JPS6034396Y2 - 洗浄装置 - Google Patents

洗浄装置

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Publication number
JPS6034396Y2
JPS6034396Y2 JP4404680U JP4404680U JPS6034396Y2 JP S6034396 Y2 JPS6034396 Y2 JP S6034396Y2 JP 4404680 U JP4404680 U JP 4404680U JP 4404680 U JP4404680 U JP 4404680U JP S6034396 Y2 JPS6034396 Y2 JP S6034396Y2
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JP
Japan
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cleaned
cleaning
cooling device
cleaning tank
solvent vapor
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Expired
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JP4404680U
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English (en)
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JPS56146482U (ja
Inventor
邦夫 門馬
Original Assignee
スピ−ドファム株式会社
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Publication date
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Description

【考案の詳細な説明】 本考案は洗浄装置の改良に関するものである。
従来、有機溶剤を使用して被洗浄物の洗浄を行うように
した洗浄装置は一般に知られている。
そして、従来のこの種洗浄装置においては、被洗浄物の
出し入れなどに伴って溶剤蒸気の槽外への拡散が生じ易
く、それを防ぐため、洗浄槽の側面に設けた凝縮管の段
数を多くするとか、被洗浄物を出し入れするとき以外は
洗浄槽に蓋をするなどの手段が講じられていたが、洗浄
槽が大形化したり、十分な拡散防止効果が得られないな
どの欠点があった。
叙上に鑑み、本考案は、簡単な構成によって溶剤蒸気の
拡散を確実に防止することのできる洗浄装置の提供を目
的とするもので、その目的達成のため、本考案において
は、有機溶剤による洗浄を行うための洗浄槽内に被洗浄
物を昇降自在に支持させ、上記被洗浄物の上下に該被洗
浄物と連動して昇降自在に冷却装置を配設すると共に、
これらの冷却装置を、被洗浄物の任意の昇降位置におい
て上下いずれかの冷却装置によって溶剤蒸気の拡散を防
止し得るような位置に取付けたことを特徴としている。
以下、本考案の実施例を図面に基づいて詳細に説明する
に、第1図において、1は洗浄槽であって、該洗浄槽1
の内部には有機溶剤2が充填され、洗浄槽1の側壁には
、溶剤蒸気を槽内に供給するための供給管3が液面より
上方に開口するように取付けられ、洗浄槽1の上端部に
は、溶剤蒸気の拡散を防止するための凝縮管4が内壁面
に沿って多段状に配設される。
そして、上記洗浄槽1の内部には、被洗浄物5を適宜の
支持部材6によって昇降自在に支持させると共に、被洗
浄物5の上下に該被洗浄物5と連動して昇降自在に冷却
装置7,8を配設し、これらの冷却装置7,8は、被洗
浄物5が任意の昇降位置に移動した場合でも、上下いず
れかの冷却装置7または8によって溶剤蒸気の拡散を防
止し得るような位置に取付けられている。
上述した洗浄装置おいて、被洗浄物5は、第1図に示す
取出位置から、有機溶剤2中に浸漬される第2図の浸漬
洗浄位置、供給管3から槽内に供給される溶剤蒸気との
接触によって洗浄される第3図の蒸気洗浄位置、及び、
該蒸気洗浄位置よりも若干上昇した第4図に示す乾燥位
置に順次移動し、ここから再び第1図に示す取出位置に
復帰し、それと連動して上下の冷却装置7,8も昇降す
るが、上記第1図の取出位置においては、下部の冷却装
置8が洗浄槽1の上端部に位置して溶剤蒸気を冷却凝縮
させることによりその槽外への拡赦を防止し、被洗浄物
5が第2図の浸漬洗浄位置へ移動した場合には、上部の
冷却装置7が洗浄槽1の中間に位置してそれ以上溶剤蒸
気が上昇するのを抑制する。
また、被洗浄物5が第3図の蒸気洗浄位置に上昇したと
きには、上記浸漬洗浄位置における場合と同様に上部の
冷却装置7によって溶剤蒸気の拡散が防止され、さらに
、被洗浄物5が第4図に示す乾燥位置に移動すると、被
洗浄物5に伴って上昇する溶剤蒸気は上部冷却装置7に
よって槽外への拡散が防止され、洗浄槽1の下方より上
昇する溶剤蒸気は下部の冷却装置8によってその上昇が
抑えられる。
同時に、上下の冷却装置7,8と周囲の凝縮管4とによ
って被洗浄物の冷却が行われる。
なお、上記冷却装置7,8は、その昇降に伴う乱気流の
発生を最小限に抑えるため、管に薄い銅フィンを取付け
た構造とするのが望ましい。
このように、本考案に係る洗浄装置によれば、被洗浄物
がいかなる昇降位置にあっても上下いずれかの冷却装置
によって溶剤蒸気の槽外への拡散を確実に防止すること
ができる。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第4図は本考案に係る洗浄装置の異なる動作状
態を示す断面図である。 1・・・・・・洗浄槽、2・・・・・・有機溶剤、5・
・・・・・被洗浄物、7,8・・・・・・冷却装置。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 有機溶剤による洗浄を行うための洗浄槽の内部に被洗浄
    物を昇降自在に支持させ、被洗浄物の上下に該被洗浄物
    と連動して昇降自在に冷却装置を配設すると共に、これ
    らの冷却装置を、被洗浄物の任意の昇降位置において上
    下いずれかの冷却装置によって溶剤蒸気の拡散を防止可
    能な位置に取付けたことを特徴と区する洗浄装置。
JP4404680U 1980-04-03 1980-04-03 洗浄装置 Expired JPS6034396Y2 (ja)

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JP4404680U JPS6034396Y2 (ja) 1980-04-03 1980-04-03 洗浄装置

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JPS56146482U JPS56146482U (ja) 1981-11-05
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JP2014200726A (ja) * 2013-04-03 2014-10-27 小島産業株式会社 揮発性有機溶剤を使用した洗浄装置

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JPS56146482U (ja) 1981-11-05

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