JPS60253199A - X線写真装置 - Google Patents
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- JPS60253199A JPS60253199A JP60053203A JP5320385A JPS60253199A JP S60253199 A JPS60253199 A JP S60253199A JP 60053203 A JP60053203 A JP 60053203A JP 5320385 A JP5320385 A JP 5320385A JP S60253199 A JPS60253199 A JP S60253199A
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- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B6/00—Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
- A61B6/02—Arrangements for diagnosis sequentially in different planes; Stereoscopic radiation diagnosis
- A61B6/03—Computed tomography [CT]
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- A61B6/00—Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
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- A61B6/4035—Arrangements for generating radiation specially adapted for radiation diagnosis the source being combined with a filter or grating
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- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/02—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators
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- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
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- G21K1/02—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、X線源を含み、それによって照射される物体
が、スリット絞りを介して実質上平面ファン型X線ビー
ムによって走査され、被照射体を通過する走査X線ビー
ムがX#探知器に当たるようなスリット放射線写真装置
に関する。
が、スリット絞りを介して実質上平面ファン型X線ビー
ムによって走査され、被照射体を通過する走査X線ビー
ムがX#探知器に当たるようなスリット放射線写真装置
に関する。
スリット絞りと協働する制御可能な減衰要素を含んだ装
置は、係属中のオランダ特許出願8400845に表わ
されており、参考のためにここに加えられる。オランダ
特許出願8400845では、減衰要素のために必要と
する制御信号を発生するいくつかの方法が述べられてい
る。オランダ特許出願8400845に表わされている
ほとんどの場合、その目的のために、用いられるX線探
知装置の出口側に備えられた一連の光探知器が使用され
ている。すなわち各光探知器は、スリット絞りのセクシ
ョンに対応し、制御手段を介して、前記セクションと協
働する減衰要素あるいは前記セクションと協働する減良
要素群を制御する。
置は、係属中のオランダ特許出願8400845に表わ
されており、参考のためにここに加えられる。オランダ
特許出願8400845では、減衰要素のために必要と
する制御信号を発生するいくつかの方法が述べられてい
る。オランダ特許出願8400845に表わされている
ほとんどの場合、その目的のために、用いられるX線探
知装置の出口側に備えられた一連の光探知器が使用され
ている。すなわち各光探知器は、スリット絞りのセクシ
ョンに対応し、制御手段を介して、前記セクションと協
働する減衰要素あるいは前記セクションと協働する減良
要素群を制御する。
しかしながら、光の漏れないxmフィルムカセットがX
線探知器として用いられるとき、この技術は簡単な方法
で行なわれることができない。
線探知器として用いられるとき、この技術は簡単な方法
で行なわれることができない。
したがって、本発明の目的は、光漏れのないX線フィル
ムカセットが用いられるときでも、減衰要素に必要な制
御信号が簡単でしかも確かな方法で得ることができるよ
うな、スリット絞りと協働する制御可能な減衰要素を含
んだスリット放射線写真装置を提供することである。
ムカセットが用いられるときでも、減衰要素に必要な制
御信号が簡単でしかも確かな方法で得ることができるよ
うな、スリット絞りと協働する制御可能な減衰要素を含
んだスリット放射線写真装置を提供することである。
本発明によれば、上記の装置は、スリット絞りと協働す
る制御可能な減衰要素を含み、各要素は、放射線探知装
置によって発生される信号が制御されながら、走査X線
ビームの領域に作用するようにし、また、放射線探知装
置は被照射体とX線探知器との間に置かれ、また放射線
探知装置は、いかなるときでも物体を通過した走査xl
fQビームに延びかつX線ビームの走査動作と同期して
動くような少なくとも1つの放射線探知器を含むという
特徴がある。放射線探知装置は、減衰要素によって作用
されることのできる走査X線ビームの領域に対応するよ
うなセクションに分割され、操作中においては、放射線
探知装置の各セクションは、減衰要素の制御のために使
用される信号を発生する。
る制御可能な減衰要素を含み、各要素は、放射線探知装
置によって発生される信号が制御されながら、走査X線
ビームの領域に作用するようにし、また、放射線探知装
置は被照射体とX線探知器との間に置かれ、また放射線
探知装置は、いかなるときでも物体を通過した走査xl
fQビームに延びかつX線ビームの走査動作と同期して
動くような少なくとも1つの放射線探知器を含むという
特徴がある。放射線探知装置は、減衰要素によって作用
されることのできる走査X線ビームの領域に対応するよ
うなセクションに分割され、操作中においては、放射線
探知装置の各セクションは、減衰要素の制御のために使
用される信号を発生する。
本発明は、光漏れのないX線フィルムカセットや他の種
のX線探知器が用いられる場合でも使用されることがで
きる。
のX線探知器が用いられる場合でも使用されることがで
きる。
本発明による実施例は添付図面を参照して説明される。
第1図は、本発明の第1実施例を概略的に示し、X線焦
点2を有するX線源1を示している。X線源は、操作中
において、X線ビームBを発生し、そのうち実質的に平
面なファン型部分B′は原則としてスリット絞り3のス
リットSを通過することができる。さらにこの図面は、
被照射体4とその被照射体の後方に配置されるX線探知
器5を示し、前記XS探知器5は、図示しないケーシン
グ内に設けられている。このX線探知器5は従来のもの
でよいが、本件実施例では、裏側にX線螢光スクリーン
6とx+11!フィルム7とを収容する光漏れのないX
線フィルムカセット1こよって形成されている。成る種
のX線フィルムカセットではX線フィルムの後方に第2
X線螢光スクリーンが配置されている。このようなフィ
ルムカセットの代わりに、大型入ロスクリーンを有する
固定されたX線像増強管あるいはストリップ状の入口ス
クリーンを有するX#j像増強管を使用してもよい。後
者の場合、X線像増強管は操作中において走査動作を行
なう。
点2を有するX線源1を示している。X線源は、操作中
において、X線ビームBを発生し、そのうち実質的に平
面なファン型部分B′は原則としてスリット絞り3のス
リットSを通過することができる。さらにこの図面は、
被照射体4とその被照射体の後方に配置されるX線探知
器5を示し、前記XS探知器5は、図示しないケーシン
グ内に設けられている。このX線探知器5は従来のもの
でよいが、本件実施例では、裏側にX線螢光スクリーン
6とx+11!フィルム7とを収容する光漏れのないX
線フィルムカセット1こよって形成されている。成る種
のX線フィルムカセットではX線フィルムの後方に第2
X線螢光スクリーンが配置されている。このようなフィ
ルムカセットの代わりに、大型入ロスクリーンを有する
固定されたX線像増強管あるいはストリップ状の入口ス
クリーンを有するX#j像増強管を使用してもよい。後
者の場合、X線像増強管は操作中において走査動作を行
なう。
示されたこの状態においては、スリット絞りを通過した
X線ビームBは、被照射体4のストリップ状の部分を照
射するのみで、loで示されるようにX線探知器の入口
スクリーンに像が写し出される。被照射体のより広い部
分の像を得るためには、X線ビームは紙面上での走査動
作を行なうようになっている。このことは本発明の要素
を形成しない異なった方法で行なうことができる。たと
え・はスリット絞りに矢符8で示されるような動作をさ
せることによってである。スリット絞りは、複数の制御
可能な減衰要素9と協働する。減衰要素は並置されてお
り、たとえばその端部のうちの1つに配置されて、適切
な制御信号の作用によって、減衰要素が、大幅あるいは
小さい程度で、スリットSを通ったあるいは通るべきビ
ームBに延びることができるようにされてもよい。この
ようにX線ビームは、オランダ特許出願8400845
に述べられているように、瞬間的そして局部的に大幅あ
るいは小さい範囲で減衰される。スリット絞りのスリッ
トは、走査が垂直、水平あるいは中間方向に行な、われ
でいるとき、水平、垂直あるいは中間位置を占めてもよ
い。
X線ビームBは、被照射体4のストリップ状の部分を照
射するのみで、loで示されるようにX線探知器の入口
スクリーンに像が写し出される。被照射体のより広い部
分の像を得るためには、X線ビームは紙面上での走査動
作を行なうようになっている。このことは本発明の要素
を形成しない異なった方法で行なうことができる。たと
え・はスリット絞りに矢符8で示されるような動作をさ
せることによってである。スリット絞りは、複数の制御
可能な減衰要素9と協働する。減衰要素は並置されてお
り、たとえばその端部のうちの1つに配置されて、適切
な制御信号の作用によって、減衰要素が、大幅あるいは
小さい程度で、スリットSを通ったあるいは通るべきビ
ームBに延びることができるようにされてもよい。この
ようにX線ビームは、オランダ特許出願8400845
に述べられているように、瞬間的そして局部的に大幅あ
るいは小さい範囲で減衰される。スリット絞りのスリッ
トは、走査が垂直、水平あるいは中間方向に行な、われ
でいるとき、水平、垂直あるいは中間位置を占めてもよ
い。
減衰要素は、物体を通ったX線量に応じて制御されなけ
ればならない。本発明によれば、被照射体4とX線探知
器との間に設けられた放射線探知装置が使用され、前記
放射線探知装置は、物体を通り過ぎた放射線をいかなる
時でも探知できるようになっている。すなわち減衰要素
9あるいは減衰要素群に対応する、物体を通過したX線
ビームの、各領域について、個別的に探知できる。
ればならない。本発明によれば、被照射体4とX線探知
器との間に設けられた放射線探知装置が使用され、前記
放射線探知装置は、物体を通り過ぎた放射線をいかなる
時でも探知できるようになっている。すなわち減衰要素
9あるいは減衰要素群に対応する、物体を通過したX線
ビームの、各領域について、個別的に探知できる。
本発明によれば、放射線探知装置は、物体とX線探知器
との間で、操作中では、X線ビームBによって行なわれ
た走査動作に同期して走査を行なう。
との間で、操作中では、X線ビームBによって行なわれ
た走査動作に同期して走査を行なう。
この目的のために、放射線探知装置は、X線ビームが走
査動作を行なわせる手段にメカニカルあるいはエレクト
ロメカニカルに連結される。放射線探知装置はたとえば
X線探知器5の両に置かれてもよく、操作中には垂直の
走査動作を行なうこともできる。
査動作を行なわせる手段にメカニカルあるいはエレクト
ロメカニカルに連結される。放射線探知装置はたとえば
X線探知器5の両に置かれてもよく、操作中には垂直の
走査動作を行なうこともできる。
第1図に示される実施例では、放射線探知装置は、スリ
ット絞りからX線探知器の方向に延びているアーム11
に固着される。このアームは、矢符12で示されるよう
に、紙面に垂直でX線焦点2を通って延びる実際のある
いは実質上の回転軸に関して回転するようになっている
。このアームは、いかなるときでもスリット絞りを通り
過ぎたX線ビームを超えている。アーム11は、第1図
に示されるように、スリット絞りに適切に固定されて、
アーム動作とスリット絞りの動作(すなわちX線ビーム
の走査動作)との同期が確実に行なわれる。しかし、そ
のようなアームのスリット絞りへの一体的な結合は不可
欠のものではない。重要なことは、アームがX線ビーム
B′に同期して動作することのみである。
ット絞りからX線探知器の方向に延びているアーム11
に固着される。このアームは、矢符12で示されるよう
に、紙面に垂直でX線焦点2を通って延びる実際のある
いは実質上の回転軸に関して回転するようになっている
。このアームは、いかなるときでもスリット絞りを通り
過ぎたX線ビームを超えている。アーム11は、第1図
に示されるように、スリット絞りに適切に固定されて、
アーム動作とスリット絞りの動作(すなわちX線ビーム
の走査動作)との同期が確実に行なわれる。しかし、そ
のようなアームのスリット絞りへの一体的な結合は不可
欠のものではない。重要なことは、アームがX線ビーム
B′に同期して動作することのみである。
アームは、被照射体を超えて延び、その被照射体を越え
て延びる端部に従属アーム13を備え、従属アームは、
アーム11から見た末端部においてX線螢光スクリーン
14を担持する。
て延びる端部に従属アーム13を備え、従属アームは、
アーム11から見た末端部においてX線螢光スクリーン
14を担持する。
XM螢Rスクリーン14は、いかなる時でも、少なくと
もある程度物体を通ったX線ビームに延び、放射線探知
器を適切に形成する。従属アーム13はまた並置された
一連のレンズ15を担持する。し/ズ15の数は減衰要
素(群)の数多こ対応している。レンズはいかなるとき
でも物体を通ったX線ビームを超えて位置するように従
属アーム13に備えられている。各レンズは、X線螢光
スクリーンに当たるXlsの作用によって、X線螢光ス
クリーンの任意の領域で発生された光を集める。
もある程度物体を通ったX線ビームに延び、放射線探知
器を適切に形成する。従属アーム13はまた並置された
一連のレンズ15を担持する。し/ズ15の数は減衰要
素(群)の数多こ対応している。レンズはいかなるとき
でも物体を通ったX線ビームを超えて位置するように従
属アーム13に備えられている。各レンズは、X線螢光
スクリーンに当たるXlsの作用によって、X線螢光ス
クリーンの任意の領域で発生された光を集める。
前記領域は、スリット絞りを通過したあるいは通過する
べきX線ビームBの領域に再び対応し、減衰要素9ある
いは減衰要素群によって作用されつる。
べきX線ビームBの領域に再び対応し、減衰要素9ある
いは減衰要素群によって作用されつる。
各レンズは、アーム11.13部に同様に固定された対
応する信号送信器16、たとえば光の輝度に対応する電
気信号を送信する光探知器もに集められた光を束ねる役
目を果す。前記電気信号は、ライン17を介して概略的
に示された制御装置18に送られる。制御装置18は、
受信した信号から、関係する光探知器に対応する減衰要
素のために制御信号を形成する。
応する信号送信器16、たとえば光の輝度に対応する電
気信号を送信する光探知器もに集められた光を束ねる役
目を果す。前記電気信号は、ライン17を介して概略的
に示された制御装置18に送られる。制御装置18は、
受信した信号から、関係する光探知器に対応する減衰要
素のために制御信号を形成する。
螢光スクリーン14は、この実施例で示されるように、
走査X線ビームに角度を設けて備えられており、比較的
高い光出力が比較的薄いスクリーンに得られる。しかし
ながら、このことは不可欠なことではない。もちろん螢
光スクリーンは、走査X線ビームを最小限に照射するよ
うに設計されねばならない。
走査X線ビームに角度を設けて備えられており、比較的
高い光出力が比較的薄いスクリーンに得られる。しかし
ながら、このことは不可欠なことではない。もちろん螢
光スクリーンは、走査X線ビームを最小限に照射するよ
うに設計されねばならない。
X線螢光スクリーン14は、紙−面を横切る方向に延び
るスクリーンであってもよいが、X線ビームの種々の領
域の間により適切を間隔が望まれるのなら、スクリーン
は、並置されているが互いtこ独立した複数のスクリー
ン部分によって構成されていてもよい。
るスクリーンであってもよいが、X線ビームの種々の領
域の間により適切を間隔が望まれるのなら、スクリーン
は、並置されているが互いtこ独立した複数のスクリー
ン部分によって構成されていてもよい。
第2図は、第1図で示される放射線探知装置の変形を概
略的に示し、アーム11.13あるいは同様に対応する
部分は省略された。スリット絞りを通る走査X@ビーム
は第2図参照符20で示されている。X線フィルムカセ
ット7あるいは他の偉X線探知器に当たる前に、X線ビ
ーム20は、第2図には1つが示されているけれども、
並置された一連のシンチレーション結晶要素21を通り
、たとえばゲルマニウムヨウ化結晶体が使われてもよく
、X放射線の作用で光を生み出す。各シンチレーション
結晶要素は、光探知器22に光学的に連結され、結合さ
れたシンチレーション結晶要1に応答して、対応する減
衰要素あるいは対応する減衰要素群のための制御信号を
形成するために再び使用されることのできる電気信号を
生み出す。
略的に示し、アーム11.13あるいは同様に対応する
部分は省略された。スリット絞りを通る走査X@ビーム
は第2図参照符20で示されている。X線フィルムカセ
ット7あるいは他の偉X線探知器に当たる前に、X線ビ
ーム20は、第2図には1つが示されているけれども、
並置された一連のシンチレーション結晶要素21を通り
、たとえばゲルマニウムヨウ化結晶体が使われてもよく
、X放射線の作用で光を生み出す。各シンチレーション
結晶要素は、光探知器22に光学的に連結され、結合さ
れたシンチレーション結晶要1に応答して、対応する減
衰要素あるいは対応する減衰要素群のための制御信号を
形成するために再び使用されることのできる電気信号を
生み出す。
シンチレーション結晶要素の効果的な光出力を増大させ
るためには、各シンチレーション結晶要素は、好ましく
は光探知器の結合側を除いたすべての側部で、内部的に
反射する層を備える。同時に層は、たとえばシンチレー
ション結晶要素が概して吸湿性の特性を有するために問
題となる湿気作用のような外部の影響に対して、シンチ
レーション結晶要素を保護する。
るためには、各シンチレーション結晶要素は、好ましく
は光探知器の結合側を除いたすべての側部で、内部的に
反射する層を備える。同時に層は、たとえばシンチレー
ション結晶要素が概して吸湿性の特性を有するために問
題となる湿気作用のような外部の影響に対して、シンチ
レーション結晶要素を保護する。
第3図は、本発明に従う放射線探知装置の第2の変形で
ある。走査X線ビームは再び参照符20で示されている
。一連のシンチレーション結晶要素に代えて、一連の並
置された電離箱30が用いられ、その1つが概略的に示
されている。各′4#箱は2つの電極31.32を含む
。その電極間には差動電圧がかかる。電離箱がエネルギ
の豊富な放射線たとえばX線によって照射されるとき、
電極31.32に連結される電気回路に電流が流れる結
果となり、さらに、1つあるいはそれ以上の対応する減
衰要素のための制御信号が得られる。
ある。走査X線ビームは再び参照符20で示されている
。一連のシンチレーション結晶要素に代えて、一連の並
置された電離箱30が用いられ、その1つが概略的に示
されている。各′4#箱は2つの電極31.32を含む
。その電極間には差動電圧がかかる。電離箱がエネルギ
の豊富な放射線たとえばX線によって照射されるとき、
電極31.32に連結される電気回路に電流が流れる結
果となり、さらに、1つあるいはそれ以上の対応する減
衰要素のための制御信号が得られる。
もちろん、走査ビーム20の方向に向かって少なくとも
前壁と後壁とは、X線を減衰することのないあるいはほ
とんどないような物質でなければならない。複数の個別
峨離箱に代えて、単一の長手電離箱を、電離箱の全長す
なわち紙面を横切る方向に延びる1つの共通の電極を有
し、また対応する減衰要素のための制御信号が得られる
ような複数の個別電極を有して用いてもよい。
前壁と後壁とは、X線を減衰することのないあるいはほ
とんどないような物質でなければならない。複数の個別
峨離箱に代えて、単一の長手電離箱を、電離箱の全長す
なわち紙面を横切る方向に延びる1つの共通の電極を有
し、また対応する減衰要素のための制御信号が得られる
ような複数の個別電極を有して用いてもよい。
長手電離箱は′s4図に参照符40で示されている。共
通電極は41で示され、共通電極と反対の電極は42a
〜42eで示されている。共通成極は複数の個別電極の
相互連結と考えることができる。この連結は、長手電離
箱内と前記電離箱の外部とにおいてありうる。
通電極は41で示され、共通電極と反対の電極は42a
〜42eで示されている。共通成極は複数の個別電極の
相互連結と考えることができる。この連結は、長手電離
箱内と前記電離箱の外部とにおいてありうる。
第3図と第4図に示された放射線探知器の実施例を混合
したものが第5図の平面図で示されている。長手電離箱
50は、たとえばマイラーのような合成可塑性物質の複
数の隔壁51を含んでいる。
したものが第5図の平面図で示されている。長手電離箱
50は、たとえばマイラーのような合成可塑性物質の複
数の隔壁51を含んでいる。
隔壁間の隔室はさらに電離箱を形成する。走査X線ビー
ム20は、平面で表わされ、矢符52によって示される
方向を有する。隔壁は、好ましくはX線焦点2に向けら
れている。
ム20は、平面で表わされ、矢符52によって示される
方向を有する。隔壁は、好ましくはX線焦点2に向けら
れている。
上記内容を読めば、種々の変更は当業者に簡単に行なわ
れることができるっその修正は、本発明の範囲を逸脱す
ることはない。
れることができるっその修正は、本発明の範囲を逸脱す
ることはない。
本発明は下記の態様で実施が可能である。
+tl X#j源を含み、X線源によって照射される物
体が、実質上平面ファン型X線ビームによってスリット
絞りを介して走査され、物体を通過した走査X線ビーム
がX線探知器に当たるようなスリット放射線写真装置に
おいて、装置は、スリット絞りと協働する制御可能な減
衰要素を含み、各要素は、放射線探知装置によって発生
される信号に制御されて、走査X#lビームの領域に作
用するようにし、放射線探知装置は、被照射体と、X@
探知器との間に配置され、放射線探知装置は、いかなる
ときでも物体を通過した走査X線ビームに延びかつX、
Wビームの走査動作と同期して動くような少なくとも1
つの放射線探知器を含み、放射線探知装置は、減衰要素
によって作用されることのできる走査X線ビームの領域
に対応Vるようなセクションに分割され、操作中におい
ては放射線探知装置の各セクションは、減衰要素の制御
のために使用される信号を発生することを特徴とするス
リット放射線写真装置。
体が、実質上平面ファン型X線ビームによってスリット
絞りを介して走査され、物体を通過した走査X線ビーム
がX線探知器に当たるようなスリット放射線写真装置に
おいて、装置は、スリット絞りと協働する制御可能な減
衰要素を含み、各要素は、放射線探知装置によって発生
される信号に制御されて、走査X#lビームの領域に作
用するようにし、放射線探知装置は、被照射体と、X@
探知器との間に配置され、放射線探知装置は、いかなる
ときでも物体を通過した走査X線ビームに延びかつX、
Wビームの走査動作と同期して動くような少なくとも1
つの放射線探知器を含み、放射線探知装置は、減衰要素
によって作用されることのできる走査X線ビームの領域
に対応Vるようなセクションに分割され、操作中におい
ては放射線探知装置の各セクションは、減衰要素の制御
のために使用される信号を発生することを特徴とするス
リット放射線写真装置。
(2)放射線探知器はX線螢光スクリーンを含b、放射
線探知装置はさらに走査X線ビームを越えて並置された
複数のし/ズを含み、各レンズは、走査X線ビームの作
用によってX線螢光スクリーンの任意の領域に発生され
た光を集め、前記光を連結された光探知器に送り、光信
号を電気信号1こ変えるようにしたことを特徴とするス
リット放射線写真装置。
線探知装置はさらに走査X線ビームを越えて並置された
複数のし/ズを含み、各レンズは、走査X線ビームの作
用によってX線螢光スクリーンの任意の領域に発生され
た光を集め、前記光を連結された光探知器に送り、光信
号を電気信号1こ変えるようにしたことを特徴とするス
リット放射線写真装置。
(3)X線螢光スクリーンは、互いに独立し並置された
複数のセクショ/に分割されることを特徴とするスリッ
ト放射線写真装置。
複数のセクショ/に分割されることを特徴とするスリッ
ト放射線写真装置。
(4)X線螢光スクリーンは、走査XSビームへ鋭角に
延びていることを特徴とするスリット放射線写真装置。
延びていることを特徴とするスリット放射線写真装置。
(5)放射線探知器は、並置された複数のシンチレー7
ヨ/結晶要素を含み、各々は、走査X線ビームを超えた
側で、電気信号を生み出す光探知器1こ光学的に連結さ
れることを特徴とするスリット放射線写真装置。
ヨ/結晶要素を含み、各々は、走査X線ビームを超えた
側で、電気信号を生み出す光探知器1こ光学的に連結さ
れることを特徴とするスリット放射線写真装置。
(6)各シンチレーション結晶要素は、その全外表面に
おいて、光探知器が連結される部分を除し)て内部に反
射する膜を備えていることを特徴とするスリット放射線
写真装置。
おいて、光探知器が連結される部分を除し)て内部に反
射する膜を備えていることを特徴とするスリット放射線
写真装置。
\
(7)放射線探知器は並置された複数の電離箱を含み、
その各々は、2つの対立する電極を有し、操作中には電
流を導通して、それによって減衰要素のための制御信号
が得られることを特徴とするスリット放射線写真装置。
その各々は、2つの対立する電極を有し、操作中には電
流を導通して、それによって減衰要素のための制御信号
が得られることを特徴とするスリット放射線写真装置。
(8)電離箱は、間隔をあけて配置された複数の第1電
極と、共通の第21!極とを有する単一の長手電離箱に
結合されることを特徴とするスリット放射線写真装置。
極と、共通の第21!極とを有する単一の長手電離箱に
結合されることを特徴とするスリット放射線写真装置。
(9) 長手電離箱内1こおいて、隔壁が隣接する第1
電極のそれぞれの対の間に設けられていることを特徴と
するスリット放射線写真装置。
電極のそれぞれの対の間に設けられていることを特徴と
するスリット放射線写真装置。
LIIJ 隔壁は、それぞれX線源の焦点に向けられて
いることを特徴とするスリット放射線写真装置。 ′u
1)放射線探知装置は、スリット絞りからX線探知器の
方向に被照射体を超えて延びるアーム4こ固着され、前
記アームは、XM源の焦点を通って水平および垂直に延
びるそれぞれのラインに関して、垂直および水平の面内
にそれぞれ回転するようにし、前記アームは、X線探知
器に近接する端部で、放射線探知器を保持する従属アー
ムを備えていることを特徴とするスリット放射線写真装
置。
いることを特徴とするスリット放射線写真装置。 ′u
1)放射線探知装置は、スリット絞りからX線探知器の
方向に被照射体を超えて延びるアーム4こ固着され、前
記アームは、XM源の焦点を通って水平および垂直に延
びるそれぞれのラインに関して、垂直および水平の面内
にそれぞれ回転するようにし、前記アームは、X線探知
器に近接する端部で、放射線探知器を保持する従属アー
ムを備えていることを特徴とするスリット放射線写真装
置。
第1図は本発明に従う装置の第1実施例を概略的に示す
図、第2図は第1図の変形″を概略的に示す図、第3図
は第2図の他の変形図、第4図は第3図の変更図、15
図は第4図の変更図である。 l・・・X線源、2・・・X線焦点、3・・・スリット
絞り、4・・・被照射体、5・・・X線探知器、6,1
4・・・X線螢光スクリーン、7・・・X線フィルム、
8,12゜52・・・矢符、9・・・減衰要素、11・
・・アーム、13・・・従属アーム、15・・・レンズ
、16・・・信号送信器、18・・・制御装置、B、B
、20・・・X線ビーム、21・・・シンチレーション
結晶要素、22・・・光探知器、31.32・・・電極
、40.50・・・長手電離箱、41.42a〜42e
・・・電極、51・・・隔壁、S・・・スリット 代理人 弁理士西教圭一部 第1図 手続補正書(方式) %式% 2、発明の名称 スリット放射線写真装置 3、補正をする者 事件との関係 出願人 住 所 オランダ国2612イクスエーデル7ト・7ア
ンミーレベルトラーン9 名 称 エヌ・ベー・オブティッシェ・インダストリエ
・“デ・オーダ・デル7ト” 代表者 シモン・ディンカー 国籍 オラング国 4、代理人 住 所 大阪市西区西本町1丁目13番38号 新興産
ビル国装置EX 0525−5985 INTAPT
J国際FAxGIll&G[I (06)538−02
476、補正の対象 明細書 7、補正の内容 明細書の浄書(内容に変更なし)。 以 上
図、第2図は第1図の変形″を概略的に示す図、第3図
は第2図の他の変形図、第4図は第3図の変更図、15
図は第4図の変更図である。 l・・・X線源、2・・・X線焦点、3・・・スリット
絞り、4・・・被照射体、5・・・X線探知器、6,1
4・・・X線螢光スクリーン、7・・・X線フィルム、
8,12゜52・・・矢符、9・・・減衰要素、11・
・・アーム、13・・・従属アーム、15・・・レンズ
、16・・・信号送信器、18・・・制御装置、B、B
、20・・・X線ビーム、21・・・シンチレーション
結晶要素、22・・・光探知器、31.32・・・電極
、40.50・・・長手電離箱、41.42a〜42e
・・・電極、51・・・隔壁、S・・・スリット 代理人 弁理士西教圭一部 第1図 手続補正書(方式) %式% 2、発明の名称 スリット放射線写真装置 3、補正をする者 事件との関係 出願人 住 所 オランダ国2612イクスエーデル7ト・7ア
ンミーレベルトラーン9 名 称 エヌ・ベー・オブティッシェ・インダストリエ
・“デ・オーダ・デル7ト” 代表者 シモン・ディンカー 国籍 オラング国 4、代理人 住 所 大阪市西区西本町1丁目13番38号 新興産
ビル国装置EX 0525−5985 INTAPT
J国際FAxGIll&G[I (06)538−02
476、補正の対象 明細書 7、補正の内容 明細書の浄書(内容に変更なし)。 以 上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)X線源を含み、X線源によって照射される物体が
、実質上平面ファン型xmビー ムによってスリット絞
りを介して走査され、物体を通過した走査X線ビームが
X線探知器に当たるようなスリット放射線写真装置にお
いて、装置は、スリット絞りと協働する制御可能な減衰
要素を含み、各要素は、放射線探知装置によって発生さ
れる信号の制御によって、走査X線ビームの領域に作用
するようにし、放射線探知装置は、被照射体と、X線探
知器との間に配置され、放射線探知装置は、いかなると
きでも物体を通過した走査X線ビームの中へ延びかつX
線ビームの走査動作と同期して動くような、少なくとも
1つの放射線探知器を含み、放射線探知装置は、減衰要
素によって作用されることのできる走査X線ビームの領
域に対応するようなセクションに分割され、操作中にお
いては、放射線探知装置の各セクションは、減衰要素の
制純のために使用される信号を発生することを特徴とす
るスリット放射線写真装置。 (2)放射線探知器はX線螢光スクリーンを含み、放射
線−釦装置はさらに走査X線ビームを越えて並置された
複数のレンズを含み、各レンズは、走査X線ビームの作
用によってX線螢光スクリーンの任意の領域に発生され
た光を集め、前記光に関連する光探知器に送り、光信号
を電気信号に変えるようにしたことを特徴とする特許請
求の範囲第1項記載のスリット放射線写真装置。 (3)X線螢光スクリーンは、互いに独立し並置された
複数のセクションに分割されることを特徴とする特許請
求の範囲第2項記載のスリット放射線写真装置。 (4)X線螢光スクリーンは、走査Xaビームへ鋭角に
延びていることを特徴とする特許請求の範囲第2項記載
のスリット放射線写真装置。 (5)放射線探知器は、並置された複数のシンチレーシ
ョン結晶要素を含み、この要素の各々は、走査X線ビー
ムを超えた側で、電気信号を生み出す光探知器に光学的
に連結されることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載のスリット放射線写真装置。 (61各シンチレーション結晶要素は、その全外表面に
おいて、光探知器が連結される部分を除いて内部に反射
する膜を備えていることを特徴とする特許請求の範囲第
5項記載のスリット放射線写真装置。 (7)放射線探知器は並置された複数の電離箱を含み、
その各々は、2つの対立する電極を有し、操作中には電
流を導通して、それによって減衰要素のための制御信号
が得られることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
のスリット放射線写真装置。 (8)電離箱は、間隔をあけて配置された複数の第1電
極と、共通の第2電極とを有する単一の長手電離箱に結
合されることを特徴とする特許請求の範囲第7項記載の
スリット放射線写真装置。 (91長手電離箱内において、隔壁が隣接する第1装置
。 (1(I 隔壁は、それぞれX線源の焦点に向けられて
いることを特徴とする特許請求の範囲第9項記載のスリ
ット放射線写真装置。 (Ill 放射線探知装置は、スリット絞りからX線探
知器の方向に被照射体を超えて延びるアームに固着され
、前記アームは、X線源の焦点を通って水平および垂直
に延びるそれぞれのライ/ζこ関して、垂直および水平
の面内にそれぞれ回転するようにし、前記アームは、X
線探知器に近接する端部で、放射線探知器を保持する従
属アームを備えていることを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載のスリット放射線写真装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL8400845 | 1984-03-16 | ||
NL8400845A NL8400845A (nl) | 1984-03-16 | 1984-03-16 | Inrichting voor spleetradiografie. |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60253199A true JPS60253199A (ja) | 1985-12-13 |
JPH0415692B2 JPH0415692B2 (ja) | 1992-03-18 |
Family
ID=19843657
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60053204A Granted JPS60253200A (ja) | 1984-03-16 | 1985-03-16 | X線写真装置 |
JP60053203A Granted JPS60253199A (ja) | 1984-03-16 | 1985-03-16 | X線写真装置 |
JP60053202A Granted JPS60253198A (ja) | 1984-03-16 | 1985-03-16 | X線写真装置 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60053204A Granted JPS60253200A (ja) | 1984-03-16 | 1985-03-16 | X線写真装置 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60053202A Granted JPS60253198A (ja) | 1984-03-16 | 1985-03-16 | X線写真装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US4675893A (ja) |
EP (3) | EP0155064B1 (ja) |
JP (3) | JPS60253200A (ja) |
DE (3) | DE3585925D1 (ja) |
IL (3) | IL74614A (ja) |
NL (1) | NL8400845A (ja) |
Families Citing this family (71)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL8303156A (nl) * | 1983-09-13 | 1985-04-01 | Optische Ind De Oude Delft Nv | Roentgenopnameinrichting met spleetaftasting. |
US5164977A (en) * | 1983-09-13 | 1992-11-17 | B.V. Optische Industrie, "De Oude Delft" | Process and apparatus for effecting slit radiography |
NL8401411A (nl) * | 1984-05-03 | 1985-12-02 | Optische Ind De Oude Delft Nv | Inrichting voor spleetradiografie. |
NL8401946A (nl) * | 1984-06-19 | 1986-01-16 | Optische Ind De Oude Delft Nv | Stelsel voor het detecteren van twee roentgenstralingsenergieen. |
DE3500812A1 (de) * | 1985-01-11 | 1986-07-17 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Roentgendiagnostikeinrichtung mit halbtransparenter blende |
FR2577131A1 (fr) * | 1985-02-12 | 1986-08-14 | Thomson Cgr | Installation de radiologie a compensation dans un trajet optique de l'image |
NL8501795A (nl) | 1985-06-21 | 1987-01-16 | Optische Ind De Oude Delft Nv | Inrichting en werkwijze voor spleetradiografie met verschillende roentgenstralingsenergieen. |
NL8502910A (nl) * | 1985-10-24 | 1987-05-18 | Sipko Luu Boersma | Roentgen doorlichtings beeldvormer. |
US5054048A (en) * | 1985-11-14 | 1991-10-01 | Hologic, Inc. | X-ray radiography method and system |
CA1244971A (en) * | 1985-11-14 | 1988-11-15 | Shih-Ping Wang | X-ray radiography method and system |
US4953189A (en) * | 1985-11-14 | 1990-08-28 | Hologic, Inc. | X-ray radiography method and system |
NL8503152A (nl) * | 1985-11-15 | 1987-06-01 | Optische Ind De Oude Delft Nv | Dosismeter voor ioniserende straling. |
NL8503151A (nl) * | 1985-11-15 | 1987-06-01 | Optische Ind De Oude Delft Nv | Piezo-elektrisch verzwakkingstongenstelsel voor een inrichting voor spleetradiografie. |
NL8503153A (nl) * | 1985-11-15 | 1987-06-01 | Optische Ind De Oude Delft Nv | Dosismeter voor ioniserende straling. |
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FR2600204A1 (fr) * | 1986-06-13 | 1987-12-18 | Thomson Csf | Dispositif modulateur de faisceau de rayons x et son utilisation en imagerie medicale pour la realisation de filtres spatiaux |
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NL8700781A (nl) * | 1987-04-02 | 1988-11-01 | Optische Ind De Oude Delft Nv | Werkwijze en inrichting voor contrastharmonisatie van een roentgenbeeld. |
NL8701122A (nl) * | 1987-05-12 | 1988-12-01 | Optische Ind De Oude Delft Nv | Inrichting voor spleetradiografie met beeldharmonisatie. |
NL8701820A (nl) * | 1987-08-03 | 1989-03-01 | Optische Ind De Oude Delft Nv | Inrichting voor spleetradiografie. |
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NL8902117A (nl) * | 1989-08-22 | 1991-03-18 | Optische Ind De Oude Delft Nv | Inrichting voor spleetradiografie. |
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