JPS6032724A - 含酸素化合物の製造方法 - Google Patents
含酸素化合物の製造方法Info
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- JPS6032724A JPS6032724A JP58141089A JP14108983A JPS6032724A JP S6032724 A JPS6032724 A JP S6032724A JP 58141089 A JP58141089 A JP 58141089A JP 14108983 A JP14108983 A JP 14108983A JP S6032724 A JPS6032724 A JP S6032724A
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- catalyst
- reaction
- rhodium
- titanium
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ホウ素、オスミウム、亜鉛、カリウムおよびウラン（以
下、これらを助触媒元素ｉと称す）より成る群（以下、
助触媒元素解重と称す）から選ばれた少なくとも１種の
成分とから構成された触媒又は（イ）ロジウム、チタン
、（ロ）助触媒元素群Ｉから選ばれた少なくとも１種の
成分および（うジルコニウム、ランタンおよびセリウム
（以下、これらを助触媒元素■と称す）よシ成る群（以
下、助触媒元素群■と称す）から選らばれた少なくとも
１種の成分とから構成された触媒の存在下、−酸化炭素
および水素を含有する混合気体を反応場せることを特徴
とする含酸素化合物の製造方法に関する。
下、これらを助触媒元素ｉと称す）より成る群（以下、
助触媒元素解重と称す）から選ばれた少なくとも１種の
成分とから構成された触媒又は（イ）ロジウム、チタン
、（ロ）助触媒元素群Ｉから選ばれた少なくとも１種の
成分および（うジルコニウム、ランタンおよびセリウム
（以下、これらを助触媒元素■と称す）よシ成る群（以
下、助触媒元素群■と称す）から選らばれた少なくとも
１種の成分とから構成された触媒の存在下、−酸化炭素
および水素を含有する混合気体を反応場せることを特徴
とする含酸素化合物の製造方法に関する。
本発明方法において目的物とする含酸素化合物とけ、ア
ルコール、アルデヒド、脂肪酸およびそのエステル等を
意味する。更に詳しくは本釣方法によって製造されてき
た。しかし近年の原油の価格の高騰により、著しい製造
価格の上昇が起シ、原料転換の必要性が生じている。
ルコール、アルデヒド、脂肪酸およびそのエステル等を
意味する。更に詳しくは本釣方法によって製造されてき
た。しかし近年の原油の価格の高騰により、著しい製造
価格の上昇が起シ、原料転換の必要性が生じている。
豊富で且つ安価に入手可能な一酸化炭素および水素の混
合ガスよシ含酸素化合物を製造する方法として、ロジウ
ムおよび酸化チタンから成る触媒を用いる方法が知られ
ている（例えば特開昭５６−１４７７３０号公報）。
合ガスよシ含酸素化合物を製造する方法として、ロジウ
ムおよび酸化チタンから成る触媒を用いる方法が知られ
ている（例えば特開昭５６−１４７７３０号公報）。
しかし、この方法も未だ収率、選択性などの欠点を有し
ているのが現状である。
ているのが現状である。
以上述べた如く、−酸化炭素および水素を含有する気体
よ如、エテルアルコールを主成分とする含酸素化合物を
効率よく、経済性よく製造する方法は提供されていない
。
よ如、エテルアルコールを主成分とする含酸素化合物を
効率よく、経済性よく製造する方法は提供されていない
。
本発明者らは、従来法に代わる新たな方法を提供する目
的で鋭意検討を重ねた。その結果−コールを生成物とす
る含酸素化合物を高収率、高選択率で製造しうろことを
見出して本発明を完成した。本発明によシ提供される触
媒は、通常シリカなどの担体上に担持されて使用される
。
的で鋭意検討を重ねた。その結果−コールを生成物とす
る含酸素化合物を高収率、高選択率で製造しうろことを
見出して本発明を完成した。本発明によシ提供される触
媒は、通常シリカなどの担体上に担持されて使用される
。
従って本発明は混合ガスからエタノールを主成分とする
含酸素化合物を製造するための実用的な触媒を提供する
ことでもある。
含酸素化合物を製造するための実用的な触媒を提供する
ことでもある。
以下に本発明の詳細な説明する。
本発明において用いられる触媒は前述の如く（イ）ロジ
ウム、チタンおよび（ロ）助触媒元素群■より選択され
た少なくとも１種の成分を主たる構成成分とするか、あ
るいは（イ）ロジウム、チタン、（ロ）助触媒元素群！
より選択された１種以上の成分および（ハ）助触媒元素
群■より選択された１種以上の成分を主たる構成要素と
する。実質的には通常貴金属触媒において行われる如く
、担体上に上記、（イ）及び（ロ）又は（イ）、（ロ）
及びｅつを分散さならびに（ロ）助触媒元素群■および
■の触媒調製のための原料化合物としては、酸化物、塩
化物、硝酸塩、炭酸塩等の無機塩、酢酸塩、シュウ酸は
キレート化物、カルボニル化合物、シクロペンタジェニ
ル化合物、アンミン錯体、金網アルコキシド化合物、ア
ルキル金属化合物等通常貴金属触媒を調製する際に用い
られる化合物を使用することができる。
ウム、チタンおよび（ロ）助触媒元素群■より選択され
た少なくとも１種の成分を主たる構成成分とするか、あ
るいは（イ）ロジウム、チタン、（ロ）助触媒元素群！
より選択された１種以上の成分および（ハ）助触媒元素
群■より選択された１種以上の成分を主たる構成要素と
する。実質的には通常貴金属触媒において行われる如く
、担体上に上記、（イ）及び（ロ）又は（イ）、（ロ）
及びｅつを分散さならびに（ロ）助触媒元素群■および
■の触媒調製のための原料化合物としては、酸化物、塩
化物、硝酸塩、炭酸塩等の無機塩、酢酸塩、シュウ酸は
キレート化物、カルボニル化合物、シクロペンタジェニ
ル化合物、アンミン錯体、金網アルコキシド化合物、ア
ルキル金属化合物等通常貴金属触媒を調製する際に用い
られる化合物を使用することができる。
以下に含浸法に例をとシ触媒の調製法を説明する。
上記の金属化合物を水、メチルアルコール、エテルアル
コール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ノルマルヘ
キサン、ベンゼン、トルエン等の醇媒に溶解し、その溶
液に０９の担体を加え浸漬し、溶媒を留去、乾燥し、必
要とあれば分もしくけさらに助触媒元素群「よシ選択さ
れた１種以上の成分を含む原料化合物を同−醇媒その他
の調製法、例えば担体のイオン交換能を利用したイオン
交換によって構成成分を担持する方法、共沈法によって
触媒を調製する方法なども本発明方法に用いられる触媒
の調製手法として採用できる。
コール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ノルマルヘ
キサン、ベンゼン、トルエン等の醇媒に溶解し、その溶
液に０９の担体を加え浸漬し、溶媒を留去、乾燥し、必
要とあれば分もしくけさらに助触媒元素群「よシ選択さ
れた１種以上の成分を含む原料化合物を同−醇媒その他
の調製法、例えば担体のイオン交換能を利用したイオン
交換によって構成成分を担持する方法、共沈法によって
触媒を調製する方法なども本発明方法に用いられる触媒
の調製手法として採用できる。
上述の手法によって調製された触媒は通常還元処理を行
うことによシ活性化し次いで反応に供せられる。還元を
行うには水素を含有する気体により昇温下で行うことが
簡便であって好ましい。この際還元温度として、ロジウ
ムの還元される温度、即ち１００’Ｃ程度・温度条件下
でも還元処理ができるのであるが、好ましくは２００℃
〜６００℃の温度下で還元処理を行なう。この際触媒の
各成分の分散を十分に行なわせる目的で低温よシ徐々に
、あるいは段階的に昇温しながら水素還元を行なっても
よい。またＡ０以上を有するものであれば通常担体とし
て知られているものを使用することができる。具体的な
担体としては、シリカ、シリカゲル、アルミナ、活性炭
、ケイソウ土、酸化チタンより選ばれる担体などである
が、シリカ系の担体が好ましい。
うことによシ活性化し次いで反応に供せられる。還元を
行うには水素を含有する気体により昇温下で行うことが
簡便であって好ましい。この際還元温度として、ロジウ
ムの還元される温度、即ち１００’Ｃ程度・温度条件下
でも還元処理ができるのであるが、好ましくは２００℃
〜６００℃の温度下で還元処理を行なう。この際触媒の
各成分の分散を十分に行なわせる目的で低温よシ徐々に
、あるいは段階的に昇温しながら水素還元を行なっても
よい。またＡ０以上を有するものであれば通常担体とし
て知られているものを使用することができる。具体的な
担体としては、シリカ、シリカゲル、アルミナ、活性炭
、ケイソウ土、酸化チタンより選ばれる担体などである
が、シリカ系の担体が好ましい。
（イ）ロジウムとＧ＝ｅ担体に対する比率は、担体の比
表面積を考慮して重量比で［ＬＯＯＯ１〜０．５好まし
くはＱ、００１〜α３である。
表面積を考慮して重量比で［ＬＯＯＯ１〜０．５好まし
くはＱ、００１〜α３である。
ロジウムとチタンの比率は原子比でチタン／ロジウムが
ＣＬ００１〜１０、好ましくは［ＬＯ１〜５、鉄／ロジ
ウムの比率＃′ｉ原子比でα００１〜３、好ましくはα
０１〜１である。さらにロジウムと（ロ）助触媒元素群
中から選択された１種または１種以上の元素の比率は助
触媒元素／ロジヮムが原子比で［１００１〜３、好まし
くはまた、本発明は流動床式の反応装置にも適用できる
。すなわち原料ガスと流動化した触媒を同伴させて反応
を行なわせることもできる。さらには本発明は溶媒中に
触媒を分散させ、原料ガスを送入し反応を行なうことか
らなる液相不均一反応にも適用できる。
ＣＬ００１〜１０、好ましくは［ＬＯ１〜５、鉄／ロジ
ウムの比率＃′ｉ原子比でα００１〜３、好ましくはα
０１〜１である。さらにロジウムと（ロ）助触媒元素群
中から選択された１種または１種以上の元素の比率は助
触媒元素／ロジヮムが原子比で［１００１〜３、好まし
くはまた、本発明は流動床式の反応装置にも適用できる
。すなわち原料ガスと流動化した触媒を同伴させて反応
を行なわせることもできる。さらには本発明は溶媒中に
触媒を分散させ、原料ガスを送入し反応を行なうことか
らなる液相不均一反応にも適用できる。
本発明方法を実施するに際して採用される条件は、エチ
ルアルコールを主成分とする含酸素化合物を高収率・高
選択率で製造することを目的として種々の反応条件の因
子を有機的に組合せて選択される。反応圧力は、常圧（
すなわちＯｋｇ／ｃｒｎ２ゲージ）でも当該目的化合物
を高選択率・高収率で製造できるのであるが、空時収率
を高める目的で加圧下において反応を行なうことができ
る。従って反応圧力としてはＯｋｌ／ｃｔｎ２ゲージ〜
５５０ ｋｇ、７ｃｍ２ゲージ好ましくはＯｋ＆／状態
（０℃、１気圧）換算で１０１１”〜１０６ｈ−重の範
囲よシ、反応圧力と反応温度、原料ガス組成との関係よ
り適宜選択される。
ルアルコールを主成分とする含酸素化合物を高収率・高
選択率で製造することを目的として種々の反応条件の因
子を有機的に組合せて選択される。反応圧力は、常圧（
すなわちＯｋｇ／ｃｒｎ２ゲージ）でも当該目的化合物
を高選択率・高収率で製造できるのであるが、空時収率
を高める目的で加圧下において反応を行なうことができ
る。従って反応圧力としてはＯｋｌ／ｃｔｎ２ゲージ〜
５５０ ｋｇ、７ｃｍ２ゲージ好ましくはＯｋ＆／状態
（０℃、１気圧）換算で１０１１”〜１０６ｈ−重の範
囲よシ、反応圧力と反応温度、原料ガス組成との関係よ
り適宜選択される。
当該原料ガスの組成は、主として−酸化炭素炭化水素や
炭酸ガスや水を含有していてもよい。
炭酸ガスや水を含有していてもよい。
−酸化炭素と水素の混合比率はＯＯ／ Ｈｚ 比でα１
〜１０、好ましくは０２５〜５（容積比）である。
〜１０、好ましくは０２５〜５（容積比）である。
以下実施例によって本発明をさらに詳細に説明する。
実施例１
（イ）ロジクムーテタンー鉄／シリカ触媒の調製塩化ロ
ジウム（ＲｈＯｔｓ・３Ｈ２０） １．２ ｆ （４，
５６ｍｍｏｔ）、 四塩化チタン（Ｔ１０ｔ４）０．８
６ｆｆｉ３００℃に２時間焼成した１０〜２４メツシユ
のＤａｖｉｓｏｎす５７シリカゲル１０ｆを加え浸漬し
た。次いでロータリーエバポレーターを用い、溶媒を留
去し、乾固したのち、嘔ら反応装置のチタン製反応管（
内径１４ｍ、長さ約４８０■）に充てんした。最初に３
００℃で１時間水素気流下で再還元したのち、−酸化炭
素及び水素の混合ガスを流し、所定の温度、圧力、ＳＶ
（空間速度）の条件下で反応を行った。
ジウム（ＲｈＯｔｓ・３Ｈ２０） １．２ ｆ （４，
５６ｍｍｏｔ）、 四塩化チタン（Ｔ１０ｔ４）０．８
６ｆｆｉ３００℃に２時間焼成した１０〜２４メツシユ
のＤａｖｉｓｏｎす５７シリカゲル１０ｆを加え浸漬し
た。次いでロータリーエバポレーターを用い、溶媒を留
去し、乾固したのち、嘔ら反応装置のチタン製反応管（
内径１４ｍ、長さ約４８０■）に充てんした。最初に３
００℃で１時間水素気流下で再還元したのち、−酸化炭
素及び水素の混合ガスを流し、所定の温度、圧力、ＳＶ
（空間速度）の条件下で反応を行った。
生成物中の高沸点の有機化合物は水ＶＣ，ｌ解して捕集
してガスクロマトグラフ（クロモンルブ１０１充てん剤
）で分析し、炭化水素は出口気体をそのままガスクロマ
トグラフ（ＤＭＦ−アルミナ、活性炭光てん剤）で分析
し生成物の分布をめた。結果を第１表に示した１、 実施例２ （イ）ロジウム−チタン−イリジウム／シリカ触媒の調
製 （ロ）反 応 実施例１と同様の方法及び装置で触媒の活性試験を行っ
た。結果を第１表に示した。
してガスクロマトグラフ（クロモンルブ１０１充てん剤
）で分析し、炭化水素は出口気体をそのままガスクロマ
トグラフ（ＤＭＦ−アルミナ、活性炭光てん剤）で分析
し生成物の分布をめた。結果を第１表に示した１、 実施例２ （イ）ロジウム−チタン−イリジウム／シリカ触媒の調
製 （ロ）反 応 実施例１と同様の方法及び装置で触媒の活性試験を行っ
た。結果を第１表に示した。
実施例３
（イ）ロジウム−チタン−ルテニウム／シリカ触媒塩化
ロジウム（Ｒｂａｔ、・３Ｈ２０） １．２ ｖ （４
，５６ｍｍｏｔ）、四塩化チタン（Ｔｌｏｔ、 ） α
８６ Ｆ（４，５６ｍｍｏｔ）、塩化ルテニウＡ （Ｒ
ｕ０ｔ３）（１０９５ｆ （［１４５６ｍｍｏｔ） 及
び実施例１で用いたシリカゲル１０ｆよル実施例１と同
様の方法で触媒調製と還元を行った。
ロジウム（Ｒｂａｔ、・３Ｈ２０） １．２ ｖ （４
，５６ｍｍｏｔ）、四塩化チタン（Ｔｌｏｔ、 ） α
８６ Ｆ（４，５６ｍｍｏｔ）、塩化ルテニウＡ （Ｒ
ｕ０ｔ３）（１０９５ｆ （［１４５６ｍｍｏｔ） 及
び実施例１で用いたシリカゲル１０ｆよル実施例１と同
様の方法で触媒調製と還元を行った。
（ロ）反 応
実施例１と同様の方法及び装置で触媒の活性試験を行っ
た。結果を第１表に示した。
た。結果を第１表に示した。
実施例４
（イ）ロジウム−チタン−カドミウム／シリカ触媒：、
：！慴ｏＬ ） 及び実施例１で用いたシリカゲル１
；□５．αＯｆより実施例１と同様の方法で触媒調実
施例５ （イ）ロジウム−チタン−モリブデン／シリカ触媒の調
製 塩化ロジウム（ａｈｏ４・３馬０ ） １．２ ｔ（４
，５６ｍｍｏＬ ）、四塩化チタン（Ｔｉ０ｔ４）ＣＬ
８６ ｔ （４，５６ｍｍｏｔ ）、塩化モリブデン
（ＭｏＣｌ３）Ｉ１１２ｆ（α４ ｓ ６ ｒｎｍｏｔ
） 及び実施例１で用いたシリカゲル１αＯｆを用い
て実施例１の方法に従い触媒を調製し還元を行った。
：！慴ｏＬ ） 及び実施例１で用いたシリカゲル１
；□５．αＯｆより実施例１と同様の方法で触媒調実
施例５ （イ）ロジウム−チタン−モリブデン／シリカ触媒の調
製 塩化ロジウム（ａｈｏ４・３馬０ ） １．２ ｔ（４
，５６ｍｍｏＬ ）、四塩化チタン（Ｔｉ０ｔ４）ＣＬ
８６ ｔ （４，５６ｍｍｏｔ ）、塩化モリブデン
（ＭｏＣｌ３）Ｉ１１２ｆ（α４ ｓ ６ ｒｎｍｏｔ
） 及び実施例１で用いたシリカゲル１αＯｆを用い
て実施例１の方法に従い触媒を調製し還元を行った。
（ロ）反 応
実施例１と同じ装置によシ同様の操作で触媒の活性試験
を行った。結果を第１表に示した。
を行った。結果を第１表に示した。
び実施例１で用いたシリカゲルＩＱ、Ｏｆを用いて、チ
タンとコバルトの添加量をかえて触媒を調製した。調製
法及び還元法は実施例１実施例１と同じ装置により同様
の操作で触媒の活性試験を行った。結果を第２表に示し
た。
タンとコバルトの添加量をかえて触媒を調製した。調製
法及び還元法は実施例１実施例１と同じ装置により同様
の操作で触媒の活性試験を行った。結果を第２表に示し
た。
比較例１
（イ）ロジウム−チタン／シリカ触媒の調製塩化ロジウ
Ａ （Ｒｈ０ｔ、−３迅０ ） １．２ ｆ （４，５
６ｍｍｏｔ）、四塩化チタン（Ｔ’１０ｔ４） ０．８
６ ｒ（４，５６ｍｍｏｔ） をエタノール６０ｍ１に
溶解し、２８０℃で真空下加熱処理したシリカゲル（Ｄ
ａｖｉｓｏｎす５７８〜２５メツシユ）１０ｆを加え浸
漬した。溶媒をロータリーエバボレ（ロ）反 応 （イ）で調製した触媒５−（約２９）を用いて、実施例
１の方法に従い、同じ装置によって反（４，５６ｍｍｏ
ｊ ）、四塩化チタン（Ｔｉｏｋ４ ）［１８６ｔ （
４，５Ｉｓ ｍｍｏＡ ）、塩化第１鉄（Ｆ’ｅＯｔ、
−６Ｈ，Ｏ） ［Ｌ５ ７ Ｆ （１，５７ｍｍｏｔ）
及び四塩化イリジウム（工ｒ Ｏ１４・Ｈ２Ｏ）α１６
ｙ （［Ｌａ ｓ ｂ ｍｍｏｔ） をエタノールに溶
解した酢液に実施例１で用いたと同じ処理を行ったシリ
カゲル（Ｄａｖｉｓｏｎφ５７ ） １０ ｔを加え浸
漬した。実施例１と同様の方法によって触媒を調製し、
水素還元した。
Ａ （Ｒｈ０ｔ、−３迅０ ） １．２ ｆ （４，５
６ｍｍｏｔ）、四塩化チタン（Ｔ’１０ｔ４） ０．８
６ ｒ（４，５６ｍｍｏｔ） をエタノール６０ｍ１に
溶解し、２８０℃で真空下加熱処理したシリカゲル（Ｄ
ａｖｉｓｏｎす５７８〜２５メツシユ）１０ｆを加え浸
漬した。溶媒をロータリーエバボレ（ロ）反 応 （イ）で調製した触媒５−（約２９）を用いて、実施例
１の方法に従い、同じ装置によって反（４，５６ｍｍｏ
ｊ ）、四塩化チタン（Ｔｉｏｋ４ ）［１８６ｔ （
４，５Ｉｓ ｍｍｏＡ ）、塩化第１鉄（Ｆ’ｅＯｔ、
−６Ｈ，Ｏ） ［Ｌ５ ７ Ｆ （１，５７ｍｍｏｔ）
及び四塩化イリジウム（工ｒ Ｏ１４・Ｈ２Ｏ）α１６
ｙ （［Ｌａ ｓ ｂ ｍｍｏｔ） をエタノールに溶
解した酢液に実施例１で用いたと同じ処理を行ったシリ
カゲル（Ｄａｖｉｓｏｎφ５７ ） １０ ｔを加え浸
漬した。実施例１と同様の方法によって触媒を調製し、
水素還元した。
（ロ）反 応
０）項で得られた触媒を５ｍ（２，０８ｆ）を担体シリ
カゲル５−で希釈し、実施例１で用いた反応装置に充填
し、実施例１で行った方法によって触媒の活性試験を行
った。結果を第３表に示した。
カゲル５−で希釈し、実施例１で用いた反応装置に充填
し、実施例１で行った方法によって触媒の活性試験を行
った。結果を第３表に示した。
実施例１１〜１４
使用したものと同様のシリカゲル１ｏｔｖｃ担持した。
相持方法、及び還元の方法は実施例１と同様の操作で行
った。
った。
（ロ）反 応
（イ）項で得られた触媒各５−（約２ｆ）を担体シリカ
ゲル５−で希釈し、実施例１で用いた反応装置に充填し
、実施例１と同じ操作で触媒の活性試験を行った。触媒
の元素組成及び活性試験の結果を第３表に示した。
ゲル５−で希釈し、実施例１で用いた反応装置に充填し
、実施例１と同じ操作で触媒の活性試験を行った。触媒
の元素組成及び活性試験の結果を第３表に示した。
実施例１５
（イ）ロジウム−チタン−鉄−オスミウム／シリカ触媒
の調製 塩化ｏジウＡ （Ｒｈ０１３−５Ｆｉ！０） ０．６
？（２，２８ｍｍｏｔ）、 四塩化チタン（Ｔｉａｔ４
）ａ ４５ ｆ （１２８ｍｍｏｔ）、塩化第２鉄（Ｉ
ＦｓＯ／！４−６ｎ、ｏ）ａｌａｓｒ（α６８ ｎ＋ｍ
ｏＡ ） 及び、の活性試験を行った。結果を第４表に
示した。
の調製 塩化ｏジウＡ （Ｒｈ０１３−５Ｆｉ！０） ０．６
？（２，２８ｍｍｏｔ）、 四塩化チタン（Ｔｉａｔ４
）ａ ４５ ｆ （１２８ｍｍｏｔ）、塩化第２鉄（Ｉ
ＦｓＯ／！４−６ｎ、ｏ）ａｌａｓｒ（α６８ ｎ＋ｍ
ｏＡ ） 及び、の活性試験を行った。結果を第４表に
示した。
実施例１６
（イ）ロジウム−チタン−鉄−カリウム／シリカ触媒の
調製 塩化ロジウム（Ｒｈ０ｔｉ・５Ｈ２０）０．６ｆ（２，
２８ｍｍｏｔ）、四塩化テタ７ （ＴｉＯ４）α４３
ｆ （２，２７ｍｍｏｔ）、塩化第■鉄（Ｆｅ０４３・
６Ｈ２０） Ｉｌ １８５ ｔ （（１，６８ｍＺＩｌ
ｏｔ）をエタノール溶液とし、実施例１と同様の処理を
行ったシリカゲル（Ｄａｖｉｓｏｎす５７ ） ５９を
加え担持した。この触媒を実施例１と同様の方法で水素
還元処理を行い、次いで炭酸カリウＡ （Ｋ２Ｏ０ｓ
） ｏ、 ｏ １３ ｔ （ｏ、 ｏ ｑ １ｍｍｏｔ
）のエタノール牌液中に加えて浸漬し、ｍ媒を留去し、
乾固したのち乾燥してカリウム／ロジウム−チタン−鉄
／シリカ触媒を調製した。
調製 塩化ロジウム（Ｒｈ０ｔｉ・５Ｈ２０）０．６ｆ（２，
２８ｍｍｏｔ）、四塩化テタ７ （ＴｉＯ４）α４３
ｆ （２，２７ｍｍｏｔ）、塩化第■鉄（Ｆｅ０４３・
６Ｈ２０） Ｉｌ １８５ ｔ （（１，６８ｍＺＩｌ
ｏｔ）をエタノール溶液とし、実施例１と同様の処理を
行ったシリカゲル（Ｄａｖｉｓｏｎす５７ ） ５９を
加え担持した。この触媒を実施例１と同様の方法で水素
還元処理を行い、次いで炭酸カリウＡ （Ｋ２Ｏ０ｓ
） ｏ、 ｏ １３ ｔ （ｏ、 ｏ ｑ １ｍｍｏｔ
）のエタノール牌液中に加えて浸漬し、ｍ媒を留去し、
乾固したのち乾燥してカリウム／ロジウム−チタン−鉄
／シリカ触媒を調製した。
（４，５６ｍｍｏｔ）、 四塩化チタン（Ｔｉ０Ｚ４
）α８６ ｆ （４，５５ｍｍｏｔ）、塩化第■鉄（Ｆ
ｅ０ｔ３ｅ６Ｈ２０） ０．３７ ｆ （１，３７ｍｍ
ｏＬ ）、塩化亜鉛（ｚｎｏ４ ） （Ｌ ０３１ｔ
（ａ ２３ｍｍｏｌ）をエタノールに溶解し、実施例１
と同様の前処理したシリカゲル（Ｄａｖｉｓｏｎす５７
） １０ ｔを加え、実施例１と同様の方法によシ触
媒を調製し、実施例１と同様の方法に従って水素還元を
行い活性化した。
）α８６ ｆ （４，５５ｍｍｏｔ）、塩化第■鉄（Ｆ
ｅ０ｔ３ｅ６Ｈ２０） ０．３７ ｆ （１，３７ｍｍ
ｏＬ ）、塩化亜鉛（ｚｎｏ４ ） （Ｌ ０３１ｔ
（ａ ２３ｍｍｏｌ）をエタノールに溶解し、実施例１
と同様の前処理したシリカゲル（Ｄａｖｉｓｏｎす５７
） １０ ｔを加え、実施例１と同様の方法によシ触
媒を調製し、実施例１と同様の方法に従って水素還元を
行い活性化した。
（ロ）反 応
実施例１と同様の方法に従い、活性試験を行った。結果
を第４表に示した。
を第４表に示した。
実施例１８
（イ）ロジウム−チタン−コバルト−イリジウム／シリ
カ触媒の調製 塩化ロジウＡ （ｎｂａｔ３−ｓ馬０）［１６Ｆ験を行
った。結果を第４表に示した。
カ触媒の調製 塩化ロジウＡ （ｎｂａｔ３−ｓ馬０）［１６Ｆ験を行
った。結果を第４表に示した。
実施例１９
（イ）ロジウムーテタンーモリブデンーリテクム／シリ
カ触媒の調製 塩化ロジウム（ｕｈｏｚ３・３Ｈ２０） １．２ ｆ（
４５６ｍｍｏＡ ）、 四塩化チタン（ＴｉＯ４）α８
６ ｆ （４，５４ｍｍｏｔ）、塩化リチウム（Ｌｌａ
ｔ−ａｇｏ ）α０２８ｆ（α４５６ ｍｍｏｔ）、塩
化モリブデン（ＭＯＯ／４） （Ｌ １２ ｆ （α４
５６ｍｍｏｔ） 及び実施例１で用いたシリカゲル１０
ｔを用いて実施例１の方法に従い触媒の調製、還元を行
った。
カ触媒の調製 塩化ロジウム（ｕｈｏｚ３・３Ｈ２０） １．２ ｆ（
４５６ｍｍｏＡ ）、 四塩化チタン（ＴｉＯ４）α８
６ ｆ （４，５４ｍｍｏｔ）、塩化リチウム（Ｌｌａ
ｔ−ａｇｏ ）α０２８ｆ（α４５６ ｍｍｏｔ）、塩
化モリブデン（ＭＯＯ／４） （Ｌ １２ ｆ （α４
５６ｍｍｏｔ） 及び実施例１で用いたシリカゲル１０
ｔを用いて実施例１の方法に従い触媒の調製、還元を行
った。
（ロ）反 応
実施例１の方法に従い、実施例１と同じ装塩化イリジウ
ム（工ｒ０１４ ・Ｈ２Ｏ） （Ｌ ４０ ｆ（ｔ１４
ｍｍｏｔ）、塩化セリウム（ＯｅＱｔ３・７Ｈ，０）α
１７ ｔ （ＣＬ ４４ ｍｍｏＬ ） をエタノール
４０ｔｎｔに溶解し、この溶液と実施例１と同様に前処
理したシリカゲル５ｆから実施例１と同様の方法で触媒
を調製した。還元方法も実施例１の方法に従った。
ム（工ｒ０１４ ・Ｈ２Ｏ） （Ｌ ４０ ｆ（ｔ１４
ｍｍｏｔ）、塩化セリウム（ＯｅＱｔ３・７Ｈ，０）α
１７ ｔ （ＣＬ ４４ ｍｍｏＬ ） をエタノール
４０ｔｎｔに溶解し、この溶液と実施例１と同様に前処
理したシリカゲル５ｆから実施例１と同様の方法で触媒
を調製した。還元方法も実施例１の方法に従った。
（ロ）反 応
実施例１の方法に従い反応を行い触媒の活性試験を行っ
た。結果を第４表に示した。
た。結果を第４表に示した。
実施例２１
（イ）ロジウム−チタン−鉄−イリジウム−ランタン／
シリカ触媒の調製 塩化ロジウム（Ｒｈ０６．−３Ｈ露０）α６０ｆ（１２
７ｍｍｏｔ）、四塩化チタン（ＴｉＯ４）（１４５ｆ
（２，２７ｍｍｏｔ）、塩化第■鉄、リカゲル５ｔから
実施例１と同様の方法で調、ｉ 、製し、還元した。
シリカ触媒の調製 塩化ロジウム（Ｒｈ０６．−３Ｈ露０）α６０ｆ（１２
７ｍｍｏｔ）、四塩化チタン（ＴｉＯ４）（１４５ｆ
（２，２７ｍｍｏｔ）、塩化第■鉄、リカゲル５ｔから
実施例１と同様の方法で調、ｉ 、製し、還元した。
実施例２２
（イ）ロジウム−チタン−鉄−イリジウム−ジルコニウ
ム／シリカ触媒の調製 塩化ロジウム（Ｒｈ０６３・３Ｈ２０）α６ｆ（２，２
ｙ ｍｍｏｔ）、 四塩化チタン（ＴｉＯ４）α４５
ｔ （２，２７ｍｍｏｔ）、塩化第■鉄（ＩＰｅａｔ３
−６ｎ、ｏ ）α１８ Ｓ ｆ’（１１６８ｍｍｏＡ）
、塩化イリジウム（工ｒ０４Ｈ２０）α４０ｆ（１，１
４ｍｍｏｚ ）、 四塩化ジルコニウム（Ｚｒ０４）
０．１１ ？ （α４６ ｍｍｏｔ）、 及び実施例１
と同様の方法で前処理したシリカゲル５ｔから実施例１
と同様の方法で調製、還元を行った。
ム／シリカ触媒の調製 塩化ロジウム（Ｒｈ０６３・３Ｈ２０）α６ｆ（２，２
ｙ ｍｍｏｔ）、 四塩化チタン（ＴｉＯ４）α４５
ｔ （２，２７ｍｍｏｔ）、塩化第■鉄（ＩＰｅａｔ３
−６ｎ、ｏ ）α１８ Ｓ ｆ’（１１６８ｍｍｏＡ）
、塩化イリジウム（工ｒ０４Ｈ２０）α４０ｆ（１，１
４ｍｍｏｚ ）、 四塩化ジルコニウム（Ｚｒ０４）
０．１１ ？ （α４６ ｍｍｏｔ）、 及び実施例１
と同様の方法で前処理したシリカゲル５ｔから実施例１
と同様の方法で調製、還元を行った。
（ロ）実施例１の方法に従って反応を行い、触媒の活性
試験を行った。結果を第４表に示した。
試験を行った。結果を第４表に示した。
実施例２３
ｍｍｏｔ） 及び実施例１と同様の方法で前処理したシ
リカゲル５ｆから実施例１と同様の方法で触媒を調製し
、還元した。
リカゲル５ｆから実施例１と同様の方法で触媒を調製し
、還元した。
（ロ）反 応
実施例１と同様の方法、装置によって反応を行い、触媒
の活性試験を行った。結果を第４表に示した。
の活性試験を行った。結果を第４表に示した。
実施例２４
（イ）ロジウム−チタン−鉄−イリジウム−リチウム−
ホウ素／シリカ触媒の調製 塩化ロジウム（Ｒｈ０１ｓ・ＡＨｌｏ ） １．２ ｆ
（４，５６ｍｍｏＬ ）、四塩化チタン（ＴｉＯ／４
） ａ８６ ｆ（ａ、ｓ ６ｍｍｏｔ）、 四塩化イリ
ジウム（工ｒｏｔ４・■、０）住８０ ｆ （２，２８
ｍｍｏｔ ）、 リチウムボロンハイドライド（ＬｉＢ
Ｈｎ） ０．０１ ｏ ｒ（α４５４ ｒｎｍｏｔ ）
及び実施例１と同様の方法で前処理したシリカゲル１
０９から実施例（イ）ロジウム−チタン−鉄−イリジウ
ム−リチウム／シリカ触媒のｖ４製 塩化ロジウム（Ｒｈａｔ３・ＡＨ，Ｏ） ０．６ Ｏｆ
（２，２８ｍｎ＋ｏｔ）、 四塩化チタン（Ｔ１ｏ４）
Ｅｌ ４３ ｔ （２，２８ｍｍｏｔ）、 四塩化イリ
ジウム（工ｐａｔ４・Ｈ！Ｉｏ ）α４０ ｔ （１，
１４ｍｍｏｔ）をエタノールに爵解し、それに実施例１
と同様に前処理したシリカゲル（ＤａｖｉθＯｎす５７
）５ｖを加え、実施例１と同様な方法で浸漬、担持し、
還元を行った。この触媒をリチウムエトキシド（Ｌｉｏ
Ｉｉ＋ｔ ）α０１２ｆ（（１２３ｒｎ’ｍｏＬ ）
をエタノール３０ｍに爵解した溶液ニ加工、ロータリー
エバポレーターで溶媒を留去して担持した。
ホウ素／シリカ触媒の調製 塩化ロジウム（Ｒｈ０１ｓ・ＡＨｌｏ ） １．２ ｆ
（４，５６ｍｍｏＬ ）、四塩化チタン（ＴｉＯ／４
） ａ８６ ｆ（ａ、ｓ ６ｍｍｏｔ）、 四塩化イリ
ジウム（工ｒｏｔ４・■、０）住８０ ｆ （２，２８
ｍｍｏｔ ）、 リチウムボロンハイドライド（ＬｉＢ
Ｈｎ） ０．０１ ｏ ｒ（α４５４ ｒｎｍｏｔ ）
及び実施例１と同様の方法で前処理したシリカゲル１
０９から実施例（イ）ロジウム−チタン−鉄−イリジウ
ム−リチウム／シリカ触媒のｖ４製 塩化ロジウム（Ｒｈａｔ３・ＡＨ，Ｏ） ０．６ Ｏｆ
（２，２８ｍｎ＋ｏｔ）、 四塩化チタン（Ｔ１ｏ４）
Ｅｌ ４３ ｔ （２，２８ｍｍｏｔ）、 四塩化イリ
ジウム（工ｐａｔ４・Ｈ！Ｉｏ ）α４０ ｔ （１，
１４ｍｍｏｔ）をエタノールに爵解し、それに実施例１
と同様に前処理したシリカゲル（ＤａｖｉθＯｎす５７
）５ｖを加え、実施例１と同様な方法で浸漬、担持し、
還元を行った。この触媒をリチウムエトキシド（Ｌｉｏ
Ｉｉ＋ｔ ）α０１２ｆ（（１２３ｒｎ’ｍｏＬ ）
をエタノール３０ｍに爵解した溶液ニ加工、ロータリー
エバポレーターで溶媒を留去して担持した。
（ロ）反 応
実施例１と同様の方法、装置によって反応を行い、触媒
の活性試験を行った。結果を第１２４− 特開昭ＧＯ−３２７２４（９） る ゐ 知 知 ブタノールの合計 １２） ＳＴＹ ： （空時収率） 使用した触媒（ｔ） １３） 消費され反応した一酸化炭素二 Ｍθ０Ｈ４）
、 ＡａＨ。
の活性試験を行った。結果を第１２４− 特開昭ＧＯ−３２７２４（９） る ゐ 知 知 ブタノールの合計 １２） ＳＴＹ ： （空時収率） 使用した触媒（ｔ） １３） 消費され反応した一酸化炭素二 Ｍθ０Ｈ４）
、 ＡａＨ。
６）１）
ＢｔＯＨ、ＡａＯＨ、ノルマルプロパツール、ノルマル
７’ ｐ ／−に、ＣＨ４、０２Ｈ４、０２Ｈ＠ 、
０３Ｈ６、０３ＨＢ 。
７’ ｐ ／−に、ＣＨ４、０２Ｈ４、０２Ｈ＠ 、
０３Ｈ６、０３ＨＢ 。
Ｃ４Ｈｌ ｒ ０４ Ｈｌｏ ＃ ００１ を生成する
ために消費された一酸化炭素のモル数 １４） 生成した特定の生成物： ＦｉｔＯＨ’または
。、−ｏ竺ｃ−０１１） −１２６＝
ために消費された一酸化炭素のモル数 １４） 生成した特定の生成物： ＦｉｔＯＨ’または
。、−ｏ竺ｃ−０１１） −１２６＝
Claims (1)
- （１） （イ） ロジウム、チタンおよび（ロ） 鉄、
イリジウム、モリブデン、カドミウム、コバルト、リチ
クム、ルテニウム、クロム、ホウ素、オスミウム、亜鉛
、カリウムおよびウランより成る群から選ばれた少なく
とも１種の成分とから構成された触媒の存在下、−酸化
炭素および水素を含有する混合気体を反応させるこミウ
ム、亜鉛、カリウムおよびウランよシ成る群から選ばれ
た少なくとも１種の成分およびｅう ジルコニウム、ラ
ンタンおよびセリウムよシ成る群から選らばれた少なく
とも１種の成分とから構成された触媒の存在下、−酸化
炭素および水素を含有する混合気体を反応
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58141089A JPS6032724A (ja) | 1983-08-03 | 1983-08-03 | 含酸素化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58141089A JPS6032724A (ja) | 1983-08-03 | 1983-08-03 | 含酸素化合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6032724A true JPS6032724A (ja) | 1985-02-19 |
| JPS6119608B2 JPS6119608B2 (ja) | 1986-05-17 |
Family
ID=15283943
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58141089A Granted JPS6032724A (ja) | 1983-08-03 | 1983-08-03 | 含酸素化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6032724A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6124525A (ja) * | 1984-07-11 | 1986-02-03 | Toyo Eng Corp | 脂肪族一価中級アルコールの製法 |
| JPS6333342A (ja) * | 1986-07-29 | 1988-02-13 | Agency Of Ind Science & Technol | 合成ガスからのエチレンの製造法 |
| US4758600A (en) * | 1985-02-02 | 1988-07-19 | Agency Of Industrial Science And Technology | Process for the manufacture of ethanol |
| US5672743A (en) * | 1993-09-10 | 1997-09-30 | Bp Chemicals Limited | Process for the production of acetic acid |
-
1983
- 1983-08-03 JP JP58141089A patent/JPS6032724A/ja active Granted
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6124525A (ja) * | 1984-07-11 | 1986-02-03 | Toyo Eng Corp | 脂肪族一価中級アルコールの製法 |
| JPH0410455B2 (ja) * | 1984-07-11 | 1992-02-25 | ||
| US4758600A (en) * | 1985-02-02 | 1988-07-19 | Agency Of Industrial Science And Technology | Process for the manufacture of ethanol |
| JPS6333342A (ja) * | 1986-07-29 | 1988-02-13 | Agency Of Ind Science & Technol | 合成ガスからのエチレンの製造法 |
| US5672743A (en) * | 1993-09-10 | 1997-09-30 | Bp Chemicals Limited | Process for the production of acetic acid |
| US5942460A (en) * | 1993-09-10 | 1999-08-24 | Bp Chemicals Limited | Catalyst system |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6119608B2 (ja) | 1986-05-17 |
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