JPS6035352B2 - ヒドロキシアルキル基を有するホスホロアミデ−トの製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明はヒドロキシアルキル基を有するホスホロアミデ
ートの製造方法に関するものである。 さらに詳しくは、本発明は反応溶媒中、脱ハロゲン化水
素剤の存在下、リン酸ジェステルハラィドとヒドロキシ
アルキルアミンとを反応させヒドロキシアルキル基を有
するホスホロアミデートを製造する改良された方法に関
するものである。ヒドロキシアルキル基を有するホスホ
ロアミデートは合成樹脂、繊維等の鍵燃剤および変成剤
、潤滑油添加剤等として有用な化合物であり、特に敏質
および硬質ウレタンフオームの艶燃剤として極めて有用
な化合物である。従来、リン酸ジェステルハラィドとヒ
ドロキシアルキルァミンとを反応させてヒドロキシアル
キル基を有するホスホロアミデートを製造する方法とし
ては次のような方法が知られている。【１｝ リン酸ジ
ェステルハラィドとヒドロキシアルキルアミンとを反応
させる方法（米国特許第３５８４０８５号明細書）。 【２｝ トリェチルアミンの存在下、リン酸ジィソプロ
ピルクロリドとモノェタノールアミンとを反応させる方
法〔ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソ
サエテイ−（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）・第７３
蓋・第５７５７頁・１９５３王〕。 ‘３｝ 無機塩基水溶液中、リン酸ジェステルハラィド
と有機第一または第二アミンとを反応させる方法（西独
国特許第１０３３２０び号明細書）。前記従来法〔１｝
は反応を進行させるための脱ハロゲン化水素剤として原
料のヒドロキシアルキルアミンを使用しており、アセト
ニトリル溶媒中でリン酸ジェステルハライドに対してヒ
ロキシア，Ｉレキルアミンを２倍モル以上使用して反応
を行なうことに特徴をおいている。そして、この方法は
反応終了後、得られた反応混合物にベンゼンを加えて数
回水洗し反応により副生したヒドロキシアルキルアミン
ハロゲン化水素塩および過剰量使用した未反応のヒドロ
キシルアルキルアミンを分離除去した後、得られた有機
層を減圧濃縮してヒドロキシアルキル基を有するホスホ
ロアミデート得ている。 しかしながら、この方法では、ヒドロキシアルキル基を
有するホスホロアミデートが水に極めて水溶性であるた
めに水洗の際に水洗水へ溶解損失し、得られるヒドロキ
シアルキル基を有するホスホロァミデートの収率が極め
て低いという欠点がある。 また、この方法では脱ハロゲン化水素剤として高価なヒ
ドロキシアルキルアミンを使用しリン酸ジェステルハラ
ィドに対して２倍モル以上使用しているために、未反応
のヒドロキシアルキルアミソが残存し得られるヒドロキ
シァルキル基を有するホスホロアミデートの純度が低い
という欠点および経済的でないという欠点がある。 したがって、前記従来法【１｝は高純度、高収率でヒド
ロキシアルキル基を有するホスホロアミデートを製造す
る方法としては適していない。 また、前記従来法（狐ま反応を進行させるための脱ハロ
ゲン化水素剤としてトリェチルアミンを使用してリン酸
ジィソプロピルクロリドとモノェタノールアミンとを反
応させることに特徴をおいている。 しかしながら、この方法においてはリン酸ジェステルハ
ライドとしてリン酸ジイソプ。 ピルクロリド、またヒドロキシアルキルアミンとしてモ
ノェタノールアミンのみを使用しており、さらにまたこ
の方法における反応条件および反応により得られる０・
０−ジイソプロピル−Ｎ一（２ーヒドロキシェチル）ホ
スホロアミデートの純度、収率についても全く開示され
ていない。そこで、本発明者らがこの方法を追試するた
めトリェチルアミンの存在下、リン酸ジィソプロピルク
ロリドとモノエタノールアミンとをクロロホルム溶媒中
で反応させ常法により後処理を行なった結果、得られた
０・０−ジィソプロピル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル
）ホスホロアミデートの収率は６９．７％であり、水酸
基価純度は８８．１４％であった。 したがって、前記従来法（２）もまた高純度、高収率で
ヒドロキシアルキル基を有するホスホロアミデートを製
造する方法としては適していない。 また、前記従釆法湖はアンモニア水溶液、炭酸ナトリウ
ム水溶液、水酸化ナトリウム水溶液等の無機塩基水溶液
中でリン酸ジェステルハラィドと有機第一または第二ア
ミンとを反応させることに特徴をおいている。しかしな
がらこの明細書では有機第一および第二アミンとして水
酸基を有しないアミンを反応させて得られるホスホロア
ミデートについては種々のホスホロアミデートおよび実
施例の記載がありしかも収率８２〜９９％で得られるこ
とが記載されているが、水酸基を有するアミンすなわち
ヒドロキシアルキルアミンを反応させて得られるヒドロ
キシアルキル基を有するホスホロアミデートについては
０・０−ジエチル−Ｎ一（２ーヒドロキシエチル）ホス
ホロアミデード、０・０ージプロピル−Ｎーブチル−Ｎ
−（２−ヒドロキシエチル）ホスホロアミデートおよび
０・０ージブチル−Ｎ−ブチル−Ｎ−（２ーヒドロキシ
エチル）ホスホロァミデートの記載しかなく、実施例お
よび収率については全く記載がない。 本発明者らがこの明細書記載の方法に従って５％アンモ
ニア水溶液、２０％炭酸ナトリウム水溶液または１０％
水酸化ナトリウム水溶液中でリン酸ジエステルハライド
とヒドロキシアルキルアミンとを反応させた結果、副生
物が多量に生成し、この方法で得られるヒドロキシアル
キル基を有するホスホロアミデートは純度約４５〜７５
％および収率約３５〜７５％と純度、収率共に極めて低
いことがわかつた。 したがって、前記従来法‘３１もまた高純度、高収率で
ヒドロキシアルキル基を有するホスホロアミデートを製
造する方法としては適していない。 以上のように、従来の方法ではリン酸ジェステルハラィ
ドとヒドロキシアルキルァミンとを反応させてヒドロキ
シアルキル基を有するホスホロアミデートを高純度、高
収率で製造することは困難であった。本発明の目的はリ
ン酸ジェステルハラィドとヒドロキシアルキルアミンと
を反応させてヒドロキシアルキル基を有するホスホロア
ミデートを高純度、高収率で製造する方法を提供するこ
とにある。 本発明者らはリン酸ジェステルハラィドとヒドロキシア
ルキルアミンとを反応させて高純度、高収率でヒドロキ
シアルキル基を有するホスホロアミデートを製造する方
法について、各種の反応溶媒および各種の脱ハロゲン化
水素剤を使用して鋭意研究を重ねた結果、反応溶媒とし
て水不落または難溶の有機溶媒を使用し、脱ハロゲン化
水素剤としてアルカリ金属炭酸塩を使用し実質無水の条
件下でリン酸ジェステルハラィドとヒドロキシアルキル
アミドとを反応させれば意外にもヒドロキシァルキル基
を有するホスホロァミデートが高純度および高収率で得
られることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成
するに至った。 すなわち、本発明は反応溶媒中、脱ハロゲン化水素剤の
存在下、一般式（式中Ｒ，およびＲ２は互いに同一かま
たは異なり、それぞれハロゲン原子で置換されていても
よいアルキル基、アリル基、アルァルキル基またはアリ
ール基を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。 ）で表わされるリン酸ジェステルハラィドを一般式（式
中Ｒ３は水酸基で置換されていてもよい低級アルキレン
基を示し、Ｒ４は水素原子、低級アルキル基または−Ｒ
３一ＯＨで表わされる基を示す。）で表わされるヒドロ
キシアルキルアミンとを反応させ一般式（式中、Ｒ，、
Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は前記と同一の意味を示す。 ）で表わされるヒドロキシアルキル基を有するホスホロ
アミデートを製造する方法において、反応溶媒として水
不溶または雛漆の有機溶媒を使用し、脱ハロゲン化水素
剤としてアルカリ金属炭酸塩を使用し実質無水の条件下
で反応させることを特徴とする前記一般式で表わされる
ヒドロキシアルキル基を有するホスホロアミデートの製
造方法である。 本発明の方法における反応は次の反応式にしたがって進
行する。 （式中Ｒ，、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＸは前記と同一の
意味を示し、Ｍはアルカリ金属原子を示す。 ）本発明の方法において使用する水不溶または雛溶の有
機溶媒としてはクロロホルム、塩化エチレン、四塩化炭
素、塩化ェチリデン、１・１・２−トリクロルエタン、
トリクロルエチレン、１・２−ジクロルプロパン、１・
２・３ートリクロルプ。パン、クロルベンゼン、クロル
トルェン等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルヱ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類があげられ、特にハ
ロゲン化炭化水素類が好ましく、使用量は多量に使用す
る必要はなく、前記一般式〔１〕で表わされるリン酸ジ
ェステルハライド‘こ対して１．５〜３．０倍モル使用
すれば充分である。尚、反応溶媒としてアセトン、メタ
ノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン
等の水可溶の有機溶媒または水溶液を使用した場合は副
生物が生成し目的とするヒドロキシアルキル基を有する
ホスホロアミデートの純度および収率が極めて低く本発
明の目的を達成することはできない。本発明の方法にお
いて使用するアルカリ金属炭酸塩としては炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等があげられ、使用量は前記一般式〔
１）で表わされるリン酸ジェステルハラィド‘こ対して
当モル以上あればよく、１．０〜１．２倍モル使用すれ
ば充分である。 アルカリ金属炭酸塩の使用量が前記一般式〔１〕で表わ
されるリン酸ジェステルハラィド‘こ対して当モル未満
では幅生物が生成し、得られるヒドロキシアルキル基を
有するホスホロアミデートの純度および収率が低くなる
ので好ましくない。尚、脱ハロゲン化水素剤として有機
第三アミンを使用した場合は有機第三アミンの分離回収
操作が繁雑で、しかも目的とするヒドロキシアルキル基
を有するホスホロアミデートの収率は極めて低く、また
脱ハロゲン化水素剤として水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム等のアルカリ金属水酸化物、水酸化カルシウム、
水酸化バリウム等のアルカリ士類金属水酸化物、炭酸水
素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸
水素塩もしくはこれらの水溶液、または炭酸ナトリウム
水溶液、炭酸カリウム水溶液等のアルカリ金属炭酸塩の
水溶液を使用した場合は創生物が生成してヒドロキシア
ルキル基を有するホスホ。アミデートの純度および収率
は極めて低く本発明の目的を達成することはできない。
アルカリ金属炭酸塩は無水塩を結晶の形状で使用し、結
晶の粒度はできるだけ小さいものを使用するのが好まし
く、粒度が小さければ４・さし、ほど反応が円滑に進行
し、反応時間が短縮できる。 本発明の方法において使用する前記一般式〔１〕で表わ
されるリン酸ジェステルハラィドとしては、前記一般式
〔１〕のＲ，およびＲ２で示される基がメチル基、エチ
ル基、ｎープロピル基、ィソプロピル基、ｎ−ブチル基
、ｎーベンチル基、ｎ−へキシル基、ｎーオクチル基、
２−エチルヘキシル基、ラウリル基等のアルキル基、２
ークロロェチル基、２ーフロモェチル基、２・３−ジク
ロロプロピル基、２・３−ジブロモプロピル基、８ーク
ロロィソプロピル基等のハロゲン化アルキル基、アリル
基、３−クロロアリル基、ベンジル基、フェニルェチル
基等のアルアルキル基、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−クロロ
ベンジル基、ｏ−、ｍ−もしくはｐーフロモベンジル基
、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−クロロフェニルェチル基、ｏ
−、ｍ−もしくはｐ−フロモフェニルェチル基等のハロ
ゲン化アルアルキル基、フェニル基、ｏ−、ｍ〜もしく
はｐートリル基、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−キシリル基等
のアリール基、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−クロロフェニル
基、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フロモフェニル基等のハロ
ゲン化アリ−ル基であり、さらにｘで示される原子がフ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子もしくはヨウ素原子であ
る化合物である。 また、本発明の方法で使用する前記一般式〔ロ）で表わ
されるヒドロキシアルキルアミンとしては、例えばエタ
ノールアミン、２−メチルアミノエタノール、２−エチ
ルアミノヱタノール、２ープロピルアミノエタノール、
２−イソプロピルアミノエタノール、２−ブチルアミノ
エタノール、ジエタノールアミン、イソプロ／ゞノール
アミン、Ｎーエチルイソフ。 ロ／ぐノールアミソ、ジイソプロパノールアミン、２−
アミノプロパノール、３ーアミノ−１−プロパノール、
３ーメチルアミノー１−プロ／ゞノール、３−エチルア
ミノー１ープロパノール、３ープロピルアミノー１ープ
ロパノ一ル、３ーブチルアミノー１−フロ／ぐノール、
１−アミノ−２−ブタノール、２ーアミノー１ーブタノ
ール、２−エチルアミノー１ーブタノール、２ープロピ
ルアミノー１ーブタノール、３ーアミノー１ーブタノー
ル、１−アミノー４ーブタ／−ル、２−アミノ−３ーブ
タノール、１ーアミノ−２ーメチルー２−プロパノール
、２−アミノー２−メチル−１−プロパ／−ル、２ーエ
チルアミノー２ーメチル−１−プロバノール、２ーブロ
ピルアミノ−２ーメチル−１ープロパノール、３ーアミ
ノ−１・２ープロ／ゞンジオール、３−メチルアミノー
１．２−プロ／ゞンジオール、３−エチルアミノ−１・
２−プロ／ゞンジオール、２−アミノ−１・３ープロパ
ンジオール、２−アミノ−２ーメチルー１・３−プロパ
ンジオール等があげられる。本発明の方法において使用
する前記一般式

〔０〕で表わされるヒドロキシアルキル
アミンの使用量は前記一般式〔１〕で表わされるリン酸
ジェステルハラィドーこ対して当モル使用すれば充分で
ある。 本発明の方法における反応の方法は、例えば前記一般式

〔０〕で表わされるヒドロキシアルキルアミン、アルカ
リ金属炭酸塩および水不溶または難溶の有機溶媒の混合
液に前記一般式〔１〕で表わされるリン酸ジェステルハ
ラィドを滴下する方法、前記一般式

〔０〕で表わされる
ヒドロキシアルキルァミンおよび水不溶または雛溶の有
機溶媒の混合液に前記一般式〔１〕でフ。 表わされるリン酸ジェステルハラィドを滴下し、次いで
アルカリ金属炭酸塩を添加する方法等をあげることがで
き、通常は前記一般式

〔０〕で表わたれるヒド。キシア
ルキルアミン、アルカリ金属炭酸塩および水不溶または
雛溶の有機溶媒の混合液に前記一般式〔１〕で表わされ
るリン酸ジェステルハラィドを滴下する方法をとる。本
発明の方法における反応温度は２０〜８０℃好ましくは
３０〜６０℃が適当であり、反応時間は０．５〜５時間
好ましくは０．５〜３時間が適当である。 本発明の方法における反応は実質無水の条件下で行なう
。本発明の方法における反応は水の存在下で行なった場
合は副生物を生成しヒドロキシアルキル基を有するホス
ホロアミデートの純度および収率が低くなるので好まし
くなく、実質無水の条件下で行なう必要がある。反応終
了後、得られた反応混合物を涙過または分液等の常法に
よって処理し、副生したアルカリ金属ハロゲン化物、ア
ルカリ金属炭酸水素塩および過剰量使用した未反応アル
カリ金属炭酸塩等の無機塩を分離除去する。 例えば、反応終了後、得られた反応混合物に水を加えて
炉過するか、まごは水を加えて炉過を経ずに分液する方
法があげられ、水に対する溶解度が比較的小さい炭酸ナ
トリウムおよび炭酸水素ナトリウム等の無機塩が含まれ
る場合には塩酸、硫酸等の滋酸を加えて中和分解し溶解
度が比較的大きい塩化ナトリウム、硫酸ナトリウム等の
無機塩とすることにより少量の水で分液分離することが
できる。この際、水量は分離除去する無機塩を飽和熔解
する量以下が好ましい。無機塩を分離除去して得られた
炉液または有機層は減圧濃縮して使用した水不落または
灘溶の有機溶媒を轡去し、さらに０．１〜５０脚Ｈｇ好
ましくは０．５〜１仇肋Ｈｇの減圧下、５０〜１５０つ
０好ましくは８０〜１２０００で極少量残存する未反応
物、水不熔または難溶の有機溶媒を留去することにより
高純度のヒドロキシアルキル基を有するホスホロアミデ
ートが高収率で得られる。 次に本発明の方法の特徴とその利点を説明する。 本発明の方法の特徴の第１は水不溶または灘熔の有機溶
媒を使用し実質無水の条件下で反応を行なうことにより
高純度、高収率でヒドロキシアルキル基を有するホスホ
ロアミデートが得られることである。 本発明の方法の特徴の第２の反応を進行させるための脱
ハロゲン化水素剤として安価なアルカリ金属炭酸塩を使
用し実質無水の条件下で反応を行なうことにより高純度
、高収率でヒドロキシアルキル基を有するホスホロアミ
デートが得られることである。 したがって、本発明の方法を実施することにより従来の
方法に比べて工業的規模において極めて経済的に高純度
のヒドロキシアルキル基を有するホスホロアミヂートを
製造できるという利点を生ずる。 次に本発明の方法を実施例および比較例により具体的に
説明する。 実施例 １ ０・０ージイソプロピル−Ｎ・Ｎービス（２−ヒドロキ
シェチル）ホスホロアミデートの製造温度計、冷却管、
滴下ロートおよび櫨梓機を備えた１そ四つ口フラスコに
ジエタノールアミン１０５．１夕（１．０モル）、炭酸
ナトリウム１１６．６夕（１．１モル）およびクロロホ
ルム２斑．８夕（２．０モル）を仕込み、これに櫨拝下
りン酸ジィソブロピルクロリド２００．６夕（１．０モ
ル）を４０００以下で４０分かかって滴下し、滴下終了
後、雛洋下４０〜４５ｏｏで１時間反応させた。 反応終了後、得られた反応混合物に水１６０の‘を加え
て炉過し、得られた炉液を水層と有機層に分液した。 有機層は減圧濃縮してクロロホルムを蟹去し、得られた
濃縮液をさらに１００℃／１枕凪ｇで軽留分を留去し無
色透明粘鋼液体の○・０−ジィソプロピルーＮ・Ｎ−ビ
ス（２ーヒドロキシエチル）ホスホロアミデート２４９
．９夕（収率９２．８％）を得た。このものは２５ｏ０
における比重１．１１＆ ２５℃における屈折率１．４
５０４、酸価０．１５ＫＯＨの９／夕、水酸基価４１０
．卵ＯＨの９／夕（理論値４１６．７）、水酸基価純度
９８．６１％であった。比較例 １ 従来法ｍにおける方法 ０・０ージイソプロピル−Ｎ・Ｎービス（２ーヒドロキ
シェチル）ホスホロアミデートの製造実施例１と同様の
四つ口フラスコにジェタノールアミン２７３．４夕（２
．６モル）およびアセトニトリル１５０の‘を仕込み、
これに蝿梓下リン酸ジィソプロピルクロリド２００．６
夕（１．０モル）を２７〜５が○で２時間かかって滴下
した。 滴下終了後、混合物を室温で一夜放置した後、加熱し縄
投下６９〜７４つ０で８時間反応させた。反応終了後、
得られた反応混合物にベンゼン６３０地および水４０９
の上を加えて分液した。 水層は２００の‘のベンゼンで３回抽出を繰り返し、得
られたベンゼン層を先に分液によって得られたベンゼン
層と一緒にし、１２５の‘の水で５回水洗した。ついで
得られたベンゼン層は減圧濃縮してベンゼンを留去した
後、得られた濃縮液をさらに１００ｑｏ／１側Ｈｇで２
時間減圧濃縮して黄褐色透明粘鋼液体の０・０−ジィソ
ブロピルーＮ・Ｎービス（２ーヒドロキシヱチル）ホス
ホロアミデート２０２．５夕（収率７５．２％）を得た
。このものは２９０における比重１．１１７、２５００
における屈折率１．４５０１、酸価２．８９ＫＯＨの９
／夕、水酸基価３８９．５ＫＯＨの９／夕（理論値４１
６．７）、水酸基価純度９３．４７％であった。比較例
２従来■による方法 ０・０ージイソプロピルーＮ・Ｎービス（２ーヒドロキ
シェチル）ホスホロアミデートの製造実施例１と同様の
装置を備えた２そ四つ口フラスコにジエタノールアミン
１０５．１夕（１．０モル）、トリエチルアミン１０３
．２９（１．０２モル）およびクロロホルム５９６．９
夕（５．０モル）を仕込み、これに蝿洋下リン酸ジィソ
プロビルクロリド２００．６夕（１．０モル）を２５℃
以下で１時間かかって滴下し、滴下終了後、粥枠下３０
〜４０００で２時間反応させた。 反応終了後、得られた反応混合物に水３００の‘を加え
て分液し、ついで水１５物上で３回水洗した。 得られたクロロホルム層は減圧濃縮してクロロホルムを
蟹去した後、得られた濃縮液をさらに１００℃／１脚Ｈ
ｇで軽留分を蟹分し黄褐色透明粘鋼液体の０・０−ジィ
ソプロピル−Ｎ・Ｎービス（２ーヒドロキシエチル）ホ
スホロアミデート１８７．８夕（収率６９．７％）を得
た。このものは２６０における比重１．１１７、２５０
０における屈折率１．４５００、酸価３．０１ＫＯＨｍ
９′夕、水酸基価３６７．３ＫＯＨの９′夕（理論値４
１６．７）、水酸基価純度８８．１４％であった。比較
例 ３従来法３｝‘こよる方法 ０・０ージイソプロピル−Ｎ・Ｎ−ビス（２ーヒドロキ
シェチル）ホスホロアミデートの製造実施例１と同機の
装置を備えた２そ四つ口フラスコにジエタノ−ルアミン
１０５．１夕（１．０モル）および２０％炭酸ナトリウ
ム水溶液６５０の上（１．４８モル）を仕込み、これに
健梓下リン酸ジイソプロピルクロリド２００．６夕（１
．０モル）を４０℃以下で４５分かかって滴下し、滴下
終了後、凝梓下４０〜４５ＣＣで２時間反応させた。 反応終了後、得られた反応混合物に塩酸を加えて弱アル
カリ性に調整した後、減圧濃縮して水を蟹去した。 ついで得られた濃縮残澄にエタノールを加えて抽出し、
抽出液を減圧濃縮してェタノールを留去して、無色透明
粘鋼液体の０・０−ジィソプロピル−Ｎ・Ｎービス（２
−ヒドロキシエチル）ホスホロアミデート１７０．Ｍ（
収率６３．４％）を得た。このものは２５００における
比重１．１１７、２５℃における屈折率１．４５００、
酸価２．７５ＫＯＨの９′夕、水酸基価２９７．靴ＯＨ
の９／夕（理論値４１６．７）、水酸基価純度７１．３
４％であった。実施例 ２ 各種の反応溶媒を使用しての０・０−ビス（２・３ージ
クロロプロピル）−Ｎ−（２ーヒドロキシェチル）ホス
ホロアミデートの製造実施例１と同様の装置を備えた５
００叫四つ口フラスコにモノエタノールアミン３０．５
夕（０．５０モル）、炭酸カリウム７６．０夕（０．５
５モル）および各種の反応溶媒１５０の‘を仕込み、こ
れに縄伴下、リン酸ビス（２・３−ジクロロプロピル）
クロリド１６９．２夕（０．５０モル）を４０００以下
で２び分かかって滴下し、滴下終了後、損梓下４０〜４
９０で１時間反応させた。 反応終了後、反応溶媒に水不溶または難港の有機溶媒を
使用した場合（本発明の方法）は得られた反応混合物に
水２００の‘を加えて炉遇し、炉液は水層と有機層に分
液した。 また、反応溶媒に水可溶の有機溶媒または水を使用した
場合（比較例）は得られた反応混合物に水２００の‘お
よびクロロホルム３００のこを加えて炉過し、炉液は水
層と有機層に分液した。得られた有機層は減圧濃縮し、
水不溶または難溶の有機溶媒、またはクロロホルムを留
去し、ついで１００ｏｏ／１柳Ｈｇで軽留分を蟹分して
○・０−ビス（２・３ージクロロプロピル）−Ｎ一（２
ーヒドロキシェチル）ホスホロアミデートを得た。 得られた結果を表一１に示す。表 − １ 注） 水酸基価の理謙群直は１５４．６ＫＯＨ物／夕で
ある。 実施例 ３各種の脱ハロゲン化剤を使用しての０・０−
ジ（ｎーオクチル）−Ｎ・Ｎ−ビス（２−ヒドロキシェ
チル）ホスホロアミデートの製造実施例１での炭酸ナト
リウム１．１モルの代わりに各種の脱ハロゲン化水素剤
の所定量を、またＩＪン酸ジィソプロピルの代わりにリ
ン酸ジ（ｎーオクチル）を使用し実施例１と同様に操作
して０・０ージ（ｎーオクチル）一Ｎ・Ｎ−ビス（２−
ヒド。 キシェチル）ホスホロアミデートを得た。得られた結果
を表−２に示す。表 − ２ 注） 水酸基価の理論値は２７４．０ＫＯＨ隊八夕であ
る。 実施例 ４実施例１と同様の四つ口フラスコに前記一般
式〔ｍで表わされるヒドロキシアルキルアミン１．０モ
ル、炭酸ナトリウム１．１モルおよびクロロホルム２．
０モルを仕込み、これに損梓下３０００以下で前記一般
式〔１〕で表わされるリン酸ジェステルハラィドを滴下
した後、灘梓下所定温度で所定時間反応させた。 反応終了後、得られた反応混合物に水１６０の（を加え
て炉逸し、得られた炉液を水層と有機層とに分液した。 有機層は減圧濃縮してクロロホルムを留去し、得られた
濃縮液をさらに９５〜１０５℃／０．５肌Ｈｇで竪蟹分
を蟹去して前記一般式〔ｍ〕で表わされれるヒドロキシ
アルキル基を有するホスホロアミデートを得た。得られ
た結果を表−３に示す。 ■ 船 ト １氏 偽 運 Ｓ唐 脚 Ｑ 霊 Ｓ 運 馨 き 三′ 料 し 雲誉 ＆ Ｓ 蓋 Ｑ 蓮 る 」一 Ａ 霊 母

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 反応溶媒中、脱ハロゲン化水素剤の存在下、一般式
   ▲数式、化学式、表等があります▼（式中Ｒ＿１および
   Ｒ＿２は互いに同一かまたは異なり、それぞれハロゲン
   原子で置換されていてもよいアルキル基、アリル基、ア
   ルアルキル基またはアリール基を示し、Ｘはハロゲン原
   子を示す。 ）で表わされるリン酸ジエステルハライドと一般式▲数
   式、化学式、表等があります▼（式中Ｒ＿３は水酸基で
   置換されてもよい低級アルキレン基を示し、Ｒ＿４は水
   素原子、低級アルキル基または−Ｒ＿３−ＯＨで表わさ
   れる基を示す。 ）で表わされるヒドロキシアルキルアミンとを反応させ
   一般式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３およびＲ＿４は前記と同
   一の意味を示す。 ）で表わされるヒドロキシアルキル基を有するホスホロ
   アミデートを製造する方法において、反応溶媒として水
   不溶または難溶の有機溶媒を使用し、脱ハロゲン化水素
   剤としてアルカリ金属炭酸塩を使用し実質無水の条件下
   で反応させることを特徴とする前記一般式で表わされる
   ヒドロキシアルキル基を有するホスホロアミデートの製
   造方法。