JPS60261007A - 磁気ヘツド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、磁気記録再生に用いる磁気ヘッドに関し、特
に磁性合金膜と酸化物膜を交互に積層した磁性コアを備
えた磁気ヘッドの接地に関する。

従来例の構成とその問題点 従来、ＶＴＲ用のビデオヘッドとしては耐摩耗性に優れ
、加工性の良好なフェライトヘッドが汎用されていた。

しかし、近年合金粉末テープ（抗磁力ＨＣ：１４０００
ｅ、最大残留磁束密度Ｂｒ　！　３０００ｇａｕｓｓ）
や蒸着テープ（Ｈａ　：　８００〜１００００ｅ＋Ｂｒ
　：　５０００ｇａｕｓｓ）などの高抗磁力テープなど
の出現により、７エライトヘツドでは書込み能力に限界
が生じてきた。これは磁気ヘッドを構成する磁性材料の
飽和磁束密度によるもので、フェライトの飽和磁束密度
Ｂｓは約４０００〜５０００ｇａｕｓｓテある。これに
対して磁性合金材料、例えばセンダス）　（９００３ｇ
ａｕｓθ）やアモルファス合金（９０００〜１２０００
ｇａｕｓｓ）などはフエライ）Ｋ対して約２倍の飽和磁
束密度を有しており、高抗磁力テープ用のヘッド材料と
して適している。しかし、これら磁性合金材料は、一般
忙耐摩耗性が劣っており、これを補うため耐摩耗性の基
板で磁性合金をサンドイッチした形の磁気ヘッドが提案
されている。しかし、この磁気ヘッドでは基板の比抵抗
が大きい場合に接地されず、テ−プ摺動によってヘッド
に電荷が帯電し、現象的には、例えばＶＴＲで再生時に
ドロップアウトが多数発生し、Ｓ／Ｎが極めて悪く見る
に耐えない画像になるという問題点があった。

これら従来例の具体構成例を第２図及び第３図により説
り」する。第２図はフェライトヘッドを示しており、フ
ェライトへラドチップ（１）が真鍮などの導電性のある
ヘッドベース（３）に接触せしめられて接着剤にて固定
されている。ヘッドの巻線（２）はへラドベース（３）
上のプリント基板（４）の導電性薄体（５）に半田にて
接続されている。（６）はヘッドシリンダーなどにヘッ
ドを固定するだめのビス孔であシ、ヘッドベース（３）
をビスにてヘッドシリンダー罠固定する様に構成されて
おり、ヘッドチップ（１）はへラドベース（３）、ヘッ
ドシリンダーを介し７てこのヘッドシリンダーを搭載し
たＶＴＲ本体と共通して接地されている。すなわち、フ
ェライトヘッドチップ（１）の比抵抗は、ＭｎＺｎ単結
晶材料では１ｏΩ−伽程度であり、ヘッドベース（３）
に接触せしめることによって充分接地が可能である。

しかし、上記磁性合金をサンドインチした形の磁気ヘッ
ドでは、第６図に示す様に、積層した磁性合金（８）を
耐摩耗性基板（７）で両側からはさみ込んでヘッドチッ
プ（１）が構成されており、耐摩耗性の基板（７）が導
電性の基板（３）に接触することになる。

そのため、耐摩耗性基板（７）がガラスの様Ｋ　４５０
　Ｘ１０　Ω−伽など比抵抗の大なる場合は、磁性合金
（８）が接地されず、上記の様な問題を生じていた。

発明の目的 本発明は、従来のかかる問題点に鑑み、磁性合金と酸化
物を交互に積層した磁性コアを耐摩耗性基板間に介装し
たヘッドチップを備えた磁気ヘッドにおいて、前記磁性
コアを接地し、かつ周波数特性を損うことなく有効な磁
路を確保し、帯電によるドロップアウトがな（Ｓ／Ｎの
良好な磁気ヘッドを提供することを目的とする。

発明の構成 本発明は、このため磁性合金膜と酸化物膜を交で 互に積層した磁性コアを耐摩耗性基板間に介装し＾ ヘッドチップを構成し、このヘッドチップに前記基板及
び磁性コアを貫通して巻線孔を含む複数個の補助孔を設
け、前記巻線孔と隣接した補助孔以外の補助孔の側面又
はヘッドチップの底部の側面に付着した導電体にて前記
磁性コアを接地するととＫよって、帯電を防止し、かつ
磁性コアの性能を生かして周波数特性の優れた高性能の
磁気ヘッドを提供するものである。

実施例の説明 構成例を第２図及び第３図によシ説明する。非磁性の結
晶化ガラス、セラミックスなどからなる耐摩耗性の基板
（ＩＩ）上に例えば非晶質合金膜＠がスパッタリングな
どの手段によって形成され、その上に８１０２などの酸
化物膜α■が形成されている。これら非晶質合金膜０と
酸化物膜α椴が交互に複数層積層されて磁性コア翰が構
成され、その上に低融点ガラスなどの接着層ａりを介し
て前記基板（ロ）と同種の基板Ｑ句が貼着され、これら
基板０ηａＱにて前記磁性コアいがサンドイッチされて
いる。このイ蛛なサンドイッチ構造の一対のコア半休（
２）と（ロ）にてヘッドチップ顛が構成されている。す
なわち、ヘッドチップα１は、一方のコア半休（至）に
、巻線溝（ｌｅａ）および１又は′４Ｉ数の補助溝（１
９ａ）を形成した後、一対のコア半休（転）およびαη
のギャップ面（ハ）を研摩して所定厚みの非磁性膜をギ
ャップスペーサ−として形成し、その後これらコア半休
（ロ）ぐηを突き合せ、前記巻線溝（１８ａ）に低融点
ガラス棒を置いて加熱することによシ両コア半体＠卯を
接合して構成されている。こうしてヘッドチップ顛とし
て一体接合された状態で前記巻線溝（１８ａ）及び補助
溝（１９ａ）が、それぞれ巻線孔（ト）及び補助孔Ｑ０
となる。

なお、前記接着層α→には軟化点が４５０℃の鉛系ガラ
スを、また両コア半休の接合用の低融点ガラスには軟化
点が６６０℃の鉛系ガラスがそれぞれ用いられている。

また、前記巻線溝（１８ａ）の側面には、接合用の鉛ガ
ラスの流れを良くするため忙、クローム、銅な“どの金
属膜（２）がスパッタリングなどによって形成されてい
る。

ところで、巻線溝（１８ａ）に前記金属１（２）を形成
する前の状態では、積層した非晶質合金膜（６）は絶縁
層である５ｉｎｓなどの酸化物膜（至）Ｋよって電気的
に分離されており、これ罠よって磁性コア翰の渦電流損
失が大巾に減少せしめられている。一方、前記金属膜ｅ
ｔｃよって磁性コア（イ）が片一方の側面上、すなわち
巻線溝（１８ａ）の側面上で絶縁が一部破られることに
々るが、この場合も渦電流が生ずることはない。という
のは、渦電流損失は、磁性コアの両側面共に絶縁が破ら
れた状態の場合に生ずるからである。すなわち、磁束が
通る磁路を囲む形で導電体が形成された場合に生ずるも
のである。

このことを第４図により説明する。第４図は、磁性コア
翰の全厚が約３０μｍ、非晶質合金膜ａ埴１層当シの厚
みは約１０μｍ、酸化物膜α場の厚みを０．１μｍとし
てその透磁率を測定したものであシ、曲線の）は絶縁状
態が保たれた状態および片方の側面のみ絶縁が破られた
状態における透磁率の周波数特性を示し、曲線（ト）フ
は磁性コア翰の両側面を導通状態にした場合の透磁率の
周波数特性を示している。

この第４図から、特に高周波領域における透磁率に著し
い差が生ずることがわかる。かくして、磁性コア翰の両
側面を導通状態にすると、著しく透磁率が低下し、ヘッ
ドの再生感度が劣化してヘッド出力が減少することがわ
かる。

本発明は、この点に注目し、磁性コア翰を基板（ロ）と
（至）でサンドイッチしたヘッドチップを備えた磁気ヘ
ッドにおいて帯電によるドロップアウトを防止すべく前
記磁性コアｅＡヲ接地するについて特に工夫したもので
ある。例えば、第７図に示す様に１巻線孔（至）に隣接
して別に形成された補助孔ａ９の側面に導電性の接着剤
（ハ）を付着させて磁性コア（ホ）を導通させて接地す
る様にした場合は、ヘッド巻線（２）を鎖交する磁束（
２）は巻線孔（至）と補助孔Ｑ時間の磁路を通過するが
、この磁路の透磁率が第４図の曲線（ト））に示す特性
とガるため、高周波領域のヘッド出力が大巾に減少する
ことになる。

そこで、本発明においては、第１図（ＩＬ）に示す様に
、巻線孔（ト）に隣接する補助孔αＩＫは導電性の接着
剤（２）は使用せず、ヘッドチップαＱの底部の側面（
ハ）に導電性の接着剤（ハ）を付着し、この接着剤（２
）を介して磁性コア翰を接地する様にしている。かかる
構成によれば、巻線孔（至）と補助孔６０間の磁路の透
磁率は第４図の曲線ＣＤ）に示す特性となシ、補助孔へ
静とヘッドチップ００底部間の磁路の透磁率は第４図の
曲線（ト））の特性となる。従って、前者の方のレラク
タンスは扱者よシ小さくなシ、巻線（２）に鎖交する磁
束−は殆んど前者の磁路を通過し、このため高周波領域
でもヘッド出力の低下が無い。

第１図（ｂ）は別の実施例を示し、巻線孔（ハ）の他に
複数の補助孔ａ■Ｉ設けて、巻線孔（ハ）に隣接する補
助孔θ・以外の補助孔（２）の側面に導電性の接着剤に
）を付着させてこの接着剤（２）を介して磁性コア翰を
接地する様にしている。この場合も、第１図、（ａ）と
同様に巻線（２）と鎖交する磁束−は殆んど巻線孔０的
と補助孔Ｑｏ間の磁路を通るととＫなる。従って、第１
図（ａ）のヘッドと同等の出力を得ることができる。

具体例を示すと、相対速度１１ｍ／Ｅｌ、抗磁カニ１４
０００１１１、最大残留磁束密度：　２８００ｇａｕｓ
ｓの合金粉末テープを用いて測定した結果、第１図ｒ−
＞および同０））の構成のヘッドチップαＱを用いた磁
気ヘッドの２０ＭＨ２における出力レベルは第７図のヘ
ッドチップを用いた磁気ヘッドに対し約２倍の出力レベ
ルとなシ、極めてＳ／Ｎの良好な磁気ヘッドが得られた
。また、合金粉末テープ、蒸着テープなど各種テープで
実験した結果、帯電によるドロップアウトが無く、良質
の画像が得られた。

上記実施例では、巻線溝（１８ａ）の側面に金属膜（財
）を形成したものを例示したが、この金属膜翰の下にＳ
１０！膜などによる絶縁層を形成しても勿論よい。しか
し、この様に絶縁層を形成しても、巻線溝（１８ａ）を
機械加工によって形成した場合かなルの粗面となってい
るため、この絶縁層の効果が十分に発揮できず、部分的
に絶縁が破られていることが多いので、絶縁されていな
いものとして対処した方が安全である。

一方、コア半休（至）およびα力のギャップ面に）と反
対側の面においても、機械加工によって非晶質合金膜（
イ）が隣接する非晶質合金膜側にフローして絶縁が破ら
れていることが多いので、よく研摩してフローを防止し
、絶縁状態を確保する様にしておくのが望ましい。

発明の効果 本発明の磁気ヘッドによれば、以上の説明から明らかな
様に、磁性合金膜と酸化物膜を交互に積層した磁性コア
を耐摩耗性基板間に介装したヘッドチップを有する磁気
ヘッドにおいて、前記磁性コアを導電体にて確実に接地
できるため、帯電によるドロップアウトがな（、Ｓ／Ｎ
の良い出力が得られ、かつ前記導電体を巻線孔と隣接し
た補助孔以外の補助孔の側面又はヘッドチップの底部の
側面に付着したことにより渦電流の発生を大巾に改善で
き、前記磁性コアの性能を有効に発揮せしめて高周波領
域においても高い出力レベルを得ることができる等、大
なる効果を発揮する。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）、（＋））は各々本発明の一実施例の要部
であるヘッドチップの構成図、第２図は同ヘッドチップ
の製造過程におけるコア半休の斜視図、第３図は第２図
のＡ−Ａ線断面図、第４図は透磁率の周波数特性図、第
５図及び第６図は各々従来例の斜視図、第７図は本発明
との対比構成例を示す第１図（ａ）又は（１））と同様
の構成図である。 αＱ・・・ヘッドチップ、（ロ）（ト）・・・耐摩耗性
基板、θカ・・・磁性合金膜（非晶質合金膜）、０・・
・酸化物膜、（至）・・巻線孔、α呻（ホ）・・・補助
孔、（ホ）・・・磁性コア、（ハ）・・・底部、（ハ）
・・・導電体。 ＠１　図 第５図 ＠６図　第７図 第４図 第２図　・ ７

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）磁性合金膜と酸化物膜を交互に積層した磁性コア
   を耐摩耗性基板間に介装してヘッドチップを構成し、こ
   のヘッドチップに前記基板及び磁性コアを貫通して巻線
   孔を含む複数個の補助孔を設け、前記巻線孔と隣接した
   補助孔以外の補助孔の側面又はヘッドチップの底部の側
   面に付着した導電体にて前記磁性コアを接地した磁気ヘ
   ッド。
2. （２）　導電体として導電性の接着剤を用いた特許請求
   の範囲第１項に記載の磁気ヘッド。