JPS60253105A - 絶縁導体 - Google Patents
絶縁導体Info
- Publication number
- JPS60253105A JPS60253105A JP10745784A JP10745784A JPS60253105A JP S60253105 A JPS60253105 A JP S60253105A JP 10745784 A JP10745784 A JP 10745784A JP 10745784 A JP10745784 A JP 10745784A JP S60253105 A JPS60253105 A JP S60253105A
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- JP
- Japan
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- polyamic acid
- acid solution
- aromatic
- insulated
- mica
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- Pending
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- Organic Insulating Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は耐部分（局所）放電性とカットスルー性の改良
された芳香族ポリイミド系の絶縁導体に関するものであ
る。
された芳香族ポリイミド系の絶縁導体に関するものであ
る。
最近、電気機器工業において、絶縁材料としての芳香族
ポリイミドの利用が増加している。
ポリイミドの利用が増加している。
芳香族ポリイミドは長時間比較的高温度の環境下で使用
される固体絶縁材料としては非常に有用であるが、高電
圧に対する耐性、特に高温下での高電圧に対する耐性が
必ずしも充分とはいい難い。
される固体絶縁材料としては非常に有用であるが、高電
圧に対する耐性、特に高温下での高電圧に対する耐性が
必ずしも充分とはいい難い。
このため、芳香族ポリイミドを電気絶縁材料として導体
を被覆した絶縁導体は、耐部分放電性とカットスルー性
が低いという欠点を有している。
を被覆した絶縁導体は、耐部分放電性とカットスルー性
が低いという欠点を有している。
本発明はかかる状況に鑑みてなされたもので。
電気絶縁性、特に耐部分放電性とカットスルー性の改良
された芳香族ポリイミド系の絶縁導体に関するものであ
る。
された芳香族ポリイミド系の絶縁導体に関するものであ
る。
すなわち９本発明は、芳香族ポリイミドと芳香族ポリイ
ミ）１００重量部当り粒子径が１１０μ以下である雲母
１〜５０重量部とから々る電気絶縁組成物によって導体
を被覆してなる耐部分放電性とカットスルー性の改良さ
れた絶縁導体に関するものである。
ミ）１００重量部当り粒子径が１１０μ以下である雲母
１〜５０重量部とから々る電気絶縁組成物によって導体
を被覆してなる耐部分放電性とカットスルー性の改良さ
れた絶縁導体に関するものである。
本発明において使用される雲母（マイカ）は。
粒子径が１１０μ以下、好ましくは５０μ以下で。
好ましくは重量平均アスペクト比が２０〜１００である
。雲母は芳香族ポリイミド１００重量部当り１〜５０重
量部、好壕しくに５〜４５重量部。
。雲母は芳香族ポリイミド１００重量部当り１〜５０重
量部、好壕しくに５〜４５重量部。
特に好ましくは２０〜４０重量部の割合で使用される。
本発明においては、芳香族ポリイミドと該ポリイミド１
００重量部当り１〜５０重量部の前記特定形状の雲母と
からなる電気絶縁組成物によって導体を被覆することに
よって、耐部分放電性とカットスルー性の改良さ打た絶
縁導体を得ることができる。使用する雲母のｌｅｔが１
）ＩＪ記範囲外であると重量平均アスペクト比）が前記
範囲外であると絶縁導体の課電１に於ける寿命が短くな
る。
００重量部当り１〜５０重量部の前記特定形状の雲母と
からなる電気絶縁組成物によって導体を被覆することに
よって、耐部分放電性とカットスルー性の改良さ打た絶
縁導体を得ることができる。使用する雲母のｌｅｔが１
）ＩＪ記範囲外であると重量平均アスペクト比）が前記
範囲外であると絶縁導体の課電１に於ける寿命が短くな
る。
本発明の絶縁導体は、特に限定されないが、好適には最
終的に得られる芳香族ポリイミドに対して上記の割合で
前記特定形状の雲母を分散させた芳香族ポリアミック酸
溶液を絶縁所望物体（導体）。
終的に得られる芳香族ポリイミドに対して上記の割合で
前記特定形状の雲母を分散させた芳香族ポリアミック酸
溶液を絶縁所望物体（導体）。
たとえは銅導体の上に塗布焼Ｌ１けてポリアミック酸を
イミド化する方法によって得ることができる。
イミド化する方法によって得ることができる。
本発明で使用される雲母としては、白雲母（いわゆる硬
質雲母）、金雲母（いわゆる軟質雲母）などの天然雲母
や、フッ素金雲母、四ヶ・イ素雲母なとの合成雲母を挙
けることができる。
質雲母）、金雲母（いわゆる軟質雲母）などの天然雲母
や、フッ素金雲母、四ヶ・イ素雲母なとの合成雲母を挙
けることができる。
前記の方法に使用される芳香族ポリアミック酸溶液は有
機極性溶媒中で芳香族テトラカルボ／酸二無水物と芳香
族ジアミンと奪反応させることによって得られる。
機極性溶媒中で芳香族テトラカルボ／酸二無水物と芳香
族ジアミンと奪反応させることによって得られる。
前記芳香族テトラカルボッ酸二無水物としては。
３．３’、４．４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物。
水物。
２、ろＳ／、 ４７−ビフェニルテトラカルボ／酸二無
水物・３、３’： ４，４’−ベンゾフェノ／テトラカ
ルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無水物、ビス（３
，４−ジカルボキシフェニル）メタンニ無水物、ビス（
３，４−ジカルボキシフェニル）エーテルニ無水物など
が挙けられる。これら芳香族テ（ラカルボン酸二無水物
は１種のみ使用してもよく１２種以上を共に使用しても
よい。
水物・３、３’： ４，４’−ベンゾフェノ／テトラカ
ルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無水物、ビス（３
，４−ジカルボキシフェニル）メタンニ無水物、ビス（
３，４−ジカルボキシフェニル）エーテルニ無水物など
が挙けられる。これら芳香族テ（ラカルボン酸二無水物
は１種のみ使用してもよく１２種以上を共に使用しても
よい。
芳香族ジアミンとしては、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ
−フェニレンジアミン、４．４’−ジアミノジフェニル
エーテル、４．４’−ジアミノンフェニルチオエーテル
、４．４’−ジアミノジフェニルメタン。
−フェニレンジアミン、４．４’−ジアミノジフェニル
エーテル、４．４’−ジアミノンフェニルチオエーテル
、４．４’−ジアミノジフェニルメタン。
４．４′−ジアミノジフェニルスルホ７などが挙げられ
る。これら芳香族ジアミンは１種のみ使用してもよく、
２種以上を共に使用してもよい。
る。これら芳香族ジアミンは１種のみ使用してもよく、
２種以上を共に使用してもよい。
本発明においてポリイミドとして、ろ、 ｓ’、 ４．
４’−ビフェニルテトラカルボ７酸二無水物及び／又は
ピロメリット酸二無水物と４，４′−ジアミノジフェニ
ルエーテル及ヒ／又はｐ−フェニレンジアミンとから得
られる芳香族ポリイミドが好ましく、特に３．３’、
、ａ、 ａ’−ビフェニルテトラカルボ／酸二無水物と
ビロメリ、７ ）酸二無水物とのモル比が７３〜５５で
ある芳香族テトラカルボン酸二無水物と４，４′−ジア
ミノジフェニルエーテル及び／又はｐ−フェニレンジア
ミンとから得られる芳香族ポリイミドが好ましい。
４’−ビフェニルテトラカルボ７酸二無水物及び／又は
ピロメリット酸二無水物と４，４′−ジアミノジフェニ
ルエーテル及ヒ／又はｐ−フェニレンジアミンとから得
られる芳香族ポリイミドが好ましく、特に３．３’、
、ａ、 ａ’−ビフェニルテトラカルボ／酸二無水物と
ビロメリ、７ ）酸二無水物とのモル比が７３〜５５で
ある芳香族テトラカルボン酸二無水物と４，４′−ジア
ミノジフェニルエーテル及び／又はｐ−フェニレンジア
ミンとから得られる芳香族ポリイミドが好ましい。
前記の有機極性溶媒としては、Ｎ−メチルビロリド／、
ピリ／ノ、に＋、Ｎ−ジメチルアセトアミド。
ピリ／ノ、に＋、Ｎ−ジメチルアセトアミド。
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ／ド
、テトラメチル尿素、クレゾール、フェノールなどのポ
リアミック酸を溶解することができる溶媒を好適に挙げ
ることができる。これらの有機極性溶媒とともに芳香族
炭化水素の如き有機極性溶媒との併用も可能である。
、テトラメチル尿素、クレゾール、フェノールなどのポ
リアミック酸を溶解することができる溶媒を好適に挙げ
ることができる。これらの有機極性溶媒とともに芳香族
炭化水素の如き有機極性溶媒との併用も可能である。
前記の方法において、ポリアミック酸溶液はポリマー濃
度が５〜５５重量％、特に８〜２５重量％が好ましい。
度が５〜５５重量％、特に８〜２５重量％が好ましい。
また、前記の方法においてポリアミック酸は。
対数粘度（３０℃、濃度０．５９ ／ １００ｍｌ溶媒
で測定）が０゜１以上、特に０２以上の分子賛のもので
あることが好ましい。
で測定）が０゜１以上、特に０２以上の分子賛のもので
あることが好ましい。
前記の方法において雲母はポリアミック酸溶液の任意の
製造過程で加えることができる。
製造過程で加えることができる。
すなわち、有機極性溶媒中に雲母を添加分散させた後芳
香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミ７とを重
合し７てもよく１重合中に雲母を添加分散させてもよく
９重合後に添加分散させてもよい。
香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミ７とを重
合し７てもよく１重合中に雲母を添加分散させてもよく
９重合後に添加分散させてもよい。
本発明の絶縁導体は、耐熱性並びに電気絶縁性に優れて
いるので、それら両特性が要求されるような箇所や電気
機器、たとえば絶縁電線などの絶縁銅導体、ハイブリッ
ドＩＣなどの用途に好適に使用することができる。たと
えば本発明によってマグネットワイヤを製造する場合、
雲母を含有するポリアミック酸溶液を導体上に塗布焼付
けてボリアミック酸をイミド化する。焼伺けは１通常の
エナメル線焼付炉を使用して行なうことができる。
いるので、それら両特性が要求されるような箇所や電気
機器、たとえば絶縁電線などの絶縁銅導体、ハイブリッ
ドＩＣなどの用途に好適に使用することができる。たと
えば本発明によってマグネットワイヤを製造する場合、
雲母を含有するポリアミック酸溶液を導体上に塗布焼付
けてボリアミック酸をイミド化する。焼伺けは１通常の
エナメル線焼付炉を使用して行なうことができる。
前記の方法において７通常ｏ、ｓ″ｙｎ銅体径以上の太
物エナメル線焼付に用いられる縦型焼付炉の場合、温度
６００〜５００℃、引取速度０．５〜５０ｍ／分で数回
から数１０回の塗布焼付けを行々ってポリアミック酸を
イミド化率９０％以上にイミド化して、雲母を含有する
絶縁被覆層厚さが５〜１００μ、特に１０〜５０μの絶
縁導体（電線）を得ることができる。
物エナメル線焼付に用いられる縦型焼付炉の場合、温度
６００〜５００℃、引取速度０．５〜５０ｍ／分で数回
から数１０回の塗布焼付けを行々ってポリアミック酸を
イミド化率９０％以上にイミド化して、雲母を含有する
絶縁被覆層厚さが５〜１００μ、特に１０〜５０μの絶
縁導体（電線）を得ることができる。
本発明の絶縁導体においては、導体に芳香族ポリイミド
と雲母とからなる被覆層のみを設けてもよく１導体に接
触する内部被覆層として芳香族ポリイミドと雲母とから
なる被覆層を設け、さらにその外側の外部被覆層として
芳香族ポリイミドのみからなる外部被覆層を設けてもよ
い。
と雲母とからなる被覆層のみを設けてもよく１導体に接
触する内部被覆層として芳香族ポリイミドと雲母とから
なる被覆層を設け、さらにその外側の外部被覆層として
芳香族ポリイミドのみからなる外部被覆層を設けてもよ
い。
以下に参考例、実施例おまひ比較例を示す。
ここで耐電圧９部分放電開始電圧及びＡＣｌ、２ＫＶと
０．９ ＫＶ課電下に於ける寿命はＪ工ｓ ’ｃ ３０
０３１１．１の２個撚り法で行った。部分放電開始電圧
はＩ Ｘ １０”クー０ン／秒の電流が流れ始める電圧
を示す。ＡＣｌ、２ＫＶと０．９ＫＶ課電工に於ける寿
命は、６０Ｈｚの交流電圧を加え、短絡するまでの時間
を示す。
０．９ ＫＶ課電下に於ける寿命はＪ工ｓ ’ｃ ３０
０３１１．１の２個撚り法で行った。部分放電開始電圧
はＩ Ｘ １０”クー０ン／秒の電流が流れ始める電圧
を示す。ＡＣｌ、２ＫＶと０．９ＫＶ課電工に於ける寿
命は、６０Ｈｚの交流電圧を加え、短絡するまでの時間
を示す。
カットスル一温度は、長さ約１０ｃｍの試験片と０．２
閣の曲率半径のステンレス製グレードを直角に重ね平板
上に置き１重ね部分に２．２に９の荷重がかかるように
おもりをのせ、６（］Ｈｚの１００ｖ交流電圧を加え、
その状態で約２℃／ ｍｉＨの割合で温度を上昇させ、
短絡する時の温度を示す。
閣の曲率半径のステンレス製グレードを直角に重ね平板
上に置き１重ね部分に２．２に９の荷重がかかるように
おもりをのせ、６（］Ｈｚの１００ｖ交流電圧を加え、
その状態で約２℃／ ｍｉＨの割合で温度を上昇させ、
短絡する時の温度を示す。
以下に参考例、実施例および比較例を示す。
参考例１
Ｎ−メチルピロリドン
−ビフェニルテトラカルボッ酸二無水物４１１．９２７
とピローメリット酸二無水物３０５．３７Ｓｉ’を添加
した？Ｌ ４，ａ’−ジアミノジフェニルエーテル５６
０、６７Ｓ’を加え室温で約８時間反応させてポリアミ
ック酸溶液を得た。このポリアミック酸の対数粘度は０
．５１であり．溶液の粘度は５５ポイズであった。
とピローメリット酸二無水物３０５．３７Ｓｉ’を添加
した？Ｌ ４，ａ’−ジアミノジフェニルエーテル５６
０、６７Ｓ’を加え室温で約８時間反応させてポリアミ
ック酸溶液を得た。このポリアミック酸の対数粘度は０
．５１であり．溶液の粘度は５５ポイズであった。
参考例２
Ｎ−メチルピロリドン１８２０４Ｆ中に包ろ／． ａ，
４／−−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物２９４
．２６７とピロメリット酸二無水物９６．４８７を添加
しプＣ後， ４．４’−ジアミノジフェニルエーテル２
８ ６．０ ６７を加え室温で約８時間反応させた後
，さらにソルベ／トナフザ（丸善石油■製，スワゾール
≠１ ｏｏｏ）２ｏ：Ｂを加え希釈してポリアミック酸
溶液をイ（十だ、、このポリアミック酸αダ液の粘度は
４５ボイズであり．ボＩＪ −７＝ ミック酸の対数粘
度は０、５０であった、。
４／−−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物２９４
．２６７とピロメリット酸二無水物９６．４８７を添加
しプＣ後， ４．４’−ジアミノジフェニルエーテル２
８ ６．０ ６７を加え室温で約８時間反応させた後
，さらにソルベ／トナフザ（丸善石油■製，スワゾール
≠１ ｏｏｏ）２ｏ：Ｂを加え希釈してポリアミック酸
溶液をイ（十だ、、このポリアミック酸αダ液の粘度は
４５ボイズであり．ボＩＪ −７＝ ミック酸の対数粘
度は０、５０であった、。
、参考例ろ
Ｎ−メチルピロリド７１６２９Ｆ中にろ，３で４．４′
ービフエニルテトラカルボノ酸二無水物２ ０ ５．９
６７とピロノリット酸二−無水物６５．４４ｊｉ’を
添加した＜ｉ． ａ，ｊ−／アミノ／フェニルエーテル
６００７９とｐ−フェニレン／アミン７ ５．６ ９
８ ｆｔＪｌｌ］，ｌ’ｊ約８約８灰 のポリアミック酸の対数粘度は０．５５であり，ポリア
ミック酸溶液の粘度は５７ポイズであった。
ービフエニルテトラカルボノ酸二無水物２ ０ ５．９
６７とピロノリット酸二−無水物６５．４４ｊｉ’を
添加した＜ｉ． ａ，ｊ−／アミノ／フェニルエーテル
６００７９とｐ−フェニレン／アミン７ ５．６ ９
８ ｆｔＪｌｌ］，ｌ’ｊ約８約８灰 のポリアミック酸の対数粘度は０．５５であり，ポリア
ミック酸溶液の粘度は５７ポイズであった。
参考例４
Ｎ，Ｎ’〜ジメチルアセトアミド１６４１ｆ！中にろ，
５＜４．４’−ビフェニルテトラカルホン酸二無水物１
４７、１１Ｆとピロメリット酸二無水物１０９．０６２
ヲ添加した後，４．４’−ジアミノジフェニルエーテル
ｉｏｏ１２ｙとｐ−フェニレンジアミン５４０フグを加
え約８時間反応してポリアミック酸溶液を得た。このポ
リアミック酸の対数粘度は０、５６であり，ポリアミッ
ク酸溶液の粘度は５８ポイズであった。
５＜４．４’−ビフェニルテトラカルホン酸二無水物１
４７、１１Ｆとピロメリット酸二無水物１０９．０６２
ヲ添加した後，４．４’−ジアミノジフェニルエーテル
ｉｏｏ１２ｙとｐ−フェニレンジアミン５４０フグを加
え約８時間反応してポリアミック酸溶液を得た。このポ
リアミック酸の対数粘度は０、５６であり，ポリアミッ
ク酸溶液の粘度は５８ポイズであった。
参考例５
Ｎ−メチルピロリドン１ ６７３ｆ中に４，４′−ジア
ミノ／フェニルエーテル２ ０ ０． ２ ４ ７を添
加後。
ミノ／フェニルエーテル２ ０ ０． ２ ４ ７を添
加後。
ピロメリット酸二無水物２１８．１２７を加え約す間反
応してポリアミック酸溶液を得た。このポリアミック酸
の対数粘度は０．４５であり，溶液の粘度は４０ポイズ
であった。
応してポリアミック酸溶液を得た。このポリアミック酸
の対数粘度は０．４５であり，溶液の粘度は４０ポイズ
であった。
実施例１〜５
参考例１で調製したポリアミック酸溶液の不揮発分に対
して１０，２０．３０，ＡＤ，５０重量％の各割合にお
いて焼成処理した後分級した粒径２０μ以下２重量平均
アスペクト比２５の金雲母を分散させたものを炉長２ｍ
を有するたて型焼付炉において温度４００℃、ａ！速２
ｍ／分の速度で” ＋ ０１１１１１１径の銅線に被覆
厚が０．０２８ｍｍになるように通常の方法で塗布焼付
を７回行った後、その上にさらに参考例１のポリアミッ
ク酸溶液を０．０１２間の被覆厚になるよう同条件で塗
布焼付を５回行、）で絶縁電線を得た。表１に性能を示
す。ここで内部波〜Ｉ？、は、雲母を分散させたポリイ
ミドの被覆厚を小し、外部被校厚は雲母を分散していな
いポリイミドの被膜厚を示す。
して１０，２０．３０，ＡＤ，５０重量％の各割合にお
いて焼成処理した後分級した粒径２０μ以下２重量平均
アスペクト比２５の金雲母を分散させたものを炉長２ｍ
を有するたて型焼付炉において温度４００℃、ａ！速２
ｍ／分の速度で” ＋ ０１１１１１１径の銅線に被覆
厚が０．０２８ｍｍになるように通常の方法で塗布焼付
を７回行った後、その上にさらに参考例１のポリアミッ
ク酸溶液を０．０１２間の被覆厚になるよう同条件で塗
布焼付を５回行、）で絶縁電線を得た。表１に性能を示
す。ここで内部波〜Ｉ？、は、雲母を分散させたポリイ
ミドの被覆厚を小し、外部被校厚は雲母を分散していな
いポリイミドの被膜厚を示す。
実施例６〜８
焼成処理した後分級した３０〜１００μの粒径で重量平
均アスペクト比５０の金雲母を使用した以外は実施例１
と同様に行い絶縁電線を得だ。表１に性能を示す。
均アスペクト比５０の金雲母を使用した以外は実施例１
と同様に行い絶縁電線を得だ。表１に性能を示す。
比較例１
参考例１で調製したポリアミック酸溶液を炉長２ｍを有
するだて型焼付炉において温度４００℃線速２ｍ／分の
速度で１４０■径の銅線に被覆厚がｏ、ｏ４闘になるよ
う塗布焼付を１０回行って絶縁電線を得た。表１に性能
を示す。
するだて型焼付炉において温度４００℃線速２ｍ／分の
速度で１４０■径の銅線に被覆厚がｏ、ｏ４闘になるよ
う塗布焼付を１０回行って絶縁電線を得た。表１に性能
を示す。
比較例２〜４
焼成処理した後分級した粒径１１０〜１５０μ。
重量平均アスペクト比６５の金雲母を使用した以ミ」
外は実施例と同様にして絶縁電線を得た。１表１に性能
を示す。
を示す。
実施例９〜１０
水ジエツト処理した後分級した粒径２０μ以上゛。
重量平均アスペクト比２６の白雲母を使用した以外は実
施例１と同様にして絶縁電線を得た。表２に性能を示す
。
施例１と同様にして絶縁電線を得た。表２に性能を示す
。
実施例１１〜１２
水ジエツト処理した後分級した粒径３０〜１００μ２重
量平均アスペクト比４５の白雲母を使用した以外は実施
例１と同様にして絶縁電線を得た。
量平均アスペクト比４５の白雲母を使用した以外は実施
例１と同様にして絶縁電線を得た。
表２に性能を示す。
比較例５〜６
水ジエツト処理した後分級した粒径１１０〜１５０μ、
車、祉平均−１′スペクト比６２の白雲母を使用した以
外は実施例１又は実施例５と同様にして絶縁電線をイ４
１だ３、表２に性能を示す。
車、祉平均−１′スペクト比６２の白雲母を使用した以
外は実施例１又は実施例５と同様にして絶縁電線をイ４
１だ３、表２に性能を示す。
実施例１５〜１４
参考例２−Ｃ調製したポリアミック酸溶液を使用した以
外は実施例ろ、又は実施例８と同様にして絶縁ｌＩＬ線
を（４７だ。表５に結果を示す２、実施例１５〜１６ 参考例２て調製したポリアミック酸溶液を使用し５だ以
外は実施例９には実施例１０と同様にして絶縁電線を得
だ、、［３に結果を示す。
外は実施例ろ、又は実施例８と同様にして絶縁ｌＩＬ線
を（４７だ。表５に結果を示す２、実施例１５〜１６ 参考例２て調製したポリアミック酸溶液を使用し５だ以
外は実施例９には実施例１０と同様にして絶縁電線を得
だ、、［３に結果を示す。
比較例７
参考例２て調製したポリアミック酸溶液を使用しｆｃ以
外は比較例１と同様にして絶縁電線を得た０、表５に性
能を示す。
外は比較例１と同様にして絶縁電線を得た０、表５に性
能を示す。
実施例１７〜１８
柊考例ろて調製したポリアミック酸溶液を使用した以外
は実施例１又は実施例ろと同様にして絶縁電線を得た。
は実施例１又は実施例ろと同様にして絶縁電線を得た。
表ろに性能を示す。
比較例８
参考例ろで調製したポリアミック酸溶液を使用した以外
は比較例１と同様にして絶縁電線を得た。
は比較例１と同様にして絶縁電線を得た。
表″ろに性能を示す。
実施例１９〜２０
参考例４で調製したポリアミック酸溶液を使用した以外
は実施例？又は実施例１０と同様にして絶縁電線を得た
。表５に性能を示す、。
は実施例？又は実施例１０と同様にして絶縁電線を得た
。表５に性能を示す、。
比較例？
参考例４て調製したポリアミック酸溶液を使用した以外
は比較例１と同様にして絶縁電線を得た。
は比較例１と同様にして絶縁電線を得た。
表５に性能を示す。
実施例２１〜２２
参考例５で調製したポリアミック酸溶液を使用した以外
は実施例ろ又は実施例８と同様にして絶縁電線を得た。
は実施例ろ又は実施例８と同様にして絶縁電線を得た。
表５に性能を示す。
実施例２６〜２４
参考例５で調製したポリアミック酸溶液を使用した以外
は実施例９又は実施例１０と同様にして絶縁電線を得た
。表５に性能を示す。
は実施例９又は実施例１０と同様にして絶縁電線を得た
。表５に性能を示す。
比較例１０
参考例５で調製したポリアミック酸溶液を使用した以外
は比較例１と同様にして絶縁電線を得た。
は比較例１と同様にして絶縁電線を得た。
表乙に性能を示す。
Claims (1)
- 芳香族ポリイミドと芳香族ポリイミド１００重量部当り
粒子径が１１０μ以下である雲旬１〜５０重量部とから
なる電気絶縁組成物によって導体を被覆してなる耐部分
放電性とカシトスルー性の改良された絶縁導体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10745784A JPS60253105A (ja) | 1984-05-29 | 1984-05-29 | 絶縁導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10745784A JPS60253105A (ja) | 1984-05-29 | 1984-05-29 | 絶縁導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60253105A true JPS60253105A (ja) | 1985-12-13 |
Family
ID=14459652
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10745784A Pending JPS60253105A (ja) | 1984-05-29 | 1984-05-29 | 絶縁導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60253105A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012062363A1 (fr) | 2010-11-10 | 2012-05-18 | Cogebi S.A. | Ruban a base de mica |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56151757A (en) * | 1980-04-28 | 1981-11-24 | Nippon Carbide Ind Co Ltd | Polyimide resin molded article |
-
1984
- 1984-05-29 JP JP10745784A patent/JPS60253105A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56151757A (en) * | 1980-04-28 | 1981-11-24 | Nippon Carbide Ind Co Ltd | Polyimide resin molded article |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012062363A1 (fr) | 2010-11-10 | 2012-05-18 | Cogebi S.A. | Ruban a base de mica |
| US9484125B2 (en) | 2010-11-10 | 2016-11-01 | Cogebi S.A. | Mica-based strip |
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