JPS6031838B2 - 2−アルコキシ−セフアロスポリンの製法 - Google Patents
2−アルコキシ−セフアロスポリンの製法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/02—Preparation
- C07D501/04—Preparation from compounds already containing the ring or condensed ring systems, e.g. by dehydrogenation of the ring, by introduction, elimination or modification of substituents
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
- A61P31/04—Antibacterial agents
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
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Landscapes
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はセフアロスポリンまたは2−メチル−セフアロ
スポリンを相当する2ーアルコキシーセファロスポリン
に変換させる方法に関するものであり、その方法はセフ
アロスポリンまたは2ーメチルーセフアロスポリンをC
,〜C4アルコールの存在下で、陽性ハロゲン源である
試薬と反応させることからなるものである。
スポリンを相当する2ーアルコキシーセファロスポリン
に変換させる方法に関するものであり、その方法はセフ
アロスポリンまたは2ーメチルーセフアロスポリンをC
,〜C4アルコールの存在下で、陽性ハロゲン源である
試薬と反応させることからなるものである。
より具体的には、本発明は、一般式1:
のセフアロスポリン化合物をC,〜C4アルカノールの
存在下で、陽性ハロゲン源である試薬と反応させて一般
式ロ:〔上記の各式において、 Rは&Nーフエノキシアセトアミド、またはチエニルア
セトアミドであり;RIは水素,C,〜C4アルキル、
2,2,2ートリクロルエチルまたはp−ニトロベンジ
ルであり;R2は水素またはアセトキシであり; R3は水素またはC,〜C4アルキルであり:R4はC
,〜C4アルキルである〕の新規な2−アルコキシーセ
フアロスポリン化合物、及びRIが水素であるその化合
物の製薬的に許容される塩を製造する方法を提供するも
のである。
存在下で、陽性ハロゲン源である試薬と反応させて一般
式ロ:〔上記の各式において、 Rは&Nーフエノキシアセトアミド、またはチエニルア
セトアミドであり;RIは水素,C,〜C4アルキル、
2,2,2ートリクロルエチルまたはp−ニトロベンジ
ルであり;R2は水素またはアセトキシであり; R3は水素またはC,〜C4アルキルであり:R4はC
,〜C4アルキルである〕の新規な2−アルコキシーセ
フアロスポリン化合物、及びRIが水素であるその化合
物の製薬的に許容される塩を製造する方法を提供するも
のである。
式ロの化合物は新規であり、またRIの定義に依存して
ェステルまたは遊離酸である。
ェステルまたは遊離酸である。
RIがェステル基である時には、それによって定義され
る化合物は、標準的な方法によって相当する遊離酸に変
換されうる中間体として有用である。RIが水素である
時には、多くの化合物は抗生物質として有用であり、そ
のままで多数の態様で用いられうる。その残りの化合物
を中間体として用いることができ、その中間体の7一置
換分を閥環させかつ生成した7ーアミノ議導体をアシル
化することによって抗生物質的に活性な化合物を作るこ
とができる。抗生物質に活性な化合物の製薬的に許容さ
れる塩も抗生物質として用いることができる。本発明方
法の特定の出発物質及び生成物は、便宜上、“セフアム
”命名法を用いて命名される。ペニシリン類についての
“べナム”命名法はシーハン,ヘネリーーロガン,及び
ジョンソン(Sheehan,Henery−Lo鞍n
,and−Johnson)によりジアーナル・オプ・
ザ・アメリカン・ケミカル.ソサイアテイ(Jouma
l ofthe AmericanChemicalS
ocie○),75,3292,脚注2(1953)に
記載されており、モーリン,ジャクソン,フリン,及び
ロェスケ(Morin,Jackson,FI叩n,a
旭,R雌ske)によりセフアロスポリン類に適用され
ている〔J.Am.Chem.S的.,縄,私00(1
962)〕。
る化合物は、標準的な方法によって相当する遊離酸に変
換されうる中間体として有用である。RIが水素である
時には、多くの化合物は抗生物質として有用であり、そ
のままで多数の態様で用いられうる。その残りの化合物
を中間体として用いることができ、その中間体の7一置
換分を閥環させかつ生成した7ーアミノ議導体をアシル
化することによって抗生物質的に活性な化合物を作るこ
とができる。抗生物質に活性な化合物の製薬的に許容さ
れる塩も抗生物質として用いることができる。本発明方
法の特定の出発物質及び生成物は、便宜上、“セフアム
”命名法を用いて命名される。ペニシリン類についての
“べナム”命名法はシーハン,ヘネリーーロガン,及び
ジョンソン(Sheehan,Henery−Lo鞍n
,and−Johnson)によりジアーナル・オプ・
ザ・アメリカン・ケミカル.ソサイアテイ(Jouma
l ofthe AmericanChemicalS
ocie○),75,3292,脚注2(1953)に
記載されており、モーリン,ジャクソン,フリン,及び
ロェスケ(Morin,Jackson,FI叩n,a
旭,R雌ske)によりセフアロスポリン類に適用され
ている〔J.Am.Chem.S的.,縄,私00(1
962)〕。
これらの命名法に従えば、“セフアム”は下記の飽和リ
ング系を言う:“セフェム”は二重結合を有しているセ
フアムリングをいい、その位置番号は数種の任意の慣用
命名法で示される。
ング系を言う:“セフェム”は二重結合を有しているセ
フアムリングをいい、その位置番号は数種の任意の慣用
命名法で示される。
一つの命名法によれば、例えば、本発明における下記の
代表的出発物質:は7ーフエノキシアセトアミドー3−
メチル−3ーセフヱムー4ーカルボン酸アルキルと命名
される。その他の出発物質及び生成物にも同様に命名さ
れる。本明細書で用いた一般式において、R4が3個ま
たは4個の炭素原子を持つアルキル基である時には、そ
れらのアルキル基は直鏡アルキルであっても分枝鎖アル
キルであってもよい。
代表的出発物質:は7ーフエノキシアセトアミドー3−
メチル−3ーセフヱムー4ーカルボン酸アルキルと命名
される。その他の出発物質及び生成物にも同様に命名さ
れる。本明細書で用いた一般式において、R4が3個ま
たは4個の炭素原子を持つアルキル基である時には、そ
れらのアルキル基は直鏡アルキルであっても分枝鎖アル
キルであってもよい。
R4の定義に入る典型的なアルキル基としてはメチル,
エチル,nープロピル,イソプロピル,n−ブチル,2
ーメチルプロピル,1−メチルプロピル,及びtーブチ
ルがある。セフアロスポリンと腸性ハロゲン源である試
薬との反応は種々の反応条件下で容易に進行する。
エチル,nープロピル,イソプロピル,n−ブチル,2
ーメチルプロピル,1−メチルプロピル,及びtーブチ
ルがある。セフアロスポリンと腸性ハロゲン源である試
薬との反応は種々の反応条件下で容易に進行する。
好収率を得るためにはその反応を溶媒の存在下で行なう
ことが一般に得策である。溶媒が、腸性ハロゲン源であ
る試薬と共存性であるかぎりは、溶媒の選択は臨界的で
ない。それ故に、適当な溶媒としてはエーテル,ェステ
ル,炭化水素,ハロゲン化炭化水素,脂肪族ニトリルま
たは第三アミドがある。これらの例はジヱチルェーテル
,メチルエチルエーテル,テトラヒドロフラン,ジオキ
サン,ジメチルホルムアミド,ジメチルアセトアミド,
アセトニトリル,プロピオニトリル,ジエチレングリコ
ールジメチルヱーテル,酢酸エチル,クロロホルム,ジ
クロルベンゼン,ベンゼ話,トルェン,及び類似物であ
る。その反応は広範囲の温度にわたって進行する。
ことが一般に得策である。溶媒が、腸性ハロゲン源であ
る試薬と共存性であるかぎりは、溶媒の選択は臨界的で
ない。それ故に、適当な溶媒としてはエーテル,ェステ
ル,炭化水素,ハロゲン化炭化水素,脂肪族ニトリルま
たは第三アミドがある。これらの例はジヱチルェーテル
,メチルエチルエーテル,テトラヒドロフラン,ジオキ
サン,ジメチルホルムアミド,ジメチルアセトアミド,
アセトニトリル,プロピオニトリル,ジエチレングリコ
ールジメチルヱーテル,酢酸エチル,クロロホルム,ジ
クロルベンゼン,ベンゼ話,トルェン,及び類似物であ
る。その反応は広範囲の温度にわたって進行する。
しかしながら、反応温度が低ければ低いほど反応速度が
遅くなる。好ましくは、その反応を約一15℃〜約14
ぴ○の温度で行なうが、ほぼ室温〜約40℃の範囲の温
度が特に好ましい。上記したように、本発明方法で用い
られる試薬は腸性ハロゲン源であるものである。
遅くなる。好ましくは、その反応を約一15℃〜約14
ぴ○の温度で行なうが、ほぼ室温〜約40℃の範囲の温
度が特に好ましい。上記したように、本発明方法で用い
られる試薬は腸性ハロゲン源であるものである。
本明細書において用語“陽性ハロゲン源”は任意のX★
(Xは塩素または臭素である)源をいいかつ含むもので
ある。陽’性ハロゲンを供孫舎するものとして広範囲の
ハロゲン化剤が当業者に知られており、本発明を実施す
るのにそれらの任意のものを用いうる。適当なハロゲン
化剤の代表例としては塩素及び臭素のような元素ハロゲ
ン;塩化スルフリル:臭化スルフリル;Nーハロゲノア
ミド及びイミド、例えばN−クロルサクシンィミド、N
−ブロムサクシンイミド、N,N′一ジブロムヒダント
ィン;並びに有機/・ィボハラィド、特にアルカノイル
ハイポハライド、例えばアセチルハィポクロライド、プ
ロピオニルハイボクロライド、プチリルハイポクロライ
ド、アセチルハイポプロマイド、プロピオニルハイポプ
ロマイド、ブチリルハイポプロマイド、及び類似物があ
る。その他にBrC1,CI1,Brl,及び類似物の
ような混合ハロゲンを用いることもできる。本発明の方
法においては、セフアロスポリンと陽性ハロゲン源とは
等モル割合の量で反応する。
(Xは塩素または臭素である)源をいいかつ含むもので
ある。陽’性ハロゲンを供孫舎するものとして広範囲の
ハロゲン化剤が当業者に知られており、本発明を実施す
るのにそれらの任意のものを用いうる。適当なハロゲン
化剤の代表例としては塩素及び臭素のような元素ハロゲ
ン;塩化スルフリル:臭化スルフリル;Nーハロゲノア
ミド及びイミド、例えばN−クロルサクシンィミド、N
−ブロムサクシンイミド、N,N′一ジブロムヒダント
ィン;並びに有機/・ィボハラィド、特にアルカノイル
ハイポハライド、例えばアセチルハィポクロライド、プ
ロピオニルハイボクロライド、プチリルハイポクロライ
ド、アセチルハイポプロマイド、プロピオニルハイポプ
ロマイド、ブチリルハイポプロマイド、及び類似物があ
る。その他にBrC1,CI1,Brl,及び類似物の
ような混合ハロゲンを用いることもできる。本発明の方
法においては、セフアロスポリンと陽性ハロゲン源とは
等モル割合の量で反応する。
セフアロスポリンを確実に最適変換させるために、過剰
の陽性ハロゲン線、例えばセラヌマロスポリン1モル当
り約1.1〜約5.0モルの陽性ハロゲン源を用いるこ
とが好ましい。より好ましくは、セフアロスポリン1モ
ル当り約1.1〜約2モルの腸性ハロゲン源を用いる。
本発明方法における他の必須試薬はセフアロスポリンの
2−位置に加わるアルコキシ基を与えるものである。
の陽性ハロゲン線、例えばセラヌマロスポリン1モル当
り約1.1〜約5.0モルの陽性ハロゲン源を用いるこ
とが好ましい。より好ましくは、セフアロスポリン1モ
ル当り約1.1〜約2モルの腸性ハロゲン源を用いる。
本発明方法における他の必須試薬はセフアロスポリンの
2−位置に加わるアルコキシ基を与えるものである。
この目的に適当な試薬は一般式R40日(式中R4はC
,〜C4アルキルである)を持つものである。セフアロ
スポIJンの2−位置に加えられる特定のアルコキシ基
は用いられるアルコールの構造に依存する。この反応に
用いられるアルコールの量は、用いられるセフアロスボ
リンの量と少なくとも等モル量であるかぎりは、臨界的
ではない。それで特定のアルコールを反応物としてかつ
溶媒として用いることが可能であり、それで大過刺のア
ルコールを用いることができる。反応時間は一般に全く
迅速である。それで、反応は通常短時間で完了し、有用
な時間範囲は一般に約5分〜約4時間の範囲内である。
本発明による2−アルコキシセフアロスポリンの代表的
な製造は3−,4−及び7一位置に適当な置換分を持つ
セフアロスポリンを、特定のアルコールR40日を含有
している適当な溶媒中で或いは特定のアルコール自体中
で適当な量の陽性ハロゲン源と共に混合することを伴う
。
,〜C4アルキルである)を持つものである。セフアロ
スポIJンの2−位置に加えられる特定のアルコキシ基
は用いられるアルコールの構造に依存する。この反応に
用いられるアルコールの量は、用いられるセフアロスボ
リンの量と少なくとも等モル量であるかぎりは、臨界的
ではない。それで特定のアルコールを反応物としてかつ
溶媒として用いることが可能であり、それで大過刺のア
ルコールを用いることができる。反応時間は一般に全く
迅速である。それで、反応は通常短時間で完了し、有用
な時間範囲は一般に約5分〜約4時間の範囲内である。
本発明による2−アルコキシセフアロスポリンの代表的
な製造は3−,4−及び7一位置に適当な置換分を持つ
セフアロスポリンを、特定のアルコールR40日を含有
している適当な溶媒中で或いは特定のアルコール自体中
で適当な量の陽性ハロゲン源と共に混合することを伴う
。
その生成した反応混合物を所望の反応時間維持し、その
後生成物を公3句の技術に従って単離する。本発明方法
に従って作られた生成物は一般にセフアロスポリンのェ
ステルであるが、遊離酸自体を直接作ることもできる。
後生成物を公3句の技術に従って単離する。本発明方法
に従って作られた生成物は一般にセフアロスポリンのェ
ステルであるが、遊離酸自体を直接作ることもできる。
そのェステルを公知の技術に従って脱ェステル化して相
当する遊離酸化合物にすることができる。脱ェステル化
する以外に、7一位置のアミ/基に非水素部分があれば
公知の方法々に従って除去して、相当する7−アミノセ
フアロスポリン化合物を作ることもできる。
当する遊離酸化合物にすることができる。脱ェステル化
する以外に、7一位置のアミ/基に非水素部分があれば
公知の方法々に従って除去して、相当する7−アミノセ
フアロスポリン化合物を作ることもできる。
この7−アミノセフアロスポリンを次いで他のアシル基
でアシル化して、異種の7−アシルアミドセフアロスポ
リンを作ることができる。アシル基を除去しかつ(また
は)置換する正確な方法は臨界的ではない。そのような
反応はペニシリン及びセフアロスポリン技術分野で公知
である(米国特許第3218318号及び第33822
41号明細書参照)。本発明方法に従って作られたェス
テルを脱ェステル化して、或いは直接得られる遊離酸化
合物は抗生物質活性があり、それでそのままで、或いは
それらの製薬的に許容される塩の形態で用いられる。
でアシル化して、異種の7−アシルアミドセフアロスポ
リンを作ることができる。アシル基を除去しかつ(また
は)置換する正確な方法は臨界的ではない。そのような
反応はペニシリン及びセフアロスポリン技術分野で公知
である(米国特許第3218318号及び第33822
41号明細書参照)。本発明方法に従って作られたェス
テルを脱ェステル化して、或いは直接得られる遊離酸化
合物は抗生物質活性があり、それでそのままで、或いは
それらの製薬的に許容される塩の形態で用いられる。
これらの化合物は多数の経路で投与できるが、好ましく
は筋肉内注射によって投与される。通常は約100の9
〜約1夕の投与量が用いられる。下記の各実施例は本発
明方法並びにそれにより得られる化合物を説明するもの
であり、当業者が本発明を実施できるようにするもので
ある。実施例 1メタノール50必中に溶解させた7ー
フェノキシアセトアミド−3−メチル一3ーセフエム−
4ーカルボン酸2,2,2ートリクロルエチル0.48
0夕(1.0ミリモル)の縄辞溶液に、塩素0.071
夕(1.0ミリモル)を含有している塩化メチレン溶液
3.4のZを加える。
は筋肉内注射によって投与される。通常は約100の9
〜約1夕の投与量が用いられる。下記の各実施例は本発
明方法並びにそれにより得られる化合物を説明するもの
であり、当業者が本発明を実施できるようにするもので
ある。実施例 1メタノール50必中に溶解させた7ー
フェノキシアセトアミド−3−メチル一3ーセフエム−
4ーカルボン酸2,2,2ートリクロルエチル0.48
0夕(1.0ミリモル)の縄辞溶液に、塩素0.071
夕(1.0ミリモル)を含有している塩化メチレン溶液
3.4のZを加える。
その生成混合物を室温で約1時間縄拝した。次いでその
反応混合物を、洗浄煤質として塩化メチレン約125の
‘を用いる分液ロートに移した。その混合物を重炭酸ナ
トリウムの飽和水溶液と塩化ナトリウム水溶液とで連続
的に洗った。その洗った生成混合物を硫酸ナトリウムで
乾燥させ、炉過し、蒸発処理して0.464夕の残簿を
得た。次いでその残澄をベンゼンを酢酸エチルとの混合
物中に溶解させ、シリカゲルクロマトグラフィーカラム
に通した。7ーフェノキシアセトアミド−2−メトキシ
−3−メチル−3−セフエム−4−カルポン酸2,2,
2−トリクロルェチルを0.263タ回収した。
反応混合物を、洗浄煤質として塩化メチレン約125の
‘を用いる分液ロートに移した。その混合物を重炭酸ナ
トリウムの飽和水溶液と塩化ナトリウム水溶液とで連続
的に洗った。その洗った生成混合物を硫酸ナトリウムで
乾燥させ、炉過し、蒸発処理して0.464夕の残簿を
得た。次いでその残澄をベンゼンを酢酸エチルとの混合
物中に溶解させ、シリカゲルクロマトグラフィーカラム
に通した。7ーフェノキシアセトアミド−2−メトキシ
−3−メチル−3−セフエム−4−カルポン酸2,2,
2−トリクロルェチルを0.263タ回収した。
分析:IR(CHC13)3410,1780 174
3,16班,1225及び1083弧‐1:MS508
:NM旧(CDCWは下記の6値を示した:2.23(
S,細)ピニルメチル;3.49(S,9H)メトキシ
:4.59(S,2H)フエ/キシメチレン;4.84
(S,IH)C2におけるプロトン;4.8,5.05
(AB,J=12,0,が)CH2CC13;5.16
(d,J=5.0,IH)C6におけるプロトン;6.
00(q,J=5.0/9.51H)C7におけるプロ
トン。
3,16班,1225及び1083弧‐1:MS508
:NM旧(CDCWは下記の6値を示した:2.23(
S,細)ピニルメチル;3.49(S,9H)メトキシ
:4.59(S,2H)フエ/キシメチレン;4.84
(S,IH)C2におけるプロトン;4.8,5.05
(AB,J=12,0,が)CH2CC13;5.16
(d,J=5.0,IH)C6におけるプロトン;6.
00(q,J=5.0/9.51H)C7におけるプロ
トン。
実施例1の方法に従って得られるその他の生成物として
は下記のものがある:7ーフエノキシアセトアミドー3
−メチル一3−セフェムー4ーカルボン酸p−ニトロベ
ンジルから作った7−フェノキシアセトアミド−2ーメ
トキシ−3−メチル−3−セフヱム−4ーカルボン酸p
−ニトロベンジル。
は下記のものがある:7ーフエノキシアセトアミドー3
−メチル一3−セフェムー4ーカルボン酸p−ニトロベ
ンジルから作った7−フェノキシアセトアミド−2ーメ
トキシ−3−メチル−3−セフヱム−4ーカルボン酸p
−ニトロベンジル。
この生成物の分析結果は次の通りである:IR(CHC
13)1784,1730,1695 1520,13
50,1215及び1080伽‐1:MS513,43
7;NMR(CDC13)は下記の6値を示した:2.
19(S,班)ビニルメチル;3.47(S,3H)メ
トキシ;4.59(S,が)フェ/キシメチレン:4.
欧(S,IH)C2におけるプロトン;5.11(d,
J=5.0,IH)C6におけるプロトン;5.37(
S,2H)pーニトロフエニルメチレン;5.95(q
,Jニ9.0/5.0,IH)C7におけるプロトン。
分析計算値(C24日23N308Sとして):C,5
613;日,4.51:N818実測値 C,55.93;日,4.69:N.8.21。
13)1784,1730,1695 1520,13
50,1215及び1080伽‐1:MS513,43
7;NMR(CDC13)は下記の6値を示した:2.
19(S,班)ビニルメチル;3.47(S,3H)メ
トキシ;4.59(S,が)フェ/キシメチレン:4.
欧(S,IH)C2におけるプロトン;5.11(d,
J=5.0,IH)C6におけるプロトン;5.37(
S,2H)pーニトロフエニルメチレン;5.95(q
,Jニ9.0/5.0,IH)C7におけるプロトン。
分析計算値(C24日23N308Sとして):C,5
613;日,4.51:N818実測値 C,55.93;日,4.69:N.8.21。
7−フエノキシアセトアミド−3ーメチルー3−セフェ
ムー4ーカルポン酸から作った7−フェノキシアセトア
ミド−2ーメトキシー3ーメチルー3−セフェムー4−
カルボン酸。
ムー4ーカルポン酸から作った7−フェノキシアセトア
ミド−2ーメトキシー3ーメチルー3−セフェムー4−
カルボン酸。
この生成物のNMRはメトキシ及びB−ラクタム官能を
示す。7ーアミノ−3ーメチル‐3ーセフエムー4−カ
ルボン酸p−ニトロベンジルのトシレートアミン塩から
作った7−アミノー2−メトキシー3−メチル−3−セ
フェムー4−カルボン酸p−ニトロベンジル。
示す。7ーアミノ−3ーメチル‐3ーセフエムー4−カ
ルボン酸p−ニトロベンジルのトシレートアミン塩から
作った7−アミノー2−メトキシー3−メチル−3−セ
フェムー4−カルボン酸p−ニトロベンジル。
分析:瓜(CHC13)1776及び1080仇‐1:
MS379 351,323 320;NMRは次の6
値を示した:2.17(S,3H)ビニルメチル;3.
50(S,班)メトキシ;4.83(S,IH)C2に
おけるプロトン;4.83(m)C7におけるプロトン
;5.03(d,IH,J=50HZ)C6におけるプ
ロトン:5.斑(S,2H)p−ニトロフエニルメチレ
ン:7.62,8.25(AB,岬,J=8.5HZ)
p‐ニトロフェニ′レ。7ーアミノ−3ーアセトキシメ
チル−3ーセフェムー4ーカルボン酸tーブチルから作
った7ーアミノ−2ーメトキシ−3ーアセトキシメチル
ー3ーセフェム−4ーカルボン酸tーブチル。
MS379 351,323 320;NMRは次の6
値を示した:2.17(S,3H)ビニルメチル;3.
50(S,班)メトキシ;4.83(S,IH)C2に
おけるプロトン;4.83(m)C7におけるプロトン
;5.03(d,IH,J=50HZ)C6におけるプ
ロトン:5.斑(S,2H)p−ニトロフエニルメチレ
ン:7.62,8.25(AB,岬,J=8.5HZ)
p‐ニトロフェニ′レ。7ーアミノ−3ーアセトキシメ
チル−3ーセフェムー4ーカルボン酸tーブチルから作
った7ーアミノ−2ーメトキシ−3ーアセトキシメチル
ー3ーセフェム−4ーカルボン酸tーブチル。
分析:m(CHC13)1783及び1070物‐1。
NMRは次の6億を示した:1.59(S,班)t−ブ
チル;1,87(S,が)N比;2.10(S,汎)ァ
セチル:3.44(S,細)メトキシ:4.85(m、
斑)アセトキシメチル、C2におけるプロトン及びC7
におけるプロトン。セフアロスポリン1当量当り1.5
当量の塩素を用いて7一(2ーチェニル)アセトアミド
ー3ーアセトキシメチル−3ーセフエム−4ーカルボン
酸2,2,2−トリクロルヱチルから作った7一(2−
チエニル)アセトアミド−2ーメトキシ−3−アセトキ
シメチルー3ーセフエムー4ーカルポン酸2,2,2−
トリクロルヱチル。
NMRは次の6億を示した:1.59(S,班)t−ブ
チル;1,87(S,が)N比;2.10(S,汎)ァ
セチル:3.44(S,細)メトキシ:4.85(m、
斑)アセトキシメチル、C2におけるプロトン及びC7
におけるプロトン。セフアロスポリン1当量当り1.5
当量の塩素を用いて7一(2ーチェニル)アセトアミド
ー3ーアセトキシメチル−3ーセフエム−4ーカルボン
酸2,2,2−トリクロルヱチルから作った7一(2−
チエニル)アセトアミド−2ーメトキシ−3−アセトキ
シメチルー3ーセフエムー4ーカルポン酸2,2,2−
トリクロルヱチル。
分析:IR1793及び1075仇‐1,MS550
496 318。NMRは次の6値を示した:2.08
(S,知日)アセチル;3.44(S,9H)メトキシ
;3.84(S,2H)チェニルメチレン;5.0(m
,細)トリクロルェチル,アセトキシメチル,C2にお
けるプロトン、及びC6におけるプロトン;6.08(
q,IH,J=4,8)C7におけるプロトン;6.5
2(d,IH,J=8)>NH。7−フエノキシアセト
アミドー3−アセトキシメチルー3−セフェム−4ーカ
ルポン酸2,2,2−トリクロルェチルから作った7ー
フェノキシアセトアミドー2ーメトキシー3−アセトキ
シメチル−3ーセフェム−4ーカルボン酸2,2,2−
トリクロルェチル。
496 318。NMRは次の6値を示した:2.08
(S,知日)アセチル;3.44(S,9H)メトキシ
;3.84(S,2H)チェニルメチレン;5.0(m
,細)トリクロルェチル,アセトキシメチル,C2にお
けるプロトン、及びC6におけるプロトン;6.08(
q,IH,J=4,8)C7におけるプロトン;6.5
2(d,IH,J=8)>NH。7−フエノキシアセト
アミドー3−アセトキシメチルー3−セフェム−4ーカ
ルポン酸2,2,2−トリクロルェチルから作った7ー
フェノキシアセトアミドー2ーメトキシー3−アセトキ
シメチル−3ーセフェム−4ーカルボン酸2,2,2−
トリクロルェチル。
分析:m(CHC13)。1792及び1070伽‐1
。
。
NMR(CDC13)は次の6値を示した:2,09(
S,3.7H)ァセチル:3.37(S,細)メトキシ
;4.59(S,2H)フエノキシメチレン:5.0(
m,細)トリクロルェチル、ァセトキシメチレン、C2
におけるプロトン、及びC6におけるプロトン;6.0
6(q,IH,J=9.0/5.0/1.0HZ)C7
におけるプ。トン。7ーフエノキシアセトアミドー2,
3−ジメチル−3ーセフェム−4ーカルボン酸2,2,
2ートリクロルェチルから作った7ーフェノキシアセト
アミド−2,3ージメチルー2ーメトキシー3ーセフェ
ムー4−カルボン酸2,2,2ートリクロルェチル。
S,3.7H)ァセチル:3.37(S,細)メトキシ
;4.59(S,2H)フエノキシメチレン:5.0(
m,細)トリクロルェチル、ァセトキシメチレン、C2
におけるプロトン、及びC6におけるプロトン;6.0
6(q,IH,J=9.0/5.0/1.0HZ)C7
におけるプ。トン。7ーフエノキシアセトアミドー2,
3−ジメチル−3ーセフェム−4ーカルボン酸2,2,
2ートリクロルェチルから作った7ーフェノキシアセト
アミド−2,3ージメチルー2ーメトキシー3ーセフェ
ムー4−カルボン酸2,2,2ートリクロルェチル。
分析:IR(CHC13)1785弧‐1。NMR(C
DC13)は次の6値を示した;1.85(S,細)2
‐メチル;2.02(S,細)ビニルメチル;3.41
(S,細)メトキシ;4.56(S,が)フエノキシメ
チレン;4.90(2日)トリクロルエチル;5.04
(d,IH,J=4.0)C6におけるプロトン;5.
80(q,IH,J=4.0/9.0Hz)C7におけ
るプロトン。実施例 ロ 塩化メチレン2の‘とエタノール50叫との混合物中に
溶解させた7ーフェノキシアセトアミドー3ーメチルー
3−セフェムー4−カルポン酸2,2,2−トリクロル
エチル0.480夕(1.0ミリモル)の灘梓溶液に、
塩化メチレンに溶解した塩素0.017夕(1ミリモル
)を5分間にわたって滴下した。
DC13)は次の6値を示した;1.85(S,細)2
‐メチル;2.02(S,細)ビニルメチル;3.41
(S,細)メトキシ;4.56(S,が)フエノキシメ
チレン;4.90(2日)トリクロルエチル;5.04
(d,IH,J=4.0)C6におけるプロトン;5.
80(q,IH,J=4.0/9.0Hz)C7におけ
るプロトン。実施例 ロ 塩化メチレン2の‘とエタノール50叫との混合物中に
溶解させた7ーフェノキシアセトアミドー3ーメチルー
3−セフェムー4−カルポン酸2,2,2−トリクロル
エチル0.480夕(1.0ミリモル)の灘梓溶液に、
塩化メチレンに溶解した塩素0.017夕(1ミリモル
)を5分間にわたって滴下した。
その生成混合物を室温で約1時間蝿拝した。次いでその
混合物を、洗液として塩化メチレンを用いる分液ロート
に移した。その混合物を次いで連続して塩化ナトリウム
水溶液、重炭酸ナトリウム水溶液、及び塩化ナトリウム
水溶液で洗った。その混合物を次いで硫酸ナトリウムで
乾燥させ、炉過し、蒸発処理して固体残澄0.467夕
を得た。その残澄をベンゼンと酢酸エチルとの混合物中
に溶解させ、シリカゲルを含有しているクロマトグラフ
ィーカラムに通した。生成物として7−フエノキシアセ
トアミド−2−エトキシ−3−メチル−3ーセフェム−
4ーカルボン酸2,2,2ートリクロルェチルを回収し
た。分析:NMR(CDC13)は次の6値を示した:
1.26(t,洲,J=7.0HZ)ヱトキシ:2,2
3(S,細)ビニルメチル;3.7(m)工トキシ;4
.59(S,2H)フエノキシメチレン;4.59,5
.03(AB,J=12.0HZ,2H)C比CC13
:4.94(S,IH)C2におけるプロトン;5.1
9(d,IH,J=4.5/9.0/0.5HZ)C6
におけるプロトン:6.0(q,IH)C7におけるプ
ロトン。
混合物を、洗液として塩化メチレンを用いる分液ロート
に移した。その混合物を次いで連続して塩化ナトリウム
水溶液、重炭酸ナトリウム水溶液、及び塩化ナトリウム
水溶液で洗った。その混合物を次いで硫酸ナトリウムで
乾燥させ、炉過し、蒸発処理して固体残澄0.467夕
を得た。その残澄をベンゼンと酢酸エチルとの混合物中
に溶解させ、シリカゲルを含有しているクロマトグラフ
ィーカラムに通した。生成物として7−フエノキシアセ
トアミド−2−エトキシ−3−メチル−3ーセフェム−
4ーカルボン酸2,2,2ートリクロルェチルを回収し
た。分析:NMR(CDC13)は次の6値を示した:
1.26(t,洲,J=7.0HZ)ヱトキシ:2,2
3(S,細)ビニルメチル;3.7(m)工トキシ;4
.59(S,2H)フエノキシメチレン;4.59,5
.03(AB,J=12.0HZ,2H)C比CC13
:4.94(S,IH)C2におけるプロトン;5.1
9(d,IH,J=4.5/9.0/0.5HZ)C6
におけるプロトン:6.0(q,IH)C7におけるプ
ロトン。
実施例Dの方法を用いて、下記の化合物が得られる:7
ーフエノキシアセトアミドー3ーメチルー3ーセフェム
ー4−カルボン酸pーニトロベンジルから作った7ーフ
ェノキシアセトアミドー2−ェトキシ−3ーメチルー3
ーセフエムー4ーカルポン酸pーニトロベンジル。
ーフエノキシアセトアミドー3ーメチルー3ーセフェム
ー4−カルボン酸pーニトロベンジルから作った7ーフ
ェノキシアセトアミドー2−ェトキシ−3ーメチルー3
ーセフエムー4ーカルポン酸pーニトロベンジル。
分析:IR(CHC13)1782及び1065の‐1
:NMR(CDC13)分析は次の6値を示した:1.
25(t,祖,J=7.0HZ)ェトキシ;2.20(
S,汎)ビニルメチル:3.7(m)ェトキシ:4,5
5(S,餌)フェノキシメチレン;4,87(S,IH
)C2におけるプロトン;5.10(d,IH,J=4
0)C6におけるプロトン;5.30(S,2H)Pー
ニトロフエニルメチレン;5.90(q,IH,J=9
.0/4.0)C7におけるブロトン。7−(2−チエ
ニル)アセトアミドー3ーアセトキシメチルー3−セフ
ェム−4ーカルボン酸2,2,2−トリクロルェチルか
ら作った7一(2ーチエニル)アセトアミドー2ーエト
キシー3−アセトキシメチルー3ーセフエムー4ーカル
ボン酸2,2,2ートリクロルェチル。
:NMR(CDC13)分析は次の6値を示した:1.
25(t,祖,J=7.0HZ)ェトキシ;2.20(
S,汎)ビニルメチル:3.7(m)ェトキシ:4,5
5(S,餌)フェノキシメチレン;4,87(S,IH
)C2におけるプロトン;5.10(d,IH,J=4
0)C6におけるプロトン;5.30(S,2H)Pー
ニトロフエニルメチレン;5.90(q,IH,J=9
.0/4.0)C7におけるブロトン。7−(2−チエ
ニル)アセトアミドー3ーアセトキシメチルー3−セフ
ェム−4ーカルボン酸2,2,2−トリクロルェチルか
ら作った7一(2ーチエニル)アセトアミドー2ーエト
キシー3−アセトキシメチルー3ーセフエムー4ーカル
ボン酸2,2,2ートリクロルェチル。
分析:m(CHC13)1795弧‐1;MS570,
510;NM庇(CDC13)分析は次の6値を示した
:1.22(t,斑,J=7.0HZ)ェトキシ;2.
03(S,細)ビニルメチル;3.7(m,2H)エト
キシ;3.80(S,2H)チエニルメチレン;50(
m,QH)トリクロルエチル、アセトキシメチル、C2
におけるプロトン及びC6におけるプロトン;5.83
(q,IH,J=4.5/9.0HZ)C7におけるプ
ロトン。実施例 皿塩化メチレン2叫とインプロピルア
ルコール50叫との混合物中に溶解させた7ーフェノキ
シアセトアミドー3−メチル一3ーセフエムー4ーカル
ボン酸2,2,2ートリクロルェチル0.480夕(1
.0ミリモル)の蝿梓溶液に、塩化メチレンに溶解させ
た塩素0.071夕(1.0ミリモル)を5分間にわた
って滴下した。
510;NM庇(CDC13)分析は次の6値を示した
:1.22(t,斑,J=7.0HZ)ェトキシ;2.
03(S,細)ビニルメチル;3.7(m,2H)エト
キシ;3.80(S,2H)チエニルメチレン;50(
m,QH)トリクロルエチル、アセトキシメチル、C2
におけるプロトン及びC6におけるプロトン;5.83
(q,IH,J=4.5/9.0HZ)C7におけるプ
ロトン。実施例 皿塩化メチレン2叫とインプロピルア
ルコール50叫との混合物中に溶解させた7ーフェノキ
シアセトアミドー3−メチル一3ーセフエムー4ーカル
ボン酸2,2,2ートリクロルェチル0.480夕(1
.0ミリモル)の蝿梓溶液に、塩化メチレンに溶解させ
た塩素0.071夕(1.0ミリモル)を5分間にわた
って滴下した。
その生成混合物を室温で約1時間蝿拝した。次いでその
反応混合物を、洗浄嬢質として塩化メチレンを追加して
用いる分液ロートに移した。次いでその混合物を連続し
て塩化ナトリウム水溶液、重炭酸ナトリウム水溶液、及
び塩化ナトリウム水溶液で洗った。次いでその混合物を
硫酸ナトリウムの乾燥させ、炉遇し、蒸発処理して固体
残澄0.456夕を得た。その浅薄をベンゼンと酢酸エ
チルとの混合物中に溶解させ、シーJカゲル含有クロマ
トグラフィーカラムに通した。7−フエノキシアセトア
ミドー2ーイソプロポキシー3−メチル−3ーセフェム
−4ーカルボン酸2,2,2ートリクロルェチルを回収
した。
反応混合物を、洗浄嬢質として塩化メチレンを追加して
用いる分液ロートに移した。次いでその混合物を連続し
て塩化ナトリウム水溶液、重炭酸ナトリウム水溶液、及
び塩化ナトリウム水溶液で洗った。次いでその混合物を
硫酸ナトリウムの乾燥させ、炉遇し、蒸発処理して固体
残澄0.456夕を得た。その浅薄をベンゼンと酢酸エ
チルとの混合物中に溶解させ、シーJカゲル含有クロマ
トグラフィーカラムに通した。7−フエノキシアセトア
ミドー2ーイソプロポキシー3−メチル−3ーセフェム
−4ーカルボン酸2,2,2ートリクロルェチルを回収
した。
NMR(CDC18)は次の6値を示した:1.23(
d,紺,J=6.0日2)ィソプロピル上の2つのメチ
ル;2.20(S,9H)ビニルメチル;4.06(m
,IH,J=6.0日2)イソブロピル上のプロトン:
4.58(S,が)フェノキシメチレン;4.84,5
.03(AB,が,J二120HZ)トリクoルェチル
;5.01(S,IH)C2におけるプロトン;5.2
1(d,IH,J=4.5HZ)C6におけるプロトン
;6.02(q,IH,J=4.5/9.0HZ)C?
におけるプロトン。実施例mの方法に従って得られるそ
の他の化合物は次の通りである:7ーフエノキシアセト
アミドー3ーメチル−3−セフェムー4−カルボン酸p
−ニトロベンジルから作った7−フェノキシアセトアミ
ドー2ーイソプロポキシー3ーメチルー3ーセフエム−
4−カルボン酸p−ニトロベンジル。
d,紺,J=6.0日2)ィソプロピル上の2つのメチ
ル;2.20(S,9H)ビニルメチル;4.06(m
,IH,J=6.0日2)イソブロピル上のプロトン:
4.58(S,が)フェノキシメチレン;4.84,5
.03(AB,が,J二120HZ)トリクoルェチル
;5.01(S,IH)C2におけるプロトン;5.2
1(d,IH,J=4.5HZ)C6におけるプロトン
;6.02(q,IH,J=4.5/9.0HZ)C?
におけるプロトン。実施例mの方法に従って得られるそ
の他の化合物は次の通りである:7ーフエノキシアセト
アミドー3ーメチル−3−セフェムー4−カルボン酸p
−ニトロベンジルから作った7−フェノキシアセトアミ
ドー2ーイソプロポキシー3ーメチルー3ーセフエム−
4−カルボン酸p−ニトロベンジル。
分析:瓜(CHCl3)1784伽‐1;MS541,
360;NM頂(CDC13)は次の6値を示した:1
.21(d,餌,J=6.0日2)イソプロピル上の2
つのメチル;2.16(S,が)ビニルメチル;4.0
5(m,IH,J=6.0HZ)イソブロピル上のプロ
トン;4.58(S,汎)フヱノキシメチレン;5.0
0(S,IH)C2におけるプロトン;5.18(d,
IH,J=5.0HZ)C6におけるプロトン;5.4
7(S,幻)p‐ニトロフエニルメチレン;5.98(
q,IH,Jニ5.0/9.0)C7におけるプロトン
。
360;NM頂(CDC13)は次の6値を示した:1
.21(d,餌,J=6.0日2)イソプロピル上の2
つのメチル;2.16(S,が)ビニルメチル;4.0
5(m,IH,J=6.0HZ)イソブロピル上のプロ
トン;4.58(S,汎)フヱノキシメチレン;5.0
0(S,IH)C2におけるプロトン;5.18(d,
IH,J=5.0HZ)C6におけるプロトン;5.4
7(S,幻)p‐ニトロフエニルメチレン;5.98(
q,IH,Jニ5.0/9.0)C7におけるプロトン
。
実施例 W
塩化メチレン120泌とt−ブチルアルコール120の
【との混合物中に溶解させた7ーフェノキシアセトアミ
ドー3ーメチル−3ーセフエムー4ーカルボン酸p−ニ
トロベンジル4.83夕(0.01モル)の毅梓溶液に
、塩素1.07夕(0.015モル)を含有している塩
化メチレン溶液39の【を1C分間にわたって滴下した
。
【との混合物中に溶解させた7ーフェノキシアセトアミ
ドー3ーメチル−3ーセフエムー4ーカルボン酸p−ニ
トロベンジル4.83夕(0.01モル)の毅梓溶液に
、塩素1.07夕(0.015モル)を含有している塩
化メチレン溶液39の【を1C分間にわたって滴下した
。
その生成混合物を室温で約30分間雛拝した。次いでそ
の混合物を、洗浄煤質として塩化メチレンを追加して用
いる分液ロートに移した。次いでその混合物を連続して
重炭酸ナトリウム水溶液及び塩化ナトリウム水溶液で洗
った。次いでその混合物を硫酸ナトリウムで乾燥させ、
炉過し、蒸発処理して黄色の残笹を得た。次いでその残
澄をベンゼンと酢酸エチルとの混合物中に溶解させ、シ
リカゲル含有クロマトグラフィーカラムに通した。ベン
ゼン−酢酸エチルこう配を用いて溶離させて、7−フェ
ノキシアセトアミド−2−tーブトキシー3−メチル一
3ーセフエム−4ーカルボン酸pーニトロベンジル0.
905夕と7−フエノキシアセトアミドー1ーオキサイ
ド−3−メチル−3ーセフェムー4ーカルボン酸pーニ
トロベンジル1.817夕を得た。2−tープトキシ化
合物の分析:IR(CHC13)1784,1040
及び1023松‐1:MS555,452;NM旧(C
DC13)は次の6値を示した:1.32(S,鮒)t
‐ブチル;2.13(S,細)ビニルメチル:4.57
(S,2H)フエノキシメチレン;5.16(S,IH
)C2におけるプロトン;5.27(d,IH,J=5
.0日2)C6におけるプロトン;5.36(S,2H
)pーニトロフエニルメチレン;6.0(q,IH,J
=5.0/9.0/0.5)C7におけるプロトン。
の混合物を、洗浄煤質として塩化メチレンを追加して用
いる分液ロートに移した。次いでその混合物を連続して
重炭酸ナトリウム水溶液及び塩化ナトリウム水溶液で洗
った。次いでその混合物を硫酸ナトリウムで乾燥させ、
炉過し、蒸発処理して黄色の残笹を得た。次いでその残
澄をベンゼンと酢酸エチルとの混合物中に溶解させ、シ
リカゲル含有クロマトグラフィーカラムに通した。ベン
ゼン−酢酸エチルこう配を用いて溶離させて、7−フェ
ノキシアセトアミド−2−tーブトキシー3−メチル一
3ーセフエム−4ーカルボン酸pーニトロベンジル0.
905夕と7−フエノキシアセトアミドー1ーオキサイ
ド−3−メチル−3ーセフェムー4ーカルボン酸pーニ
トロベンジル1.817夕を得た。2−tープトキシ化
合物の分析:IR(CHC13)1784,1040
及び1023松‐1:MS555,452;NM旧(C
DC13)は次の6値を示した:1.32(S,鮒)t
‐ブチル;2.13(S,細)ビニルメチル:4.57
(S,2H)フエノキシメチレン;5.16(S,IH
)C2におけるプロトン;5.27(d,IH,J=5
.0日2)C6におけるプロトン;5.36(S,2H
)pーニトロフエニルメチレン;6.0(q,IH,J
=5.0/9.0/0.5)C7におけるプロトン。
実施例 Vアセトン30必中の7ーアミノ−2ーメトキ
シ−3ーメチルー3ーセフェムー4ーカルボン酸pーニ
トロベンジル0.354夕(0.94ミリモル)の樽梓
溶液に水30の‘を加え、次いで重炭酸ナトリウム0.
118夕を加えた。
シ−3ーメチルー3ーセフェムー4ーカルボン酸pーニ
トロベンジル0.354夕(0.94ミリモル)の樽梓
溶液に水30の‘を加え、次いで重炭酸ナトリウム0.
118夕を加えた。
次いで塩化2ーチオフエンアセチル(0.226夕)を
加え、その反応混合物を室温で約1時間鷹拝した。次い
でそのアセトンを反応混合物から蒸発させ、その残澄を
酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル抽出物を連続して重
炭酸ナトリウム水溶液、希釈HCI、重炭酸ナトリウム
水溶液及び塩化ナトリウム水溶液で洗った。次いでその
酢酸エチル抽出物を硫酸ナトリウムで乾燥させ、炉過し
、蒸発処理して生成物残澄0.418夕を得た。その残
澄を塩化メチレソとへキサンとの混合物から再結晶化さ
せて7一(2−チェニル)アセトアミドー2ーメトキシ
ー3−メチル−3ーセフェムー4−カルボン酸p−ニト
ロベンジルの白色針状結晶(融点173〜174qo)
を得た。分析:IR(CHC13)178&次‐1:M
S504:NMR(CDC13/DMSO)は次の8値
を示した:2.19(S,鮒)ビニルメチル;3.50
(S,汎)メトキシ:3.87(S,2H)チオフエン
メチレン;5.03(S,IH)C2におけるプロトン
;5.10(d,IH,J=4.5日2)におけるプロ
トン;5.86(q,IH,J=8.0/4.5/0.
5HZ)C7におけるプロトン。分析計算値(C22日
2,N307S2として):C,52.48:日,4.
20:N,8.34。
加え、その反応混合物を室温で約1時間鷹拝した。次い
でそのアセトンを反応混合物から蒸発させ、その残澄を
酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル抽出物を連続して重
炭酸ナトリウム水溶液、希釈HCI、重炭酸ナトリウム
水溶液及び塩化ナトリウム水溶液で洗った。次いでその
酢酸エチル抽出物を硫酸ナトリウムで乾燥させ、炉過し
、蒸発処理して生成物残澄0.418夕を得た。その残
澄を塩化メチレソとへキサンとの混合物から再結晶化さ
せて7一(2−チェニル)アセトアミドー2ーメトキシ
ー3−メチル−3ーセフェムー4−カルボン酸p−ニト
ロベンジルの白色針状結晶(融点173〜174qo)
を得た。分析:IR(CHC13)178&次‐1:M
S504:NMR(CDC13/DMSO)は次の8値
を示した:2.19(S,鮒)ビニルメチル;3.50
(S,汎)メトキシ:3.87(S,2H)チオフエン
メチレン;5.03(S,IH)C2におけるプロトン
;5.10(d,IH,J=4.5日2)におけるプロ
トン;5.86(q,IH,J=8.0/4.5/0.
5HZ)C7におけるプロトン。分析計算値(C22日
2,N307S2として):C,52.48:日,4.
20:N,8.34。
実測値:C,52.19;日,4.40;N,80も実
施例Vの方法に従って得られるその他の化合物は次の通
りである:7ーアミノ−2ーメトキシー3ーアセトキシ
メチルー3ーセフェムー4−カルボン酸tーブチルから
作った7−(2−チェニル)アセトアミドー2−メトキ
シ−3−アセトキシメチルー3ーセフェム−4−カルポ
ン酸t−ブチル。
施例Vの方法に従って得られるその他の化合物は次の通
りである:7ーアミノ−2ーメトキシー3ーアセトキシ
メチルー3ーセフェムー4−カルボン酸tーブチルから
作った7−(2−チェニル)アセトアミドー2−メトキ
シ−3−アセトキシメチルー3ーセフェム−4−カルポ
ン酸t−ブチル。
分析:m(CHC13)1785及び1071伽‐1:
NMR(CDC13)は次の6値を示した:1.56(
S,畑)t−ブチル;2.10(S,細)ァセチル;3
.44(S,斑)メトキシ;3.86(S,2H)チオ
フエンメチレン;50(m,4H)アセトキシメチレン
、C2におけるプロトン、及びC6におけるプロトン;
5.90(q,IH,J=4/9HZ)C7におけるプ
ロトン;6.78(d,IH,J=9)>NH。実施例
の7ーフエノキシアセトアミドー2−イソプロポキシ
−3−メチル一3ーセフエムー4−力ルボン酸pーニト
ロベンジル(0.100夕)をメタノール70必中に溶
解させた。
NMR(CDC13)は次の6値を示した:1.56(
S,畑)t−ブチル;2.10(S,細)ァセチル;3
.44(S,斑)メトキシ;3.86(S,2H)チオ
フエンメチレン;50(m,4H)アセトキシメチレン
、C2におけるプロトン、及びC6におけるプロトン;
5.90(q,IH,J=4/9HZ)C7におけるプ
ロトン;6.78(d,IH,J=9)>NH。実施例
の7ーフエノキシアセトアミドー2−イソプロポキシ
−3−メチル一3ーセフエムー4−力ルボン酸pーニト
ロベンジル(0.100夕)をメタノール70必中に溶
解させた。
この溶液を、炭素上に5%のパラジウムを含むもの〔こ
れは3.5k9/地(5蛇si)の水素圧下で15分間
予備還元されているものである〕0.100夕を含有し
ているエタノール30の‘に加えた。その生成混合物を
室温でかつ3.5k9/地(50psi)の水素圧にお
いて約2時間水素添加処理した。次いでその反応混合物
を炉適して触媒を除去し、その炉液を蒸発乾固させ、そ
の残笹をクロロホルム中に溶解させた。次いでその生成
溶液をセライトに通して炉過し、その炉液を蒸発処理し
て固体残簿を0.076タ得た。次いでその残澄を酢酸
エチルに溶解させ、その酢酸エチル溶液を重炭酸ナトリ
ウム水溶液で抽出した。その水性層を有機層から分離さ
せ、その混合物に酢酸エチルを加えた。次いでその混合
物を1,NのHCIを添加して酸性にした。次いで酢酸
エチル層を水性層から分離させ、塩化ナトリウム水溶液
で洗い、硫酸ナトリウムで乾燥させ、炉過し、蒸発処理
して、7ーフヱ/キシアセトアミドー2−イソブロポキ
シー3ーメチルー3ーセフエムー4ーカルポン酸を64
の9得た。NMR(CDC13)は次の6値を示した:
1.20(d.8日,J=6.0HZ)イソプロピル上
のメチル;2.16(S,QH)ビニルメチル;4.0
(m,IH,』=6.0)イソプロピル上のプロトン;
4.56(S,2H)フヱノキシメチレン;495(S
,IH)C2におけるプロトン;5.12(d,IH,
J=5.0HZ)C6におけるブロトン;5.92(q
,IH,J=5.0/9.0HZ)C7におけるプロト
ン。実施例のの方法に従って得られるその他の化合物は
次の通りである:7ーフエノキシアセトアミドー2−メ
トキシー3−メチル−3−セフェム−4−カルボン酸p
−ニトロベンジルから作った7ーフェノキシアセトアミ
ド−2ーメトキシー3−メチル一3ーセフエムー4−カ
ルボン酸。
れは3.5k9/地(5蛇si)の水素圧下で15分間
予備還元されているものである〕0.100夕を含有し
ているエタノール30の‘に加えた。その生成混合物を
室温でかつ3.5k9/地(50psi)の水素圧にお
いて約2時間水素添加処理した。次いでその反応混合物
を炉適して触媒を除去し、その炉液を蒸発乾固させ、そ
の残笹をクロロホルム中に溶解させた。次いでその生成
溶液をセライトに通して炉過し、その炉液を蒸発処理し
て固体残簿を0.076タ得た。次いでその残澄を酢酸
エチルに溶解させ、その酢酸エチル溶液を重炭酸ナトリ
ウム水溶液で抽出した。その水性層を有機層から分離さ
せ、その混合物に酢酸エチルを加えた。次いでその混合
物を1,NのHCIを添加して酸性にした。次いで酢酸
エチル層を水性層から分離させ、塩化ナトリウム水溶液
で洗い、硫酸ナトリウムで乾燥させ、炉過し、蒸発処理
して、7ーフヱ/キシアセトアミドー2−イソブロポキ
シー3ーメチルー3ーセフエムー4ーカルポン酸を64
の9得た。NMR(CDC13)は次の6値を示した:
1.20(d.8日,J=6.0HZ)イソプロピル上
のメチル;2.16(S,QH)ビニルメチル;4.0
(m,IH,』=6.0)イソプロピル上のプロトン;
4.56(S,2H)フヱノキシメチレン;495(S
,IH)C2におけるプロトン;5.12(d,IH,
J=5.0HZ)C6におけるブロトン;5.92(q
,IH,J=5.0/9.0HZ)C7におけるプロト
ン。実施例のの方法に従って得られるその他の化合物は
次の通りである:7ーフエノキシアセトアミドー2−メ
トキシー3−メチル−3−セフェム−4−カルボン酸p
−ニトロベンジルから作った7ーフェノキシアセトアミ
ド−2ーメトキシー3−メチル一3ーセフエムー4−カ
ルボン酸。
分析:m(CHC13)1782節‐1;MS360,
314,267:NMR(CDC13)は次の6値を示
した:2.23(S,9H)ビニルメチル;3.46(
S,汎)メトキシ:4.62(S,が)フヱ/キシメチ
レン;4.79(S,IH)C2におけるプロトン;5
.06(d,IH,J=4.皿Z)C6におけるプロト
ン;5.29(q,IH,J=4.0/9.0)C7に
おけるプロトン。7ーフエノキシアセトアミド−2−エ
トキシ−3ーメチルー3ーセフェム−4−カルボン酸p
−ニトロベンジルから作った7ーフェノキシアセトアミ
ドー2ーエトキシ−3ーメチル−3−セフエム−4ーカ
ルボン酸。
314,267:NMR(CDC13)は次の6値を示
した:2.23(S,9H)ビニルメチル;3.46(
S,汎)メトキシ:4.62(S,が)フヱ/キシメチ
レン;4.79(S,IH)C2におけるプロトン;5
.06(d,IH,J=4.皿Z)C6におけるプロト
ン;5.29(q,IH,J=4.0/9.0)C7に
おけるプロトン。7ーフエノキシアセトアミド−2−エ
トキシ−3ーメチルー3ーセフェム−4−カルボン酸p
−ニトロベンジルから作った7ーフェノキシアセトアミ
ドー2ーエトキシ−3ーメチル−3−セフエム−4ーカ
ルボン酸。
NM股(CDC13)は次の6値を示した:1.26(
t,粗,J:7.0HZ)ェトキシのメチル;2,23
(S,細)ビニルメチル;3.7(m)エトキシのメチ
レン;4.60(S,2H)フエノキシメチレン;4.
90(S,IH)C2におけるプロトン;5.13(d
,IH,J;4.0HZ)C6におけるプロトン;5.
90(q,IH,J=4.0/9.0HZ)C7におけ
るプロトン。7−フエノキシアセトアミド−2−tーブ
トキシー3−メチル−3ーセフェムー4−カルボン酸P
−ニト。
t,粗,J:7.0HZ)ェトキシのメチル;2,23
(S,細)ビニルメチル;3.7(m)エトキシのメチ
レン;4.60(S,2H)フエノキシメチレン;4.
90(S,IH)C2におけるプロトン;5.13(d
,IH,J;4.0HZ)C6におけるプロトン;5.
90(q,IH,J=4.0/9.0HZ)C7におけ
るプロトン。7−フエノキシアセトアミド−2−tーブ
トキシー3−メチル−3ーセフェムー4−カルボン酸P
−ニト。
ペンジルから作った7−フェノキシアセトアミドー2一
tーブトキシ−3ーメチル−3ーセフェムー4ーカルボ
ン酸。NMR(CDC13)は次の6値を示した:1.
32(S,班)t−ブチル:2.17(S,班)ビニル
メチル;4.57(S,が)フェ/キシメチレン;51
0(S,IH)C2におけるプロトン;5.20(d,
IH,J=4HZ)C6におけるプロトン;5.9(q
,IH,J=4/8)C7におけるプロトン。7一(2
ーチエニル)アセトアミドー2ーメトキシ−3ーメチル
ー3ーセフ‐エムー4−力ルポン酸p−ニトロベンジル
から作った7「(2ーチェニル)アセトアミドー2ーメ
トキシー3ーメチル−3ーセフェムー4ーカルポン酸。
tーブトキシ−3ーメチル−3ーセフェムー4ーカルボ
ン酸。NMR(CDC13)は次の6値を示した:1.
32(S,班)t−ブチル:2.17(S,班)ビニル
メチル;4.57(S,が)フェ/キシメチレン;51
0(S,IH)C2におけるプロトン;5.20(d,
IH,J=4HZ)C6におけるプロトン;5.9(q
,IH,J=4/8)C7におけるプロトン。7一(2
ーチエニル)アセトアミドー2ーメトキシ−3ーメチル
ー3ーセフ‐エムー4−力ルポン酸p−ニトロベンジル
から作った7「(2ーチェニル)アセトアミドー2ーメ
トキシー3ーメチル−3ーセフェムー4ーカルポン酸。
分析:m(CHC13)1775伽‐1;MS350:
NMR(CDC13)は次の6値を示した:2.1XS
)ビニルメチル:3.40S)メトキシ;3.7父S.
チオフエンメチレン;4.63、C2におけるプロトン
;4.90、C6におけるブロトン;5.80、C7に
おけるプロトン。実施例 肌 ジメチルホルムアミド20私と氷酢酸3肌との混合物中
に溶解した7−(2ーチェニル)アセトアミド−2ーメ
トキシー3ーアセトキシメチルー3−セフェムー4ーカ
ルボン酸2,2,2ートリクロルヱチル0.270夕の
冷却し(500)かつ蝿拝している溶液に亜鉛粉末0.
270夕を加えた。
NMR(CDC13)は次の6値を示した:2.1XS
)ビニルメチル:3.40S)メトキシ;3.7父S.
チオフエンメチレン;4.63、C2におけるプロトン
;4.90、C6におけるブロトン;5.80、C7に
おけるプロトン。実施例 肌 ジメチルホルムアミド20私と氷酢酸3肌との混合物中
に溶解した7−(2ーチェニル)アセトアミド−2ーメ
トキシー3ーアセトキシメチルー3−セフェムー4ーカ
ルボン酸2,2,2ートリクロルヱチル0.270夕の
冷却し(500)かつ蝿拝している溶液に亜鉛粉末0.
270夕を加えた。
その混合物を冷却しながら約1時間櫨拝した。次いでそ
の混合物を炉過して亜鉛粉末を除去し、その亜鉛粉末を
酢酸エチルで洗い、その洗液を炉液に加えた。次いでそ
の混合物を分液ロートに移し、飽和重炭酸ナトリウム水
溶液で抽出した。その水性重炭酸ナトリウム層を有機層
から分離させ、その水性層に酢酸メチルを加えた。その
混合物を、INのHCIを加えて酸性にした。その酢酸
エチルを酸性化水性層から分離させ、その水性層を、酢
酸エチルを追加して更に抽出した。酢酸エチル抽出物を
一緒にし、次いで塩化ナトリウム水溶液で洗い、硫酸ナ
トリウムで乾燥させ、蒸発処理して7一(2ーチエニル
)アセトアミド−2ーメトキシー3ーアセトキシメチル
−3−セフエムー4−力ルポン酸を得た。NMR(CD
C13)は次の6値を示した:2.01(S)ビニルメ
チル;3.斑6)メトキシ;38皮S)チオフエンメチ
レン;5.92(q,J=5/8Hz)C7におけるプ
ロトン。実施例肌の方法によって得られるその他の化合
物は次の通りである:7−(2ーチエニル)アセトアミ
ド−2−エトキシー3ーアセトキシメチルー3ーセフエ
ム−4−カルボン酸2,2,2−トリクロルェチルから
作った7−(2ーチュニル)アセトアミド−2ーエトキ
シ−3ーアセトキシメチルー3−セフエム−4−カルボ
ン酸。
の混合物を炉過して亜鉛粉末を除去し、その亜鉛粉末を
酢酸エチルで洗い、その洗液を炉液に加えた。次いでそ
の混合物を分液ロートに移し、飽和重炭酸ナトリウム水
溶液で抽出した。その水性重炭酸ナトリウム層を有機層
から分離させ、その水性層に酢酸メチルを加えた。その
混合物を、INのHCIを加えて酸性にした。その酢酸
エチルを酸性化水性層から分離させ、その水性層を、酢
酸エチルを追加して更に抽出した。酢酸エチル抽出物を
一緒にし、次いで塩化ナトリウム水溶液で洗い、硫酸ナ
トリウムで乾燥させ、蒸発処理して7一(2ーチエニル
)アセトアミド−2ーメトキシー3ーアセトキシメチル
−3−セフエムー4−力ルポン酸を得た。NMR(CD
C13)は次の6値を示した:2.01(S)ビニルメ
チル;3.斑6)メトキシ;38皮S)チオフエンメチ
レン;5.92(q,J=5/8Hz)C7におけるプ
ロトン。実施例肌の方法によって得られるその他の化合
物は次の通りである:7−(2ーチエニル)アセトアミ
ド−2−エトキシー3ーアセトキシメチルー3ーセフエ
ム−4−カルボン酸2,2,2−トリクロルェチルから
作った7−(2ーチュニル)アセトアミド−2ーエトキ
シ−3ーアセトキシメチルー3−セフエム−4−カルボ
ン酸。
NMR(CDC13)は次の6値を示した:1.24(
t,汎)ェトキシのメチル:2.09(S,細)ァセト
キシ;3.85(m)チオフェンメチレン、及びェトキ
シのメチレン;5.0(m,岬)アセトキシメチル、C
2におけるプロトン、及びC6におけるプロトン;5.
85(m,IH)C7におけるプロトン。7ーフエノキ
シアセトアミドー2ーメトキシ−3−アセトキシメチル
−3−セフエムー4−力ルボン酸2,2,2ートリクロ
ルェチルから作った7ーフエノキシアセトアミドー2ー
メトキシー3ーアセトキシメチルー3ーセフエムー4ー
カルボン酸。
t,汎)ェトキシのメチル:2.09(S,細)ァセト
キシ;3.85(m)チオフェンメチレン、及びェトキ
シのメチレン;5.0(m,岬)アセトキシメチル、C
2におけるプロトン、及びC6におけるプロトン;5.
85(m,IH)C7におけるプロトン。7ーフエノキ
シアセトアミドー2ーメトキシ−3−アセトキシメチル
−3−セフエムー4−力ルボン酸2,2,2ートリクロ
ルェチルから作った7ーフエノキシアセトアミドー2ー
メトキシー3ーアセトキシメチルー3ーセフエムー4ー
カルボン酸。
NMR(CDCWは次の6値を示した;2.106)ア
セトキシ;3.44S)メトキシ;5.3m)アセトキ
シメチル、C2におけるプロトン、及びC6におけるプ
ロトン;6.0m)C7におけるプロトン。本発明の代
表的な遊離酸化合物の抗生物質活性度を示している結果
を下記の表に表示する。これらの結果は標準のペーパー
ディスク拡散試験法によって得られたものである。表中
、化合物aの各化合物1〜8は次の通りである:1:7
ーフエノキシアセトアミド−2ーメトキシ−3ーメチル
ー3ーセフエムー4ーカルボン酸。
セトキシ;3.44S)メトキシ;5.3m)アセトキ
シメチル、C2におけるプロトン、及びC6におけるプ
ロトン;6.0m)C7におけるプロトン。本発明の代
表的な遊離酸化合物の抗生物質活性度を示している結果
を下記の表に表示する。これらの結果は標準のペーパー
ディスク拡散試験法によって得られたものである。表中
、化合物aの各化合物1〜8は次の通りである:1:7
ーフエノキシアセトアミド−2ーメトキシ−3ーメチル
ー3ーセフエムー4ーカルボン酸。
2:7−フエノキシアセトアミドー2ーエトキシー3ー
メチル−3−セフエムー4−力ルボン酸。
メチル−3−セフエムー4−力ルボン酸。
3:7ーフエノキシアセトアミドー2ーイソプロポキシ
−3ーメチルー3ーセフエムー4ーカルボソ酸。
−3ーメチルー3ーセフエムー4ーカルボソ酸。
4:7−フエノキシアセトアミドー2一tーフトキシ−
3−メチル一3−セフエム−4ーカルボン酸。
3−メチル一3−セフエム−4ーカルボン酸。
5:7一(2ーチエニル)アセトアミド−2ーメトキシ
ー3ーメチル−3ーセフエムー4−力ルボン酸。
ー3ーメチル−3ーセフエムー4−力ルボン酸。
6:7−(2ーチエニル)アセトアミド−2ーメトキシ
ー3ーアセトキシメチル−3−セフエムー4−カルボン
酸。
ー3ーアセトキシメチル−3−セフエムー4−カルボン
酸。
7:7一(2−チエニル)アセトアミドー2ーエトキシ
−3−アセトキシメチル−3ーセフエム−4−カルボン
酸。
−3−アセトキシメチル−3ーセフエム−4−カルボン
酸。
8:7ーフエノキシシセトアミド−2ーメトキシー3ー
アセトキシメチル−3ーセフエムー4ーカルボン酸。
アセトキシメチル−3ーセフエムー4ーカルボン酸。
表中、bは各々2の9/柵と5の9/叫で操作したこと
を意味し、cは各々4m9/泌と12雌/叫で操作した
ことを意味する。
を意味し、cは各々4m9/泌と12雌/叫で操作した
ことを意味する。
表中、Trは痕跡であったことを意味する。
本発明の実施の態様は以下の通りである。‘1} 一般
式1のセフアロスポリン化合物を、陽・性ハロゲン源で
ある塩素、臭素、塩化スルフリル、臭化スルフリル、N
ーハロゲノアミド、N−ハロゲノィミド及び有機/・ィ
ポハラィドからなる群から選ばれた試薬と反応させるこ
とを特徴とする、特許請求の範囲の製造法。
式1のセフアロスポリン化合物を、陽・性ハロゲン源で
ある塩素、臭素、塩化スルフリル、臭化スルフリル、N
ーハロゲノアミド、N−ハロゲノィミド及び有機/・ィ
ポハラィドからなる群から選ばれた試薬と反応させるこ
とを特徴とする、特許請求の範囲の製造法。
■ 陽・性ハロゲン源として塩素を用いることを特徴と
する、特許請求範囲の製造法。
する、特許請求範囲の製造法。
【3’C,〜C4アルコールがメタノール、エタノール
、インプロピルアルコールまたはtーブチルアルコール
であることを特徴とする、特許請求範囲の製造法。
、インプロピルアルコールまたはtーブチルアルコール
であることを特徴とする、特許請求範囲の製造法。
【41反応を約一ITC〜約40℃の温度で行なうこと
を特徴とする、特許請求範囲の製造法。
を特徴とする、特許請求範囲の製造法。
‘61 RIが水素であり、その製薬的に許容される塩
を作ることを特徴とする、特許請求の範囲の製造法。
を作ることを特徴とする、特許請求の範囲の製造法。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式I: ▲数式、化学式、表等があります▼ のセロアロスポリン化合物をC_1〜C_4アルコー
ルの存在下で陽性ハロゲン源である試薬を反応させて一
般式II:▲数式、化学式、表等があります▼ 〔上記の各式において、 RはH_2N−,フエノキシアセトアミド,またはチ
エニルアセトアミドであり; R^1は水素,C_1〜
C_4はアルキル、2,2,2−トリクロルエチルまた
はp−ニトロベンジルであり; R^2は水素またはア
セトキシであり; R^3は水素またはC_1〜C_4
アルキルであり; R^4はC_1〜C_4アルキルで
ある〕の化合物を製造することを特徴とする、新規な2
−アルコキシ−セフアロスポリン化合物;及びR^1が
水素であるその化合物の製薬的の許容される塩の製造法
。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US263907A US3923795A (en) | 1972-06-19 | 1972-06-19 | 2-Alkoxycephalosporins |
US263907 | 1972-06-19 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS4961194A JPS4961194A (ja) | 1974-06-13 |
JPS6031838B2 true JPS6031838B2 (ja) | 1985-07-24 |
Family
ID=23003755
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP48069133A Expired JPS6031838B2 (ja) | 1972-06-19 | 1973-06-19 | 2−アルコキシ−セフアロスポリンの製法 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3923795A (ja) |
JP (1) | JPS6031838B2 (ja) |
BE (1) | BE801029A (ja) |
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