JPS60253200A - Ｘ線写真装置 - Google Patents

Ｘ線写真装置

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JPS60253200A
JPS60253200A JP60053204A JP5320485A JPS60253200A JP S60253200 A JPS60253200 A JP S60253200A JP 60053204 A JP60053204 A JP 60053204A JP 5320485 A JP5320485 A JP 5320485A JP S60253200 A JPS60253200 A JP S60253200A
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damping element
damping
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vane
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はスリット放射線写真装置に関するものである。
スリット絞りとｗＪ働する個別的制御可能な減衰要素を
含むこのような装置１１参考としてここに述べる同時係
属のオランダ特許出願番号８４００８４５ＶＣ記載され
ている。オランダ特Ｗ［出頭番号８４００８４５ｖＣＶ
ｉ適切な減衰要素の様々な実施例が述べられている。オ
ランダ特許出願番勿８４００８４５で述べられている大
部分の減衰手段は、Ｘ線減衰物賀で作られたあるいけそ
のような物質で被覆された並列する個別的！素の使用に
基くものであり、そしてこの並列する各々の要素は、適
旨な制御信号に制御されて、少くとも部分的に、スリッ
ト絞りを通過したあるいは通過丁べきＸ線ビームへ移さ
せることができ、これによって１１１１記Ｘ線ビームを
局部的に減衰する。
このような個別的要素が使用される場合、制御信号の作
用によって要素が望ましくない振動状態に陥ったり、要
素の位置の変更時にその位置が行き過ぎたりする危険性
がある。したがって、振動を減衰させたり個々の減衰要
素を滑動させるような手段が必要である。
本発明の目的はこの要求を満たすことであるθこの目的
を達成するために、本発明に従い、前記のような種類の
装置は各々の減衰要素が減衰手段に固定されていること
を特徴とする。
第１図Ａは、従来のスリット放射線写真装抑の方法で作
動するＸ線源２から発生する実質的には平板な扇形状の
Ｘ線ビームＢが通過するような、スリットＳを備えたス
リット絞り１の断面の一概略図である。
類似する複数の屏列する減衰要素に関連した長手減衰要
素３の自由端は作動中、大１１１ｈｌＫあるいはやや、
Ｘ線ビームＢに延びる。各々の減衰要素は作１１の中、
図示されていない制御手段の作用によって、矢符４のよ
うに固定部５ＶＣ関して旋回するように作られる。適切
な制御手段は同時係属中のオランダ特許出願番ち８４０
０８４５ＶＣ述べられている。ｎｆＪ記制御手段は本発
明の構成部分ではないため、ここではこれ以上述べない
。
＠１図に示された実施例では、各々の減衰要素３は減衰
要素３の畏手方向に関してこれを横切る方間ＶＣ延びる
連結棒６を含みｎｆＪ記連結棒６の減衰要素３から遠い
方の一端は、シリンダー８内に配置きれたピストン７に
連結している。前記シリング−８ｉ１、”１知の方法に
より、シリング−８内のピストン７の動きをある程度抑
える、例えば油のような液体で満たされ、このため減衰
要素３の振動やすべりが防がれる。
第１図Ｂはスライド状の減衰要素３′を用いた類似する
減衰手段を表すものである。これより以降述べる本発明
の実施例にはしたがってスライド状および投手の同転減
衰要素の両者ニ用いることができる。
第２図および第３図に表わされる木発シ］の実施例でけ
、各々の減衰要素３はＷ　ｌ／Ｊな液体１０で満たσれ
た容器１１ＶＣ廷びる羽根９を含む。減衰病ｉＶＣはた
とえば油、アルコールあるいは水などが使用される。
この羽根ＱＶｉ線９ａで示されるように波状にしてもよ
く調性素材で形成してもよい。この羽根９はにかわで減
衰要素３Ｖｃ連結されており、合成プラスチック素材で
作られることが望−ましい。寸た、この羽根９Ｖｉ連結
捧６によって減衰要素３に連結される。このような実施
例はスライド状の減衰要素３に特に適する。容器１１ｔ
−を適切ならどんな物質によっても作られる。第３図は
容器１１の前部壁を取り除いた第２図の前面の修正した
正面図である。減衰取素３ａ〜３ｆＶＣｉｌｔ各々、容
器ｌｌ中の液体１０に延びる羽根９ａ〜９ｆが取り付け
られる。
関連した減衰要素の移切中に、羽根が相互に損耗するの
を防ぐために、好しくは各器會て並列する仕切り１２〜
１６が備えられ、こうして個々の羽根が個有の容器中の
隔室ｆ−練びる。
さらに、仕切り１２〜１６は減衰幼果を嶋める。
減衰の程度は容器中の選択した液体の粘度と容器中の選
択した液体の水面の高さと、選択した羽根の形状Ｖｃ影
Ｑ＃きれる。所望ならば、容ｌａを種々の混和しにくい
液体の複数の層で満たすことも可能である。
９Ｊ４図は第２図および第３図の変形であり、ここでは
個々の羽根は合成プラスチック素材でできており、その
両面Ｖｉ部分的ＶＣ導電物質の層１７ａ〜１７ｄで被′
＆される５町確にするために羽根を備えた２つの減衰要
素のみを図示する。導電物質の層に近接して、容器１１
０両側に配置σれたＮ極と５ｔＩｋにより前述の羽根に
対して横方向の方向性を４１する不均一な磁場が発生す
る。減衰Ｖｉｌｌｆｌ述の層１７ａ〜１７ｄが磁場に相
対的ＶＣ移動すると１司時に、層１７ａ−１７ｄＶＣう
ず電流積が生じることにより達成される（７−コー幼果
〕、この場合、茶器１１ｉ、ｉ銅で作られることがψま
しい。
うず電流積による減衰手段は第４図に表わされるように
減衰効果のある液体を保有する容器と組み合わせて使用
することができる。
これらおよび他の修正は上記内容を読めば、発明の範囲
を逸脱することなく当業者には抽単に考えつく。例えば
、不均一な磁場の作用によってうす電流積が生じるよう
な導電性の金網羽根を減衰要素に取り付けることが可能
である。この場合、第４図に示される実施例から層１７
を省くことができる。
導電層を一側部のみに取り付けた不専亀素材の羽根を使
用することも６Ｊ飯である。仁のような修正は本発明の
範囲を逸脱するものでけないと思われる。
木兄ｌ′９ＪはＦ記の崗様で実施が口」能である。
（１）　スリット絞りと協働する個別的制御可能な減衰
υ素を含む装置＠であって、各々の減衰要素が減衰手段
に固″ごきれていることを特徴とするスリット放射線写
真装置。
（２）　各々の制御凸■能な減衰要素は連結手段によっ
て、液体で縞たされたシリンダー内ＶＣ設置されたピス
トンに連結されることを特徴とするスリット絞りと協働
する個別的制御ｉｊＪ’能な減衰要素を含むスリット放
射線写真装置。
（３）各々の制御可能な減衰要素は液体の入った容器に
延在する羽根を含むことを特徴とするスリット絞りと協
働する個別的制御可能な減衰要素を含むスリット放射線
写真装置。
（４）　羽根は液状であることを特徴とするスリット絞
りと協働する個別的制御口」能な減衰要素を含むスリッ
ト放射線写真装置。
ｔｈ＋　ｎｅＩ記′８器は、並置隔室を形成する隔壁を
含み、減衰要素の羽根はそれぞれの区分へｂ！：ひるこ
とを特徴とするスリット絞−りと協働する個別的制御可
能な減衰要素を含むスリット放射線写ａ装賄、（６）各
々の羽根の少くとも１側部の少くとも１部分に１−１＊
電性物質が４Ａえられ、この羽根に対して横方向の方向
性を有する不均一な磁場を発生させるための手段が設け
られることを特徴とするスリット絞りと協働する個別的
制御＝Ｊ能な減衰要素を含むスリット放射線写真装置ｒ
：ｔ　。
（７）　羽根は堺電性物質で作られ、この羽根に対して
横方向の方向性を有する不均一な磁場を発生させるため
の手段が設けられたことを特徴とするスリット絞りと協
働する個別的減衰要素金倉むスリット放射線写真装ｈ″
０ （８）各々の減衰要素は、少くとも１側部に少くとも部
分的に＃電性材料から成る層が設けられた不導電性材料
から成る羽根を含み、ｎ１１記羽根に対して桶力回の方
向（４を４１−する不均一磁場を発生するたぬの￥一段
が３μけられていることを特徴とするスリット絞りと協
働する個別的制御口Ｉ能な減衰要素を含むスリット放射
線写真装ば。
（９１各々の減衰要素は辱電性物賀の羽根を含み、０１
〕記羽根に対して横方向の方向性を有する不均一な磁場
を発生させるための手段が設けられていることを特徴と
するスリット絞りと協働する個別的減衰要素を含むスリ
ット放射線写真装置。
【図面の簡単な説明】
第１図Ａおよび第１図Ｂは本発明に従う装置ｇの第１実
施例の概略図、第２図は本発明に従う装置の概略の側面
図、第３図は第２図の線ト１の部分の断面図、第４図は
木発１４１に従う装置の第３実施例の概略図であるっ １・・・スリット絞り、２・・・Ｘ線源、３・・・減衰
要素、３３〜３ｆ・・・減衰要素、３′・・・減衰要素
、４・・・矢−」、５・・・固定部、６・・・連結棒、
７・・・ピストン、８・・・シリンダー、９・・・羽根
、９８〜９ｆ・・・羽根、１ｏ・・・液体、１１・・・
容器、１２〜１６・・・隔壁、１７８〜１７ｄ・・・４
電物￥９、Ｓ・・スリット、１３・・・Ｘ線ビーム 代用１人　弁理士　西教圭−祁 手続補正ＩＦ（方式） ％式％ ２、発明の名称 スリット絞りと協働する個別的制御可能な減衰要素を含
むスリット放射線写真装置 ３、補正をする者 事件との関係　出願人 住　所　オランダ国２６１２イクスエーデル７ト・７ア
ンミーレベルトラーン９ 名称　エヌ・ベー・オプテイツシよりインダストリエ・
“デ・オーダ・デル７ト” 代表者　シモン・ディンカー 国籍　オランダ国 ４、代理人 住　所　大阪市西区西本町１丁目１３番３８号　新興産
ビル国装置ＥＸ　０５２５−５９８５　１ＮＴＡＰＴ　
、Ｊ国際ＦＡＸ　ＧＩ＆Ｇｎ　（０６）５３８−０２４
７６、補正の対象 明細書 ７、補正の内容 明細書の浄書（内容に変更なし）。 以　上

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 Ｉｌ＋　スリット絞りと協働する個別的制御口Ｉ能な減
    衰政素を含む装置であって、各々の減衰要素が減衰手段
    に固定びれていることを特徴とするスリット放射線写真
    装置。 （２）　各々の制御可能な減衰要素は連結手段によって
    、液体で満たされたシリンダー内ＶＣ設置されたピスト
    ンＶＣ述結されることを特徴とする特許請求の範囲第１
    項記載のスリット絞りと協働する個別的制御可能な減衰
    要素を含むスリット放射線写真装置。 （３）各々の制御可能な減衰要素は液体の入った容器に
    廷在する羽根を含むことを特徴とする特許Ｍ末の範囲第
    １項記載のスリット絞りと協働する個別的制御可能な減
    衰要素を含むスリット放射線写真装置。 （４１羽根は波状であることを特徴とする特許請求の範
    囲第３項記載のスリット絞りと協働する個別的制御口Ｊ
    能な減衰要素を含むスリット放射線写真装置。 （５１ｇｆＪ記容器は、並置隔室ケ形成する隔壁を含み
    、減衰要素の羽根はそれぞれの隔室へ延びることを特徴
    とする特許請求の範囲第３項記載のスリット絞りと協働
    する個別的制御口１ｆｋな減衰要素を含むスリット放射
    線写真装置。 （６）　各々の羽根の少くとも１１１１１１都の少くと
    も１部分にｆｉ導電性物質が備えられ、この羽根に対し
    て横方向の方向性を有する不均一な磁場を発生させるた
    めの手段が設けられることを特徴とする特許請求の範囲
    第５項記載のスリット絞りと協働する個別的制御ｉ＝Ｊ
    能な減衰要素を含むスリット放射線写真装置。 （７）羽根Ｖｉ導電性物質で作られ、この羽根に対して
    横方向の方向性を有する不均一な磁場を発生させるため
    の手段が設けられたことを特徴とする特許請求の範囲第
    ６項記載のスリット絞りと協働する個別的減衰要素を含
    むスリット放射線写真装置。 （８）　各々の減衰要素は、少くとも１側部に少くとも
    部分的に４電性材料から成る層が設けられた不導電性材
    料から成る羽根を含み、前記羽根に対して横方向の方向
    性を有する不均一磁場を発生するための手段が設けられ
    ていることを特徴とする特許請求の範囲第１ＪＡ記載の
    スリット絞りと協働する個別的制御１」能な減衰要素を
    含むスリット放射線写真装置。 （９）各々の減衰留素Ｖ′ｉ導電性物質の羽根を含み、
    ＠記４羽根に対して横方向の方向性を有する不均一な磁
    場を発生させるための手段が設けられていることを特徴
    とする特許請求の範囲第１項記載のスリット絞りと協働
    する個別的減衰要素を含むスリット放射線写真装置。
JP60053204A 1984-03-16 1985-03-16 Ｘ線写真装置 Granted JPS60253200A (ja)

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NL8400845 1984-03-16

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