JPS6035353B2 - 有機ホスフイン類の連続的製造法 - Google Patents
有機ホスフイン類の連続的製造法Info
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- JPS6035353B2 JPS6035353B2 JP53009216A JP921678A JPS6035353B2 JP S6035353 B2 JPS6035353 B2 JP S6035353B2 JP 53009216 A JP53009216 A JP 53009216A JP 921678 A JP921678 A JP 921678A JP S6035353 B2 JPS6035353 B2 JP S6035353B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/50—Organo-phosphines
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- C07F9/5059—Preparation; Separation; Purification; Stabilisation by addition of phosphorus compounds to alkenes or alkynes
-
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- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/547—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
- C07F9/6564—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms
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- C07F9/65683—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms having phosphorus atoms as the only ring hetero atoms the ring phosphorus atom being part of a phosphine
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、一般式(1)又は(0):
〔式(1)においてR,及びR2はそれぞれC原子数2
〜18を有するアルキル基、シクロアルキル基又はァラ
ルキル基を表わすか、又は置換基R,、R2の1方は日
原子を表わし、他方は前記の基の1つを表わし、式(0
)においてmないいまn‘ま1〜3の数であるが、m+
nは最大5であり、R3、R4は同一か又は異なり、日
原子を表わすか、又はC原子数1〜6を有するアルキル
基を表わす〕で示される有機ホスフィン類の連続的製造
法に関する。
〜18を有するアルキル基、シクロアルキル基又はァラ
ルキル基を表わすか、又は置換基R,、R2の1方は日
原子を表わし、他方は前記の基の1つを表わし、式(0
)においてmないいまn‘ま1〜3の数であるが、m+
nは最大5であり、R3、R4は同一か又は異なり、日
原子を表わすか、又はC原子数1〜6を有するアルキル
基を表わす〕で示される有機ホスフィン類の連続的製造
法に関する。
西ドイツ特許明細書第89904び号もこよって、等量
の燐化水素とオレフィンを高められた温度で及び過酸化
物性触媒の存在下で反応させることは公知であり、この
場合その実施例2によればトリアルキルホスフイン約8
5重量%及びモノーないしはジアルキルホスフィン約1
5重量%からなる混合物が得られる。
の燐化水素とオレフィンを高められた温度で及び過酸化
物性触媒の存在下で反応させることは公知であり、この
場合その実施例2によればトリアルキルホスフイン約8
5重量%及びモノーないしはジアルキルホスフィン約1
5重量%からなる混合物が得られる。
“ジャーナル・オブ・オーガニツク・ケミストリ−(J
omM1of○raganicChemistリゾ、1
961年、第26巻、第5139頁、第0表から、燐化
水素3.6モルと1−オクテン1モルとを6時間反応さ
せた場合、すなわち化学量論的剰量のP馬を使用した場
合、反応生成物の組成はジー及びトリオクチルホスフィ
ンの他にモノオクチルホスフィンが生じることにより影
響され、これによりモノオクチルホスフィンの収率は7
5%に高まることが明らかである。
omM1of○raganicChemistリゾ、1
961年、第26巻、第5139頁、第0表から、燐化
水素3.6モルと1−オクテン1モルとを6時間反応さ
せた場合、すなわち化学量論的剰量のP馬を使用した場
合、反応生成物の組成はジー及びトリオクチルホスフィ
ンの他にモノオクチルホスフィンが生じることにより影
響され、これによりモノオクチルホスフィンの収率は7
5%に高まることが明らかである。
モノオクチルホスフィンの収率が改良されるにも拘らず
、該公知方法は長い反応時間を必要とするために不満足
なものである。最後に、西ドイツ特許公開公報第190
962ぴ号の実施例1には、燐化水素を1・5ーシクロ
オクタジヱンにアゾビスイソブチロニトリルの存在下で
付加する方法が記載されており、この場合9ーホスフア
ピシクロ−〔4・2・1〕−ノナンと9ーホスフアーピ
シクロ−〔3・3・1〕ーノナンとからなる異性体混合
物が得られる。
、該公知方法は長い反応時間を必要とするために不満足
なものである。最後に、西ドイツ特許公開公報第190
962ぴ号の実施例1には、燐化水素を1・5ーシクロ
オクタジヱンにアゾビスイソブチロニトリルの存在下で
付加する方法が記載されており、この場合9ーホスフア
ピシクロ−〔4・2・1〕−ノナンと9ーホスフアーピ
シクロ−〔3・3・1〕ーノナンとからなる異性体混合
物が得られる。
付加反応を実施するには、圧力容器に1・5−シクロオ
クタジエン及び燐化水素のモル量を導入し、反応をァゾ
ビスイソブチロニトリルの添加によって及び出発混合物
を徐々に7500に加熱することによって(この場合圧
力容器の圧力は19.3気圧に高まる)開始した。20
分後に温度は8500に高まり、圧力は8.1気圧に降
下した。
クタジエン及び燐化水素のモル量を導入し、反応をァゾ
ビスイソブチロニトリルの添加によって及び出発混合物
を徐々に7500に加熱することによって(この場合圧
力容器の圧力は19.3気圧に高まる)開始した。20
分後に温度は8500に高まり、圧力は8.1気圧に降
下した。
更に1幼時間反応混合物を7500で加熱した後に、反
応は完結した。該反応混合物から57%の収率で前記し
た異性体混合物が得られた。この不満足な収率は、該公
知方法の場合第2級ホスフィンの他に不所望の第3級ホ
スフィンも副生成物として生じ、そのため談方法の経済
性が著しく損なわれることに帰因する。
応は完結した。該反応混合物から57%の収率で前記し
た異性体混合物が得られた。この不満足な収率は、該公
知方法の場合第2級ホスフィンの他に不所望の第3級ホ
スフィンも副生成物として生じ、そのため談方法の経済
性が著しく損なわれることに帰因する。
本発明は、第1級及び第2級有機ホスフィンを連続的な
操作方法で及び良好な収率で公知方法の欠点を阻止しな
がら製造することを根本課題とする。
操作方法で及び良好な収率で公知方法の欠点を阻止しな
がら製造することを根本課題とする。
この課題は、燐化水素とオレフィンとの反応を触媒の存
在下で公知方法の際に使用されるよりも高められた温度
及び高められた圧力で実施することによって解決される
。従って本発明の対象は、一般式(1)又は(〇): 〔式1においてR,及びR2はそれぞれC原子数2〜1
8を有するアルキル基、シクロアルキル基又はアラルキ
ル基を表わすか、又は置換基R,、R2の1方は日原子
を表わし、他方は前記の基の1つを表わし、式01こお
いてmないいまnは1〜3の数であるが、m+nは最大
5であり、R3、R4は同一か又は異なり、日原子を表
わすか、又はC原子数1〜6を有するアルキル基を表わ
す〕で示される有機ホスフィンを連続的に製造するに当
り、式1の化合物を得る場合にはC原子数2〜18を有
するアルキレン、シクロアルキレン又はアラルキレンを
また式Dの化合物を製造する場合には一般式(m):〔
式中、m、n、R3及びR4は前記のものを表わす〕の
化合物を、それぞれ燐化水素と、不活性溶剤中に溶けた
触媒としてのアゾビスィソブチロニトリルの存在下に高
められた温度及び高められた圧力で反応させ、形成され
る有機ホスフィンを反応終了後に反応混合物から分離す
ることによって前記式(1)及び式(ロ)の有機ホスフ
ィンを連続的に製造する方法において、一方では不活性
溶剤中のアルキレン、シクロアルキレン、アラルキレン
又は一般式(m)の化合物ならびに触媒の溶液を、また
他方では過化学量論的量の燐化水素を、別個に頭頂部か
ら、内部に混合部材を備えた酸素不含の圧力反応器中に
連続的に供給し、反応器の上部冷却帯城で温度約0〜3
500で及び約80〜300バールのPH3圧力下で混
合し、その後に反応器の下部反応帯域に少しずつ流れる
混合物を温度約90〜19000で反応させ、この際に
反応器中の反応成分の滞留時間は触媒の半減期の約13
倍〜1針音であり、反応器の底部から取出される反応混
合物から予め大気圧に放圧した後に有機ホスフィンを混
合物の蒸留によって分理することを特徴とする。
在下で公知方法の際に使用されるよりも高められた温度
及び高められた圧力で実施することによって解決される
。従って本発明の対象は、一般式(1)又は(〇): 〔式1においてR,及びR2はそれぞれC原子数2〜1
8を有するアルキル基、シクロアルキル基又はアラルキ
ル基を表わすか、又は置換基R,、R2の1方は日原子
を表わし、他方は前記の基の1つを表わし、式01こお
いてmないいまnは1〜3の数であるが、m+nは最大
5であり、R3、R4は同一か又は異なり、日原子を表
わすか、又はC原子数1〜6を有するアルキル基を表わ
す〕で示される有機ホスフィンを連続的に製造するに当
り、式1の化合物を得る場合にはC原子数2〜18を有
するアルキレン、シクロアルキレン又はアラルキレンを
また式Dの化合物を製造する場合には一般式(m):〔
式中、m、n、R3及びR4は前記のものを表わす〕の
化合物を、それぞれ燐化水素と、不活性溶剤中に溶けた
触媒としてのアゾビスィソブチロニトリルの存在下に高
められた温度及び高められた圧力で反応させ、形成され
る有機ホスフィンを反応終了後に反応混合物から分離す
ることによって前記式(1)及び式(ロ)の有機ホスフ
ィンを連続的に製造する方法において、一方では不活性
溶剤中のアルキレン、シクロアルキレン、アラルキレン
又は一般式(m)の化合物ならびに触媒の溶液を、また
他方では過化学量論的量の燐化水素を、別個に頭頂部か
ら、内部に混合部材を備えた酸素不含の圧力反応器中に
連続的に供給し、反応器の上部冷却帯城で温度約0〜3
500で及び約80〜300バールのPH3圧力下で混
合し、その後に反応器の下部反応帯域に少しずつ流れる
混合物を温度約90〜19000で反応させ、この際に
反応器中の反応成分の滞留時間は触媒の半減期の約13
倍〜1針音であり、反応器の底部から取出される反応混
合物から予め大気圧に放圧した後に有機ホスフィンを混
合物の蒸留によって分理することを特徴とする。
オレフィン性出発生成物としては、本発明によって特に
C原子数2〜18を有するアルキレンもしくはC原子数
6〜9を有するシクロアルキレン、アラルキレン又は一
般式(m)に相当する化合物、殊に1−オクテン、シク
ロヘキサン又はシクロオククタジェン−1・5を使用す
る。
C原子数2〜18を有するアルキレンもしくはC原子数
6〜9を有するシクロアルキレン、アラルキレン又は一
般式(m)に相当する化合物、殊に1−オクテン、シク
ロヘキサン又はシクロオククタジェン−1・5を使用す
る。
更に、オレフィン性出発生成物ならびに触媒はへキサン
、ベンゾール又はトルオールのような溶剤中に溶かすこ
とが有利であり、この場合溶剤とオレフィン性成分との
重量比は1:1であり、触媒量はアルキレン、シクロア
ルキレン、アラルキレン又は一般式(m)の化合物の量
に対して約0.1〜5モル%である。
、ベンゾール又はトルオールのような溶剤中に溶かすこ
とが有利であり、この場合溶剤とオレフィン性成分との
重量比は1:1であり、触媒量はアルキレン、シクロア
ルキレン、アラルキレン又は一般式(m)の化合物の量
に対して約0.1〜5モル%である。
本発明による反応の出発物質として適当な触媒は新規の
ものではなく、例えばアゾビスイソブチロニトリルであ
ってよい。触媒ならびにオレフィン性反応成分を含有す
る溶液と燐化水素との強い混和を保証するためには、反
応器の冷却帯城を十分に低い温度特に20〜3000で
及び反応器中のPH3圧力120〜180バールで運転
することが重要であり、その結果この帯城に燐化水素は
液体状態で存在する。反応成分の混和は、例えば充填剤
を添加するか又は反応器中の他の適当な混合部材によっ
て得ることができる。本発明方法の他のすぐれた実施態
様は、反応帯城中で110〜13000の温度を保持す
ることである。該反応帯城を支配する反応条件下で、燐
化水素の蒸発及びオレフィン性反応成分との迅速な反応
が生じる。例えば、触媒の半減期の13倍〜15倍に相
当する、反応器中での反応混合物の滞留時間後に、反応
混合物を反応器の底部から取出すことができる。次に、
該反応混合物を大気圧に放圧する際に遊離する過剰量の
未反応燐化水素ならびに反応混合物の蒸留の際に回収さ
れる、溶剤と未反応のオレフィン性反応成分とからなる
混合物は循環して反応器に戻すことができる。本発明方
法を実施するには、例えば上部に冷却ジャケットを備え
、下部に加熱ジャケットを備えた、直径と高さとの比が
1:50〜1:200である高圧反応器を使用すること
ができ、この場合直径は増加する装入量によって大きく
することができ、また反応器中における反応混合物の滞
留時間を長くするにはその高さを相応して伸ばすことが
できる。
ものではなく、例えばアゾビスイソブチロニトリルであ
ってよい。触媒ならびにオレフィン性反応成分を含有す
る溶液と燐化水素との強い混和を保証するためには、反
応器の冷却帯城を十分に低い温度特に20〜3000で
及び反応器中のPH3圧力120〜180バールで運転
することが重要であり、その結果この帯城に燐化水素は
液体状態で存在する。反応成分の混和は、例えば充填剤
を添加するか又は反応器中の他の適当な混合部材によっ
て得ることができる。本発明方法の他のすぐれた実施態
様は、反応帯城中で110〜13000の温度を保持す
ることである。該反応帯城を支配する反応条件下で、燐
化水素の蒸発及びオレフィン性反応成分との迅速な反応
が生じる。例えば、触媒の半減期の13倍〜15倍に相
当する、反応器中での反応混合物の滞留時間後に、反応
混合物を反応器の底部から取出すことができる。次に、
該反応混合物を大気圧に放圧する際に遊離する過剰量の
未反応燐化水素ならびに反応混合物の蒸留の際に回収さ
れる、溶剤と未反応のオレフィン性反応成分とからなる
混合物は循環して反応器に戻すことができる。本発明方
法を実施するには、例えば上部に冷却ジャケットを備え
、下部に加熱ジャケットを備えた、直径と高さとの比が
1:50〜1:200である高圧反応器を使用すること
ができ、この場合直径は増加する装入量によって大きく
することができ、また反応器中における反応混合物の滞
留時間を長くするにはその高さを相応して伸ばすことが
できる。
反応器の頭頂部からの反応成分の供給ならびに反応器の
底部からの除去は、例えば圧縮機、ポンプないいま蓮続
吐出弁のような公知の工業用補助手段で行なうことがで
きる。最後に、反応器中での出発生成物の混合は、反応
器中に装入した充填剤によって行なうことができる。本
発明方法の過程は、次のような特徴を有することができ
る:装置全体を窒素で十分に洗浄した後、反応管に燐化
水素を少なくとも80バールでなければならない圧縮機
の最終圧力まで充填する。
底部からの除去は、例えば圧縮機、ポンプないいま蓮続
吐出弁のような公知の工業用補助手段で行なうことがで
きる。最後に、反応器中での出発生成物の混合は、反応
器中に装入した充填剤によって行なうことができる。本
発明方法の過程は、次のような特徴を有することができ
る:装置全体を窒素で十分に洗浄した後、反応管に燐化
水素を少なくとも80バールでなければならない圧縮機
の最終圧力まで充填する。
次に、反応器の下部を蒸気ないしは熱水で加熱し、上部
を冷却水で冷却する。更に、配量ポンプを用いて、室温
で液体であるか又は不活性溶剤中で十分に可溶性のオレ
フィン、不活性溶剤ならびにアゾビスィソブチ。ニトリ
ルからなる予め調整した反応溶液を、反応カラムの頭頂
部から吹込む。ところで、反応器の上方冷却部で燐化水
素と混和された反応溶液を、その重力によって下方に向
け徐々に反応器の加熱部に導き、そこで反応させる。反
応器の加熱部の温度は、使用したアゾビスィソブチロニ
トリルが所定の滞留時間で99.99%以上分解するよ
うに選択する。反応器の底部から反応混合物を取出し、
不活性溶剤を蟹去し、残在する務樺を生成ホスフィンを
物理特性に応じて蒸留するか、又は結晶させるようにし
て後処理する。本発明方法は、公知方法に比して改良さ
れた空時収量、副反応の阻止下での高い変換度ならびに
連続的な運転方法を可能にする利点を有する。
を冷却水で冷却する。更に、配量ポンプを用いて、室温
で液体であるか又は不活性溶剤中で十分に可溶性のオレ
フィン、不活性溶剤ならびにアゾビスィソブチ。ニトリ
ルからなる予め調整した反応溶液を、反応カラムの頭頂
部から吹込む。ところで、反応器の上方冷却部で燐化水
素と混和された反応溶液を、その重力によって下方に向
け徐々に反応器の加熱部に導き、そこで反応させる。反
応器の加熱部の温度は、使用したアゾビスィソブチロニ
トリルが所定の滞留時間で99.99%以上分解するよ
うに選択する。反応器の底部から反応混合物を取出し、
不活性溶剤を蟹去し、残在する務樺を生成ホスフィンを
物理特性に応じて蒸留するか、又は結晶させるようにし
て後処理する。本発明方法は、公知方法に比して改良さ
れた空時収量、副反応の阻止下での高い変換度ならびに
連続的な運転方法を可能にする利点を有する。
本発明による生成物は、ヒドロホルミル化反応用の触媒
を製造するための有用な中間生成物である。例1 上部が冷却ジャケットでまた下部が加熱ジャケットで取
囲まれた管状の、充填物を満たした、直径2cの及び高
さ250c初を有する高圧反応器中に隔膜圧縮機によっ
て燐化水素を圧入した。
を製造するための有用な中間生成物である。例1 上部が冷却ジャケットでまた下部が加熱ジャケットで取
囲まれた管状の、充填物を満たした、直径2cの及び高
さ250c初を有する高圧反応器中に隔膜圧縮機によっ
て燐化水素を圧入した。
下部の加熱ジャケットを蒸気で120o0に加熱し、上
部の冷却ジャケットを新しい水で約2500に冷却した
。こうして、反応器中を150バールの圧力に調節した
。次に、装置から、重量比50:50:1のシクロヘキ
セン、トルオール及びアゾビスイソブチロニトリルから
なる溶液を該反応器中にポンプで供給した。その後に、
溶液約300の{を供給し、反応器の底部に存在する吐
出弁を開いた。反応混合物の除去量を、弁の開放時間及
び開放幅を選択することによって該除去量は溶液のポン
プ供給量とほぼ一致するように調節した。こうして、前
記の溶液毎時約1〆を反応器に供給した。該溶液を吐出
弁の背後で生成物容器内で放圧し、溶解したPH3を除
去し、核共鳴スベクトロスコーブで分析した。専ら第1
級シクロヘキシルホスフィンを生じることが示された(
31p:外部標準としての85%弦P04に対して十1
10及び121ppmで二重線)。IH−NMRースベ
クトルにより使用したシクロヘキセンの70%の変換率
が測定された。例2 例1と同様に実施するが、n−オクテン−‘11、トル
オール及びアゾビスイソブチロニトリルからなる混合物
をポンプで供給した。
部の冷却ジャケットを新しい水で約2500に冷却した
。こうして、反応器中を150バールの圧力に調節した
。次に、装置から、重量比50:50:1のシクロヘキ
セン、トルオール及びアゾビスイソブチロニトリルから
なる溶液を該反応器中にポンプで供給した。その後に、
溶液約300の{を供給し、反応器の底部に存在する吐
出弁を開いた。反応混合物の除去量を、弁の開放時間及
び開放幅を選択することによって該除去量は溶液のポン
プ供給量とほぼ一致するように調節した。こうして、前
記の溶液毎時約1〆を反応器に供給した。該溶液を吐出
弁の背後で生成物容器内で放圧し、溶解したPH3を除
去し、核共鳴スベクトロスコーブで分析した。専ら第1
級シクロヘキシルホスフィンを生じることが示された(
31p:外部標準としての85%弦P04に対して十1
10及び121ppmで二重線)。IH−NMRースベ
クトルにより使用したシクロヘキセンの70%の変換率
が測定された。例2 例1と同様に実施するが、n−オクテン−‘11、トル
オール及びアゾビスイソブチロニトリルからなる混合物
をポンプで供給した。
生成物の分析を核共鳴分光学的に行なった。使用量の7
0%のオクテン変換率で第1級1ーオクチルホスフィン
の収率はオクテンの変換量に対して80%であることが
示された。例3 例1と同様に実施するが、シクロオクタジェン−(1・
5)、トルオール及びアゾビスイソブチロニトリルから
なる混合物をポンプで供給した。
0%のオクテン変換率で第1級1ーオクチルホスフィン
の収率はオクテンの変換量に対して80%であることが
示された。例3 例1と同様に実施するが、シクロオクタジェン−(1・
5)、トルオール及びアゾビスイソブチロニトリルから
なる混合物をポンプで供給した。
生成物のガスクロマトグラフィ−分析で次の反応混合物
の定量的な組成を生じた:トルオール:
50.5重量%班‐9 ホスファビシクロノ
ナン(3・3・1一と4・2・1−ノナンとの異性体混
合物):43.の重量%シクロオクタジェン−1・5:
4.1重量%第3級ホスフイン(4異性体):
1.5重量%この値は、反応したシクロオクタジェ
ン量に対して、使用したシクロオクタジェンー1・5の
変換率90%及び所望の第2級ホススフィンの収率96
%に相当する。
の定量的な組成を生じた:トルオール:
50.5重量%班‐9 ホスファビシクロノ
ナン(3・3・1一と4・2・1−ノナンとの異性体混
合物):43.の重量%シクロオクタジェン−1・5:
4.1重量%第3級ホスフイン(4異性体):
1.5重量%この値は、反応したシクロオクタジェ
ン量に対して、使用したシクロオクタジェンー1・5の
変換率90%及び所望の第2級ホススフィンの収率96
%に相当する。
例 4(比較例)
1そのオートクレープ中に、アゾビスイソブチロニトリ
ル5夕、ベンソール50夕及び1・5−シクロオクタジ
ェン108夕(1モル)を装入し、さらにPH334夕
(1モル)を導入した。
ル5夕、ベンソール50夕及び1・5−シクロオクタジ
ェン108夕(1モル)を装入し、さらにPH334夕
(1モル)を導入した。
その後に、該混合物を徐々に8000に加熱し、この際
に圧力は18ゞールに高まった。反応は1時間の誘導時
間後に始まり、温度は90qoに僅かに上昇するが圧力
は1幼時間以内で6バールに減少した。反応混合物のガ
スクロマトグラフィ一分析で次の結果を生じた:シクロ
オクタジェンー1・5 7重量%第3級ホスフ
ィン(4異性体) 2の重量%班‐9−ホスファ
ビシクロノナン(3・3・1一と4・2・1ーノナンと
の異性体温合物)4虫重量%ベンゾール
24重量%例 5(比較例)1そのオー
トクレープ中にアゾビスイソブチロニトリル5夕、ベン
ゾール50夕及びシクロヘキセン82夕(1モル)を装
入し、さらに燐化水素68夕(2モル)を導入した。
に圧力は18ゞールに高まった。反応は1時間の誘導時
間後に始まり、温度は90qoに僅かに上昇するが圧力
は1幼時間以内で6バールに減少した。反応混合物のガ
スクロマトグラフィ一分析で次の結果を生じた:シクロ
オクタジェンー1・5 7重量%第3級ホスフ
ィン(4異性体) 2の重量%班‐9−ホスファ
ビシクロノナン(3・3・1一と4・2・1ーノナンと
の異性体温合物)4虫重量%ベンゾール
24重量%例 5(比較例)1そのオー
トクレープ中にアゾビスイソブチロニトリル5夕、ベン
ゾール50夕及びシクロヘキセン82夕(1モル)を装
入し、さらに燐化水素68夕(2モル)を導入した。
次に、8500に加熱し、この際に圧力はまず40バー
ルに高まり、次に徐々に2ふぐールに減少した。6時間
後、圧力変化はもはや生じなかった。
ルに高まり、次に徐々に2ふぐールに減少した。6時間
後、圧力変化はもはや生じなかった。
反応混合物の核共鳴スベクトロスコープ分析で、使用し
たシクoヘキセンの変換率が78重量%の場合反応量に
対して第1級シクロヘキシルホスフィンの収率60%及
び第2級シクロヘキシルホスフインの収率40%を生じ
た。例 6(比較例)1そのオートクレープ中に、アゾ
ビスイソブチロニトリル5夕、ベンゾール50夕及び1
−オクテン112夕(1モル)を装入し、さらに嫌化水
素136夕(4モル)を導入した。
たシクoヘキセンの変換率が78重量%の場合反応量に
対して第1級シクロヘキシルホスフィンの収率60%及
び第2級シクロヘキシルホスフインの収率40%を生じ
た。例 6(比較例)1そのオートクレープ中に、アゾ
ビスイソブチロニトリル5夕、ベンゾール50夕及び1
−オクテン112夕(1モル)を装入し、さらに嫌化水
素136夕(4モル)を導入した。
次に、オートクレーフの内容物を9000に加熱し、こ
の際に圧力はまず70バールに高まり、引続き徐々に5
&ゞールに減少した。5時間後に圧力は一定に保持され
た。
の際に圧力はまず70バールに高まり、引続き徐々に5
&ゞールに減少した。5時間後に圧力は一定に保持され
た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式(I)又は(II): ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式Iにおいて、R_1及びR_2はそれぞれC原子数
2〜18を有するアルキル基、シクロアルキル基又はア
ラルキル基を表わすか、置換基R_1、R_2の一方は
H原子を表わし、他方は前記の基1つを表わし、式IIに
おいてmないしnは1〜3の数を表わすが、m+nは最
大5であり、R_3、R_4は同一か、又は異なりH原
子をわすか、又はC原子数1〜6を有するアルキル基を
表わす〕で示される有機ホスフイン類を製造するに当り
、式(I)の化合物を得る場合にはC原子数2〜18を
有するアルキレン、シクロアルキレン又はアラルキレン
をまた式(II)の化合物を製造する場合には一般式(I
II):▲数式、化学式、表等があります▼〔式中、m、
n、R_3及びR_4は前記のものを表わす〕の化合物
を、それぞれ燐化水素と、不活性溶剤中に溶けた触媒と
してのアゾビスイソブチロニトリルの存在下に高められ
た温度及び高められた圧力で反応させ、形成した有機ホ
スフインを反応終了後に反応混合物から分離することに
よつて前記式(I)及び式(II)の有機ホスフインを連
続的に製造する方法において、一方では不活性溶剤中の
アルキレン、シクロアルキレン、アラルキレンもしくは
一般式(III)化合物ならびに触媒の溶液をまた他方で
は過化学量論的量の燐化水素を別個に頭頂部から、内部
に混合部材を備えた酸素不含の圧力反応器に連続的に供
給し、反応器の上部冷却帯域で温度約0〜35℃で及び
約80〜300バールのPH_3圧力下で混合し、その
後に反応器の下部反応帯域に少しずつ流れる混合物を温
度約90〜190℃で反応させて、この際に反応器中の
反応成分の滞留時間は触媒の半減期の約13倍〜約15
倍であり、反応器の底部から取出される反応混合物から
、予め大気圧に放圧した後に、有機ホスフイン類を混合
物の蒸留によつて分離することを特徴とする、前記一般
式(I)又は(II)で示される有機ホスフイン類の連続
的製造法。 2 アルキレンがC原子数2〜18を有する、特許請求
の範囲第1項記載の方法。 3 シクロアルキレン、アラルキレン又は一般式(III
)の化合物がC原子数6〜9を有する、特許請求の範囲
第1項記載の方法。 4 1−オクテン、シクロヘキセン又はシクロオクタジ
エン−1・5を燐化水素と反応させる、特許請求の範囲
第1項乃至第3項のいずれかに記載の方法。 5 アゾビスイソブチロニトリルを触媒として使用する
、特許請求の範囲第1記乃至第4項のいずれかに記載の
方法。 6 溶剤がヘキセン、ベンゾール又はトルオールである
、特許請求の範囲第1項乃至第5項のいずれかに記載の
方法。 7 触媒量がアルキレン、シクロアルキレン、アラルキ
レン又は一般式(III)の化合物の量に対して約0.1
〜5モル%である、特許請求の範囲第1項乃至第6項の
いずれかに記載の方法。 8 反応器の上部冷却帯域の温度が20℃〜30℃であ
り、反応帯域の温度が110℃〜130℃である、特許
請求の範囲第1項乃至第7項のいずれかに記載の方法。 9 反応器中のPH_3圧力が120〜180バールで
ある、特許請求の範囲第1項乃至第8項のいずれかに記
載の方法。10 反応器中の反応成分の滞留時間が、触
媒の半減期の13倍〜15倍である、特許請求の範囲第
1項乃至第9項のいずれかに記載の方法。 11 溶剤とオレフイン性反応成分との重量比が1:1
である、特許請求の範囲第1項乃至第10項のいずれか
に記載の方法。 12 反応混合物の放圧の際に遊離する燐化水素ならび
に反応混合物の蒸留の際に回収される、溶剤と未反応の
オレフイン性反応成分とからの混合物をを循環して反応
器中に戻す、特許請求の範囲第1項乃至第11項のいず
れかに記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2703802.4 | 1977-01-29 | ||
DE2703802A DE2703802C3 (de) | 1977-01-29 | 1977-01-29 | Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von organischen Phosphinen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5395920A JPS5395920A (en) | 1978-08-22 |
JPS6035353B2 true JPS6035353B2 (ja) | 1985-08-14 |
Family
ID=5999929
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP53009216A Expired JPS6035353B2 (ja) | 1977-01-29 | 1978-01-30 | 有機ホスフイン類の連続的製造法 |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4163760A (ja) |
JP (1) | JPS6035353B2 (ja) |
BE (1) | BE863423A (ja) |
CA (1) | CA1071653A (ja) |
CH (1) | CH632518A5 (ja) |
DD (1) | DD134768A5 (ja) |
DE (1) | DE2703802C3 (ja) |
DK (1) | DK145743C (ja) |
FR (1) | FR2378790A1 (ja) |
GB (1) | GB1561874A (ja) |
IT (1) | IT1104153B (ja) |
NL (1) | NL177407C (ja) |
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JPH0356912Y2 (ja) * | 1984-12-11 | 1991-12-24 | ||
JPH041941B2 (ja) * | 1983-09-28 | 1992-01-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | |
JPH0441489Y2 (ja) * | 1987-08-03 | 1992-09-29 | ||
JPH0445161Y2 (ja) * | 1986-12-23 | 1992-10-23 | ||
JPH0445154Y2 (ja) * | 1986-05-26 | 1992-10-23 |
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US4623687A (en) | 1985-03-01 | 1986-11-18 | Fmc Corporation | Bicyclic phosphine oxides and their use as flame retardants in styrene modified polyphenylene ether resins |
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-
1978
- 1978-01-12 GB GB1243/78A patent/GB1561874A/en not_active Expired
- 1978-01-17 CA CA205,070A patent/CA1071653A/en not_active Expired
- 1978-01-25 US US05/872,250 patent/US4163760A/en not_active Expired - Lifetime
- 1978-01-26 CH CH87978A patent/CH632518A5/de not_active IP Right Cessation
- 1978-01-26 NL NLAANVRAGE7800955,A patent/NL177407C/xx not_active IP Right Cessation
- 1978-01-27 BE BE184717A patent/BE863423A/xx not_active IP Right Cessation
- 1978-01-27 IT IT47816/78A patent/IT1104153B/it active
- 1978-01-27 FR FR7802415A patent/FR2378790A1/fr active Granted
- 1978-01-27 DK DK41078A patent/DK145743C/da not_active IP Right Cessation
- 1978-01-27 DD DD78203449A patent/DD134768A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1978-01-30 JP JP53009216A patent/JPS6035353B2/ja not_active Expired
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Also Published As
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