
これら３，４′−ジアミノジフェニル化合物は従来対応
するジニトロジフェニル化合物を還元して製造する方法
が知られている。例えば、３，４−ンアミノベンゾフェ
ノンは３．４’−ジニトロベンゾフェノンを塩化スズに
より還元して製造する方法が知られている（ Ｉ 、Ｍ
ｏｙｅｒら、Ｊ、ん１１ 、Ｃｈ ｅｍ 、 Ｓｏ ｃ
、。
するジニトロジフェニル化合物を還元して製造する方法
が知られている。例えば、３，４−ンアミノベンゾフェ
ノンは３．４’−ジニトロベンゾフェノンを塩化スズに
より還元して製造する方法が知られている（ Ｉ 、Ｍ
ｏｙｅｒら、Ｊ、ん１１ 、Ｃｈ ｅｍ 、 Ｓｏ ｃ
、。
旦ｒ２６３７（１９４９） ）。
３．４−ジアミノジフェニルスルホンは３，４−ジニト
ロジフェニルスルホンをラネイニッケルヲ用いて還元す
る方法（Ｙ 、 Ｔ ａ ｋ Ｌｌ １） ０ら、Ｊ
、ｐｈａｒｍ。
ロジフェニルスルホンをラネイニッケルヲ用いて還元す
る方法（Ｙ 、 Ｔ ａ ｋ Ｌｌ １） ０ら、Ｊ
、ｐｈａｒｍ。
Ｓｏｃ、Ｊａｐａｎ、、６２（１９４２） ）、塩化ス
ズを用いて遣元する方法（Ｂ、ＩＪＩ３ａｋｃｒら、
Ｊ 、Ｏｒｇ 、Ｃｈｅｍ、 。
ズを用いて遣元する方法（Ｂ、ＩＪＩ３ａｋｃｒら、
Ｊ 、Ｏｒｇ 、Ｃｈｅｍ、 。
１５．４００（１９５０）等が知られている。しかし、
ジニトロ化合物をスズ、ニッケル等の重金属ヲ用いて還
元する方法は金属を目的物と分離する１榮作が類タイ１
．で、ｇｌ、５ｔの金属の残存や重金属、廃液の処理等
に多大の経費を要する等の欠点がある。
ジニトロ化合物をスズ、ニッケル等の重金属ヲ用いて還
元する方法は金属を目的物と分離する１榮作が類タイ１
．で、ｇｌ、５ｔの金属の残存や重金属、廃液の処理等
に多大の経費を要する等の欠点がある。
さらに３，４−ジアミノベンゾフェノンおよび３．４−
ジアミノジフェニルスルホンの原料でアル３．４−シニ
トロベンゾフエノンオ、Ｊ：ヒ３，４−シ二Ｉ・ロジフ
ェニルスルホンの製造方法も工業的に有Ｊ’ｌｌ ”、
：＋−刀方法見出されていない。例えば３，４＋−ジニ
トロベンゾフェノンは４−ニトロベンジルアルコールと
ニトロベンゼンより３，４−ジニトロジフェニルメタン
を得、それをクロム酸で酸化する方法（Ｐ、Ｊ ０Ｍｏ
ｎｔａｇｎｅ、Ｂｅｒ、、旦−２２９３〜２２９４（１
９１６） ）、ジフェニル酢酸を発煙硝酸でニトロ化し
て３，４１−ジニトロジフェニル酢酸を得、これをクロ
ム酸で酸化する方法（１，Ｍｃｙｅｒら、Ｊ、Ａｌ１１
゜Ｃｈｃｍ、Ｓｏｃ、、７１．２６３５〜２６３９（１
９４９） ） 等がある。
ジアミノジフェニルスルホンの原料でアル３．４−シニ
トロベンゾフエノンオ、Ｊ：ヒ３，４−シ二Ｉ・ロジフ
ェニルスルホンの製造方法も工業的に有Ｊ’ｌｌ ”、
：＋−刀方法見出されていない。例えば３，４＋−ジニ
トロベンゾフェノンは４−ニトロベンジルアルコールと
ニトロベンゼンより３，４−ジニトロジフェニルメタン
を得、それをクロム酸で酸化する方法（Ｐ、Ｊ ０Ｍｏ
ｎｔａｇｎｅ、Ｂｅｒ、、旦−２２９３〜２２９４（１
９１６） ）、ジフェニル酢酸を発煙硝酸でニトロ化し
て３，４１−ジニトロジフェニル酢酸を得、これをクロ
ム酸で酸化する方法（１，Ｍｃｙｅｒら、Ｊ、Ａｌ１１
゜Ｃｈｃｍ、Ｓｏｃ、、７１．２６３５〜２６３９（１
９４９） ） 等がある。
３．４’−ジニトロジフェニルスルホンは４−ニトロン
エニルスルホニルクロライドとベンゼンよりフリーデル
クラフッ反応により４−ニトロジフェニルスルホンを得
、これをニトロ化して製造する方法（Ｙ、’ｆ’ａｋｕ
ｂｏら、Ｊ、ｐｈａｒｍ、Ｓｏｃ、Ｊａｐａｎ、。
エニルスルホニルクロライドとベンゼンよりフリーデル
クラフッ反応により４−ニトロジフェニルスルホンを得
、これをニトロ化して製造する方法（Ｙ、’ｆ’ａｋｕ
ｂｏら、Ｊ、ｐｈａｒｍ、Ｓｏｃ、Ｊａｐａｎ、。
６２．５１８（１９４２） ）、ベンゼンスルフィン酸
ナトリウムと４−クロロニトロベンゼンより４−ニトロ
ジフェニルスルホンを得、これを二１・口化して製造す
る方法（Ｂ、′ＮＪ、Ｂａｋｅｒら、 Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃ
ｈｃ＋ｎ、。
ナトリウムと４−クロロニトロベンゼンより４−ニトロ
ジフェニルスルホンを得、これを二１・口化して製造す
る方法（Ｂ、′ＮＪ、Ｂａｋｅｒら、 Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃ
ｈｃ＋ｎ、。
１５．４００（１９５０） ） 等が知られている。
しかしながら、これらの方法は反応が複雑であったり、
多量に副生ずる異性体等の除去のために再結晶精製を繰
返したり、また廃酸、廃重金属の処理等にも問題がある
ので、ジニトロジフェニル化合物を経由して３，４−ジ
アミノシフエール化合物を製・告する方法は満足すべき
方法ではない。
多量に副生ずる異性体等の除去のために再結晶精製を繰
返したり、また廃酸、廃重金属の処理等にも問題がある
ので、ジニトロジフェニル化合物を経由して３，４−ジ
アミノシフエール化合物を製・告する方法は満足すべき
方法ではない。
そこで本発明者らは上記のような欠点のない３．４−２
アミノンフ工ニル化合物の製造方法を鋭意検削した結果
、３−アミノ−４−クロロジフェニル化合物をアンモニ
アと処理することにより３、／Ｉ−ジアミノジフェニル
化合物が容易に得られることを見出し、本発明に到達し
た。
アミノンフ工ニル化合物の製造方法を鋭意検削した結果
、３−アミノ−４−クロロジフェニル化合物をアンモニ
アと処理することにより３、／Ｉ−ジアミノジフェニル
化合物が容易に得られることを見出し、本発明に到達し
た。
すなわち、本発明は一般式（１）
（式中、ＸはＣｏ または５０２Ｌを示す）で表わされ
る３−アミノ−４−クロロジフェニル化合物をアンモニ
アと処理することを特徴とする一般式（１■）（式中、
ＸはＣＯまたはＳＯ２を示ず）で表わされる３、４“−
ジアミノジフェニル化合物を製造する方法である。
る３−アミノ−４−クロロジフェニル化合物をアンモニ
アと処理することを特徴とする一般式（１■）（式中、
ＸはＣＯまたはＳＯ２を示ず）で表わされる３、４“−
ジアミノジフェニル化合物を製造する方法である。
本発明の方法によれば、３−アミノ−７ｌ−クロロジフ
ェニル化合物とアンモニア水を、必要に応じ銅化合物を
添加し、加圧下に反応さぜることにより３，４−ジアミ
ノジフェニル化合物な高収率で製造することができる。
ェニル化合物とアンモニア水を、必要に応じ銅化合物を
添加し、加圧下に反応さぜることにより３，４−ジアミ
ノジフェニル化合物な高収率で製造することができる。
この方法によれば異性体等の副生物は殆ど生成せず、廃
酸、廃重金属の処理もなく、工業的に非常に有利である
。
酸、廃重金属の処理もなく、工業的に非常に有利である
。
本発明の方法において原料として使用される３−アミノ
−４〜クロロジフ工ニル化合物は３−アミノ−４１−ク
ロロベンゾフェノンおよび；う−アミ／−／１−７０ロ
ジフェニルスルホンであり、これらはそれぞれ公知の技
術によって対応する３−ニトロ−４−クロロベンゾフェ
ノン、３−ニトロ−４−クロロジフェニルスルホンヨリ
二） ｏ 基ヲＦＪ元して製造される。例えば、３−ア
ミノ−４−クロロベンゾフェノンは３−ニトロ−４−り
ｏ ｏ ヘンシフエノンより塩化スズで還元する方法（
１”。
−４〜クロロジフ工ニル化合物は３−アミノ−４１−ク
ロロベンゾフェノンおよび；う−アミ／−／１−７０ロ
ジフェニルスルホンであり、これらはそれぞれ公知の技
術によって対応する３−ニトロ−４−クロロベンゾフェ
ノン、３−ニトロ−４−クロロジフェニルスルホンヨリ
二） ｏ 基ヲＦＪ元して製造される。例えば、３−ア
ミノ−４−クロロベンゾフェノンは３−ニトロ−４−り
ｏ ｏ ヘンシフエノンより塩化スズで還元する方法（
１”。
１＞、Ｋｉｎｇら、 Ｊ、Ｃ１１ｃｍ、Ｓｏｃ、、８（
１，９４６） ）で製造ｔ てきる。また、反金属、廃酸等の無公害化を考暉１〜た
場合、■にゞれ的に有利な方法として、３−ニトロ−４
°−クロロジフェニル化合物を還元触媒の存在１に接触
還元して、３−アミノ−４−クロロシフ〔ニル化合物を
製１青することもできる。
１，９４６） ）で製造ｔ てきる。また、反金属、廃酸等の無公害化を考暉１〜た
場合、■にゞれ的に有利な方法として、３−ニトロ−４
°−クロロジフェニル化合物を還元触媒の存在１に接触
還元して、３−アミノ−４−クロロシフ〔ニル化合物を
製１青することもできる。
３ アミノ−４−クロロジフェニルスルホンについてモ
３−アミン−４−クロロベンゾフェノンと同様に接触還
元によって３−二１−ａ−４−クロロジフェニルスルボ
ッ ナ．ｔｉ ’．３ーニトロー４−クロロベンゾフェノン
は：３ー．：ートロベンソイルクロライドトクロルベン
ゼン（Ｐ．・１，１＼１（）旧／Ｉｇｎｃ，，１３ｃｒ
，，皿，２２６９）、また３−二１０ ・＋ーＶｔコ１
フジフェニルスルポンは：３ーニトロスルポニルクロラ
・イドとクロルベンゼン（１，（ｉ，ｌ・゛旧１）（・
１旧−１． 、ｌ）、ｌｌ，Ｉ’． 、７０１９５／Ｉ
（１９３８））とのツリーチルクラフッ反応により容
易に製へてＮＺ）、 」（光間のｂ法で／，Ｊ・川されるアンモニアは水溶液
とし−（川（・ｃ畳！、アンモニアｉ７Ｊ ｌ朗は高い
程好ましいが、通常２０〜２９係濃度範囲のアンモニア
水を使用する。
３−アミン−４−クロロベンゾフェノンと同様に接触還
元によって３−二１−ａ−４−クロロジフェニルスルボ
ッ ナ．ｔｉ ’．３ーニトロー４−クロロベンゾフェノン
は：３ー．：ートロベンソイルクロライドトクロルベン
ゼン（Ｐ．・１，１＼１（）旧／Ｉｇｎｃ，，１３ｃｒ
，，皿，２２６９）、また３−二１０ ・＋ーＶｔコ１
フジフェニルスルポンは：３ーニトロスルポニルクロラ
・イドとクロルベンゼン（１，（ｉ，ｌ・゛旧１）（・
１旧−１． 、ｌ）、ｌｌ，Ｉ’． 、７０１９５／Ｉ
（１９３８））とのツリーチルクラフッ反応により容
易に製へてＮＺ）、 」（光間のｂ法で／，Ｊ・川されるアンモニアは水溶液
とし−（川（・ｃ畳！、アンモニアｉ７Ｊ ｌ朗は高い
程好ましいが、通常２０〜２９係濃度範囲のアンモニア
水を使用する。
アンモニアの使用吐は３−アミノ−、１−クロロジフェ
ニル化合物１モルに対して３〜５０七ル、好まし２くば
５〜２５モルが適当でパりる１つ銅化合物どしては、例
えばｉ酸化第一４］瓶酸化第二銅、塩化第一銅、塩化第
二銅、硫酸量−胴、Ｉ（１イＣ酸第二銅、硝酸第一銅、
硝・唆第二′ｉ′ｌ・：］ Ａ！ｚが挙げられる。銅で
ヒ合物の使用付は３−アミノ−１−りＩｌｌ ［１ンフ
工ニル化合物に対し、１〜２ｏ ｍ Ｅ，を飴である。
ニル化合物１モルに対して３〜５０七ル、好まし２くば
５〜２５モルが適当でパりる１つ銅化合物どしては、例
えばｉ酸化第一４］瓶酸化第二銅、塩化第一銅、塩化第
二銅、硫酸量−胴、Ｉ（１イＣ酸第二銅、硝酸第一銅、
硝・唆第二′ｉ′ｌ・：］ Ａ！ｚが挙げられる。銅で
ヒ合物の使用付は３−アミノ−１−りＩｌｌ ［１ンフ
工ニル化合物に対し、１〜２ｏ ｍ Ｅ，を飴である。
反応温度は１２０〜２５０’Ｃであり、好ましくは１５
０〜２３０℃の範囲で行われる。、反（、シ圧力・ｌま
５〜８ ０ ｋｙ ／ ｃＴ？Ｇである。
０〜２３０℃の範囲で行われる。、反（、シ圧力・ｌま
５〜８ ０ ｋｙ ／ ｃＴ？Ｇである。
反応に使用する有機溶媒は特に必安どしないか、必要に
１５じて水と混合ずく）溶フヘリ、１＋すえば、エチレ
ングリコール、７′オキザン、メチルセｌ−＋フルブ等
を使用しても何ら差支えない１、反＋．５の終点は薄層
クロマトグラフィまたは高速液体りＩｆｆ７トグラフイ
で決定することができる。
１５じて水と混合ずく）溶フヘリ、１＋すえば、エチレ
ングリコール、７′オキザン、メチルセｌ−＋フルブ等
を使用しても何ら差支えない１、反＋．５の終点は薄層
クロマトグラフィまたは高速液体りＩｆｆ７トグラフイ
で決定することができる。
反応終了後、生［、Ｆｋ物は通常，１渦、水洗１７て過
剰のアンモニア、塩化アンモニウム、場合によっては銅
化合物ｔ，′（ｐｚり除くことにより得られる。また、
１′ＩＶ生成物を塩酸塩として単離し、残存する銅化合
物な溶ｊＣも〉−）ｊ７で除去し、得られた塩酸塩を水
に溶ｊ「ｌｌｆ．さぜ／、−後中和して生成物を得るこ
ともできる。
剰のアンモニア、塩化アンモニウム、場合によっては銅
化合物ｔ，′（ｐｚり除くことにより得られる。また、
１′ＩＶ生成物を塩酸塩として単離し、残存する銅化合
物な溶ｊＣも〉−）ｊ７で除去し、得られた塩酸塩を水
に溶ｊ「ｌｌｆ．さぜ／、−後中和して生成物を得るこ
ともできる。
以下、本発明を実施例によりさらに詳しく説明−４る、
。
。
Ｊ．りｌ面倒 １
、３ 二１・■ー＋ー４’−り四ロー〈ンソ°フェノン
１３０，８ｑ（ｉｌ．’．＋’ｌ−ル）、ｊ．クツ−ル
ア５０ｎＩｌ′：ｔｄよひノくラジウム／ ツノ −
ホ ノボｆ：１１ｊｌＬＩＡ１、（１−１ 本−［ ／
ゲル）・ル ド礼１４’−Ｊ ’．） Ｏ 係ｒ；１水
品） ；３．＋．１ ！／をガラス製密閉反応器に入れ
、２０〜５（１ ’Ｃ：の範囲ひかきまぜ）、【がら水
素を吸収ｔすぜた。、３・１，（＋６吸収した所で反応
を終了し、ＪＴＩ過しく触媒なｉ！＋ｉ： ｃ・ｊ占，
ｄ１液のエタノールを留去すイ）ど結晶か４１１出Ｌム
ー〇、 ｊｌｉ僅、水洗した後乾燥１，て；ウ− アミノ−・ト
ークＩＪＬＩ−＼７ゾフエノンをイ■た、、収：荘１．
１０．２ ！７ （収率９５、２循）、融点１１２〜１
１４ ”Ｃ１タノールー（テ１１０１１晶して純品を得
た。融点１１４、５〜１１−５．５°Ｃ 元素分析値 （、ｌ’ １１ （”（！Ｎ計算値（係）
６７、３ ４．３ １５，３ ６．０分析値（係）
６７、６ ・１．１． １５，６ ＪＯ得られた３−ア
ミノ−４′−クロ「］ベニ／′ノ゛フェノン２３．２り
（０．１モル）をアンモニア水（２９）係水溶液 ）
１４６．６ ９ （ ２．５ 七ル ）、 （ｌイ１駿
２ｆ１、二“Ｊｌ ４ 、６ ｑと共にオー トラレー
プ中てｉｓｏ’ｃ、２ ０ ｌｘｙ ／Ｃ１？（’＋で
７時間反応させた。）え応終了後、内′（〜ｆ１勿’ｚ
（ ｉｌ ’ ｉｌＱ、水６−１７て１昂刺のアンモニ
ア、塩化−ｙ７ｑ＝ニー・シム、硫酸銅を取り除さ、こ
れに１． Ｏ ｊ逅１ｉ，−： ｉＳｔ９ ００ ９
ｙ，でｉｎｎえて溶１９イさせ、不溶物をｆ’過して除
（・た。Ｊｊ召ダろでアンモニア水で中和してΔ−ｉ過
、水洗しプ、二ｉ′ｌ ｊ：ｉｉｌ・■して３．４’−
ジアミノベンゾフェノンを１１）た。ｑ’ｌ ｈ紮１８
、６ｇ（収率８７．５係）、ｆ．ｉ！ｌｊ点１２２〜Ｉ
２：Ｖ（じエタノールで・両結晶して純品を田／，−。
１３０，８ｑ（ｉｌ．’．＋’ｌ−ル）、ｊ．クツ−ル
ア５０ｎＩｌ′：ｔｄよひノくラジウム／ ツノ −
ホ ノボｆ：１１ｊｌＬＩＡ１、（１−１ 本−［ ／
ゲル）・ル ド礼１４’−Ｊ ’．） Ｏ 係ｒ；１水
品） ；３．＋．１ ！／をガラス製密閉反応器に入れ
、２０〜５（１ ’Ｃ：の範囲ひかきまぜ）、【がら水
素を吸収ｔすぜた。、３・１，（＋６吸収した所で反応
を終了し、ＪＴＩ過しく触媒なｉ！＋ｉ： ｃ・ｊ占，
ｄ１液のエタノールを留去すイ）ど結晶か４１１出Ｌム
ー〇、 ｊｌｉ僅、水洗した後乾燥１，て；ウ− アミノ−・ト
ークＩＪＬＩ−＼７ゾフエノンをイ■た、、収：荘１．
１０．２ ！７ （収率９５、２循）、融点１１２〜１
１４ ”Ｃ１タノールー（テ１１０１１晶して純品を得
た。融点１１４、５〜１１−５．５°Ｃ 元素分析値 （、ｌ’ １１ （”（！Ｎ計算値（係）
６７、３ ４．３ １５，３ ６．０分析値（係）
６７、６ ・１．１． １５，６ ＪＯ得られた３−ア
ミノ−４′−クロ「］ベニ／′ノ゛フェノン２３．２り
（０．１モル）をアンモニア水（２９）係水溶液 ）
１４６．６ ９ （ ２．５ 七ル ）、 （ｌイ１駿
２ｆ１、二“Ｊｌ ４ 、６ ｑと共にオー トラレー
プ中てｉｓｏ’ｃ、２ ０ ｌｘｙ ／Ｃ１？（’＋で
７時間反応させた。）え応終了後、内′（〜ｆ１勿’ｚ
（ ｉｌ ’ ｉｌＱ、水６−１７て１昂刺のアンモニ
ア、塩化−ｙ７ｑ＝ニー・シム、硫酸銅を取り除さ、こ
れに１． Ｏ ｊ逅１ｉ，−： ｉＳｔ９ ００ ９
ｙ，でｉｎｎえて溶１９イさせ、不溶物をｆ’過して除
（・た。Ｊｊ召ダろでアンモニア水で中和してΔ−ｉ過
、水洗しプ、二ｉ′ｌ ｊ：ｉｉｌ・■して３．４’−
ジアミノベンゾフェノンを１１）た。ｑ’ｌ ｈ紮１８
、６ｇ（収率８７．５係）、ｆ．ｉ！ｌｊ点１２２〜Ｉ
２：Ｖ（じエタノールで・両結晶して純品を田／，−。
融点１２１１〜１２５°Ｃ
元素分析値 Ｃ ＦＩ Ｎ
計算値（φ） ７３，６ ５，７ １３．２分析値（％
） ７３．９ ５．７ １：３．２実施例２〜４ 実施例１の３−アミノ−４−クロロベンツフェノンを使
用して、表−１に示す反応条件に変えて反応を行なった
。
） ７３．９ ５．７ １：３．２実施例２〜４ 実施例１の３−アミノ−４−クロロベンツフェノンを使
用して、表−１に示す反応条件に変えて反応を行なった
。
結果を反応条件とともに表−１に示す。
実施例５
３−ニトロ−４−クロロジフェニルスルホン１４８．８
７（０，５モル）、エタノール７５０ｍ／および５チパ
ラジウム／カーボン触媒（日本エンゲルハルト社製５０
％含水晶）４．５’７をガラス製密閉反応器ｔこ入れ、
２０〜５０°Ｃの範囲でかきまぜながら水素を吸収させ
た。３３．８１吸収したところで反応を終了し、１１過
して触媒を除いた。ａｊ液のエタノールを留去すると結
晶がイｊ′ｒＩＪｊシた。＋１１＋過、水洗した後乾燥
して３−アミノ−４−クロロジフェニルスルホンを得た
。牧歌１２８．４９ （収率９６．０％ ）１□１ｉ！
Ｉ！点１４２〜１１１４°Ｃエタノールで再、結晶して
純品をニ丙だ。
７（０，５モル）、エタノール７５０ｍ／および５チパ
ラジウム／カーボン触媒（日本エンゲルハルト社製５０
％含水晶）４．５’７をガラス製密閉反応器ｔこ入れ、
２０〜５０°Ｃの範囲でかきまぜながら水素を吸収させ
た。３３．８１吸収したところで反応を終了し、１１過
して触媒を除いた。ａｊ液のエタノールを留去すると結
晶がイｊ′ｒＩＪｊシた。＋１１＋過、水洗した後乾燥
して３−アミノ−４−クロロジフェニルスルホンを得た
。牧歌１２８．４９ （収率９６．０％ ）１□１ｉ！
Ｉ！点１４２〜１１１４°Ｃエタノールで再、結晶して
純品をニ丙だ。
融点１４５〜１４７°Ｃ
元素分析値 ＣＩ（ＣｅＮ Ｓ
計算値（％） ５３．８ ３．７ １３，３ ５，２
１２．０分析値（チ） ５４，０ ３，８ １．３，０
５，２ １１．９得られた３−アミノ−４１−クロロ
ジフェニルスルホン２６．８り（０，１モル）をアンモ
ニア水（２９チ水溶液）’１４６．６９ （２，５モル
）、塩化第二銅３．９りと共にオートクレーブ中て２０
０℃、３６ ｋｙ／ｃｒｒ？Ｇで７時間反応させた。反
応終了後、内容物を濾過、水洗して過剰のアンモニア、
塩化アンモニウム、塩化第二銅を取り除き、これに１０
φ塩酸７０９を加えて溶解させ、不容物をΔ″−１過し
た。
１２．０分析値（チ） ５４，０ ３，８ １．３，０
５，２ １１．９得られた３−アミノ−４１−クロロ
ジフェニルスルホン２６．８り（０，１モル）をアンモ
ニア水（２９チ水溶液）’１４６．６９ （２，５モル
）、塩化第二銅３．９りと共にオートクレーブ中て２０
０℃、３６ ｋｙ／ｃｒｒ？Ｇで７時間反応させた。反
応終了後、内容物を濾過、水洗して過剰のアンモニア、
塩化アンモニウム、塩化第二銅を取り除き、これに１０
φ塩酸７０９を加えて溶解させ、不容物をΔ″−１過し
た。
ｒ液をアンモニア水で中和して７１１過、水洗した後、
乾燥して３，４１−ジアミノジフェニルスルホンを得た
。収計１９，３ｑ（収率８３．５％）、融点１３０〜１
３２℃、 エタノールより再結晶して純品を得た。
乾燥して３，４１−ジアミノジフェニルスルホンを得た
。収計１９，３ｑ（収率８３．５％）、融点１３０〜１
３２℃、 エタノールより再結晶して純品を得た。
融点１３２〜１３４８Ｃ
元素分析値 ＣＩＩ Ｎ Ｓ
計算値（％） ５８．０ ４，８ １１．３ １２．９
分析値Ｃ％） ５７，８ ４，７ １１，１１２．９実
施例６〜８ 実施例５の３−アミノ−４−クロロジフェニルスルホン
を使用して表−１に示す反応条件に変えて反応を行なっ
た。
分析値Ｃ％） ５７，８ ４，７ １１，１１２．９実
施例６〜８ 実施例５の３−アミノ−４−クロロジフェニルスルホン
を使用して表−１に示す反応条件に変えて反応を行なっ
た。
結果を反応条件とともに表−１に示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ｌ）一般式（（） （式中、ＸはＣＯまたはＳＯλを示す）で表わされる３
−アミノ−４−クロロジフェニル化合物ヲアンモニアと
処理するごとを特徴とする。 一般式（１１） （式中、ＸはＣＯまたはＳ ０２を示す）で表わされる
３、７Ｉ−ジアミノジフェニル化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14435783A JPS6036445A (ja) | 1983-08-09 | 1983-08-09 | ３，４′−ジアミノジフエニル化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14435783A JPS6036445A (ja) | 1983-08-09 | 1983-08-09 | ３，４′−ジアミノジフエニル化合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6036445A true JPS6036445A (ja) | 1985-02-25 |
| JPH0415219B2 JPH0415219B2 (ja) | 1992-03-17 |
Family
ID=15360220
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14435783A Granted JPS6036445A (ja) | 1983-08-09 | 1983-08-09 | ３，４′−ジアミノジフエニル化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6036445A (ja) |
-
1983
- 1983-08-09 JP JP14435783A patent/JPS6036445A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0415219B2 (ja) | 1992-03-17 |
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