JPS60251280A - 金属の表面処理用フツ素イオン含有浴液の制御方法 - Google Patents
金属の表面処理用フツ素イオン含有浴液の制御方法Info
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- JPS60251280A JPS60251280A JP7822785A JP7822785A JPS60251280A JP S60251280 A JPS60251280 A JP S60251280A JP 7822785 A JP7822785 A JP 7822785A JP 7822785 A JP7822785 A JP 7822785A JP S60251280 A JPS60251280 A JP S60251280A
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- fluoride ion
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C22/73—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals characterised by the process
- C23C22/77—Controlling or regulating of the coating process
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野］
本発明は、フッ素イオン活量をフッ素イオン電極を用い
て測定し、かつ浴にフッ素イオンを補給することによっ
て金属の表面処理用フッ素イオン含有浴液中のフッ素イ
オン活量を維持するための方法に関する。
て測定し、かつ浴にフッ素イオンを補給することによっ
て金属の表面処理用フッ素イオン含有浴液中のフッ素イ
オン活量を維持するための方法に関する。
［従来技術］
フッ素イオン含有溶液、例えば、クロメート処理溶液ま
たはリン酸塩処理溶液を金属の表面処理に使用すること
は知られている。フッ素イＡン含有によって、目的とす
る効果を維持しようとするには伯の浴成分の濃度と同様
にフッ素イオン濃度をできる限り一定に保持することが
必要である。
たはリン酸塩処理溶液を金属の表面処理に使用すること
は知られている。フッ素イＡン含有によって、目的とす
る効果を維持しようとするには伯の浴成分の濃度と同様
にフッ素イオン濃度をできる限り一定に保持することが
必要である。
フッ素イオン活量を測定する方法として西ドイツ国特許
第１１５７６１０号明細…によるフッ素イＡン含有溶液
のガラスに対する腐食作用を利用する方法がある。即ち
、該溶液で処理する前後のガラス試験片の重量を測り、
ガラスの重量減からフッ素イオン活量を測定する。この
方法は信頼性はあるが、時間がかかり、自動化と連続的
な自動制御に使用するのはきわめて困難である。
第１１５７６１０号明細…によるフッ素イＡン含有溶液
のガラスに対する腐食作用を利用する方法がある。即ち
、該溶液で処理する前後のガラス試験片の重量を測り、
ガラスの重量減からフッ素イオン活量を測定する。この
方法は信頼性はあるが、時間がかかり、自動化と連続的
な自動制御に使用するのはきわめて困難である。
西ドイツ国特許第１２９１９１９号明細書によれば、酸
性のフッ素イオン水溶液のフッ素イオン活量を測定する
ための方法が記載されている。該方法では定電圧におけ
る電解槽内の電流強度を該電解槽内の溶液のフッ素イオ
ン活量に対する尺度どしている。この方法は不活性のカ
ソードとｐ形ケイ素から成るアノードを用いて行う。
性のフッ素イオン水溶液のフッ素イオン活量を測定する
ための方法が記載されている。該方法では定電圧におけ
る電解槽内の電流強度を該電解槽内の溶液のフッ素イオ
ン活量に対する尺度どしている。この方法は不活性のカ
ソードとｐ形ケイ素から成るアノードを用いて行う。
該方法の欠点はフッ素イオン活はと電流強度の関係が非
直線的であること、ｐ ｌ−ｌ ＞ ４では使えないこ
と、及びすべての電流計による方法では測定電極の表面
とその状態に直接依存する（これは実際上手間がかかり
、慎重な精製サイクルによってのみ信頼できる再現可能
な値が得られる）ことである。
直線的であること、ｐ ｌ−ｌ ＞ ４では使えないこ
と、及びすべての電流計による方法では測定電極の表面
とその状態に直接依存する（これは実際上手間がかかり
、慎重な精製サイクルによってのみ信頼できる再現可能
な値が得られる）ことである。
西ドイツ国特許第１１５７６１０号明Ｉｌｌ書にＪ：る
方法と西ドイツ国特許出願公告第１２９１９１９号明細
書による方法では、濃度または、活量係数によって濃度
と関連し、熱力学の領域で規定される活量を測るのでは
なく、特殊な反応に関する“活量″を測ることが共通し
ている。西ドイツ国特許第１１５７６１０号明細書の場
合には例えばガラスの腐食損失がクロメ−］・化反応と
同様に（熱力学的な）フッ素イオン活量に依存すること
が前提となっている。西ドイツ国特許出願公告第１２９
１９１９号明細書の場合にはｐ形ケイ素のアノード反応
と同様にＩＩる。
方法と西ドイツ国特許出願公告第１２９１９１９号明細
書による方法では、濃度または、活量係数によって濃度
と関連し、熱力学の領域で規定される活量を測るのでは
なく、特殊な反応に関する“活量″を測ることが共通し
ている。西ドイツ国特許第１１５７６１０号明細書の場
合には例えばガラスの腐食損失がクロメ−］・化反応と
同様に（熱力学的な）フッ素イオン活量に依存すること
が前提となっている。西ドイツ国特許出願公告第１２９
１９１９号明細書の場合にはｐ形ケイ素のアノード反応
と同様にＩＩる。
金属の表面処理浴液組成の安定性に対する要求−３−
が高まっていることを受【プて、再環性に乏しく、複雑
な材料特性を有する測定器によるのではなく、フッ素イ
オン活量を例えば化学熱力学的に直接測定することによ
り著しく良好な測定値が得られるような、フッ素イオン
活量の測定方法と制御方法が望まれている。
な材料特性を有する測定器によるのではなく、フッ素イ
オン活量を例えば化学熱力学的に直接測定することによ
り著しく良好な測定値が得られるような、フッ素イオン
活量の測定方法と制御方法が望まれている。
そのためにフッ素イオン活量測定用のフッ素イオン電極
が開発された。この電極は主成分として弗化ランタンか
ら成る結晶を含んでいる。この電極は、例えばガラス電
極がｌ） Ｈ値の直接測定に好適であるようにフッ素イ
オン活量の直接測定に好適である。酸の解離度はｐｔ−
１値によって左右され、かつ弗化水素酸は低１） ｌ−
１値（＜ ｐ １１２ ）では中程度の弱酸（ｐＫａ約
３．５）であり解離しにくいので、フッ素イオン電極を
用いての測定はｐ１１５〜８の緩衝溶液中で行なうこと
が推奨される。それというのも上記のｐｌ−１値範囲で
はフッ素イオン活量は僅かな程度でしかｐｔ−１値に左
右されないからである。
が開発された。この電極は主成分として弗化ランタンか
ら成る結晶を含んでいる。この電極は、例えばガラス電
極がｌ） Ｈ値の直接測定に好適であるようにフッ素イ
オン活量の直接測定に好適である。酸の解離度はｐｔ−
１値によって左右され、かつ弗化水素酸は低１） ｌ−
１値（＜ ｐ １１２ ）では中程度の弱酸（ｐＫａ約
３．５）であり解離しにくいので、フッ素イオン電極を
用いての測定はｐ１１５〜８の緩衝溶液中で行なうこと
が推奨される。それというのも上記のｐｌ−１値範囲で
はフッ素イオン活量は僅かな程度でしかｐｔ−１値に左
右されないからである。
処理溶液中で直接フッ素イオン活量を測定する− ４
− 上記の魅力的に見える方法の欠点は、フッ素イオンの電
極が特に次の２つの理由から直接フッ素イオン活量の連
続測定には使用できないことである。
− 上記の魅力的に見える方法の欠点は、フッ素イオンの電
極が特に次の２つの理由から直接フッ素イオン活量の連
続測定には使用できないことである。
すなわち第１には電極が例えば亜鉛のりＤメート処理で
使用されるような溶液に浸漬されると、僅かな時間の経
過で変化することである。これらの溶液はフッ素イオン
の他に次のイオンを含有していることがある： Ｃｒ
Ｏ−、Ｃｒ ”’ 。
使用されるような溶液に浸漬されると、僅かな時間の経
過で変化することである。これらの溶液はフッ素イオン
の他に次のイオンを含有していることがある： Ｃｒ
Ｏ−、Ｃｒ ”’ 。
Ｓｏ −、Ｚｎ 、ＮＯ３−。
Ｓｉ Ｆ −−、Ｔ−Ｆ −−、Ｃａ”、 ｌ−Ｉ Ｐ
Ｏ４−。
Ｏ４−。
６ １ ６ ２
ＨＰＯ”−０測定のために使用される［ａＦ３結晶の表
面に皮膜が形成され、この皮膜がフッ素イオン活量の測
定に誤差を生じさせるものと推定される。このことは例
えばリン酸亜鉛処理のためのフッ素イオン含有浴液につ
いても該当する。ここてはリン酸塩皮膜が形成されるの
であろう。第２には処理溶液のｐＨ値を一定に保つこと
が必ずしも成功しないことである。Ｗｌ、Ｉ１１平衡１
−ＩＦ−ト１＋−１−Ｆ−はｐ Ｈ値に左右されるので
、浴液のｐＨ値の制御が不十分であったときにはフッ素
イオン制御回路に対して不都合な反応を惹起することが
ある。
面に皮膜が形成され、この皮膜がフッ素イオン活量の測
定に誤差を生じさせるものと推定される。このことは例
えばリン酸亜鉛処理のためのフッ素イオン含有浴液につ
いても該当する。ここてはリン酸塩皮膜が形成されるの
であろう。第２には処理溶液のｐＨ値を一定に保つこと
が必ずしも成功しないことである。Ｗｌ、Ｉ１１平衡１
−ＩＦ−ト１＋−１−Ｆ−はｐ Ｈ値に左右されるので
、浴液のｐＨ値の制御が不十分であったときにはフッ素
イオン制御回路に対して不都合な反応を惹起することが
ある。
［発明が解決しようとする問題点］
本発明の課題は、上記の欠点を持たず、信頼性が高く、
これにより一様に、即ち変動なく皮膜形成が行われ、し
かも簡単に実施可能な、金属の表面処理用フッ素イオン
含有浴液中のフッ素イオン活ｍを維持する方法を提供す
ることである。
これにより一様に、即ち変動なく皮膜形成が行われ、し
かも簡単に実施可能な、金属の表面処理用フッ素イオン
含有浴液中のフッ素イオン活ｍを維持する方法を提供す
ることである。
［問題点を解決するための手段］
上記の課題を解決するための本発明の手段は、冒頭に記
載の方法であって、フッ素イオン含有処理液を、該処理
液のｐｌ−１値から１単位以上異ならないＤ Ｈ値を有
する溶液で、制御下に少なくとも５倍の容量に希釈し、
次いでフッ素イオン活量を測定し、かつこの測定値から
処理液のフッ素イオン活量をめることである。
載の方法であって、フッ素イオン含有処理液を、該処理
液のｐｌ−１値から１単位以上異ならないＤ Ｈ値を有
する溶液で、制御下に少なくとも５倍の容量に希釈し、
次いでフッ素イオン活量を測定し、かつこの測定値から
処理液のフッ素イオン活量をめることである。
゛制御下に″とは本明細也では、希釈度が任意ではなく
、一定の容重になるように行なうことを意味し、その場
合にフッ素イオン活量を逆算Ｊることが可能になる。
、一定の容重になるように行なうことを意味し、その場
合にフッ素イオン活量を逆算Ｊることが可能になる。
ｐｌ−１値が１単位以上異ならないと（よ、処理液のｐ
ｌ−１値が例えばｔＮ−１１，５の場合にはｒ）ｌ−１
０，５〜ｐＨ２，５を有する溶液での希釈が許容される
ことを意味する。
ｌ−１値が例えばｔＮ−１１，５の場合にはｒ）ｌ−１
０，５〜ｐＨ２，５を有する溶液での希釈が許容される
ことを意味する。
フッ素イオン含有浴液をその容量の２０へ・２００倍に
希釈することが好Ｊニジい。希釈瓜の下限は希釈不足の
懸念から、かつ上限は希釈溶液の間貸をできる限り低く
したいという要求と希釈溶液中に痕跡量のＦ−を含まな
りればならないことから夫々規定される。
希釈することが好Ｊニジい。希釈瓜の下限は希釈不足の
懸念から、かつ上限は希釈溶液の間貸をできる限り低く
したいという要求と希釈溶液中に痕跡量のＦ−を含まな
りればならないことから夫々規定される。
処理液のｐｌ−１値の僅かなずれが測定溶液の不都合な
ｐ Ｉ−ｌ （ｉｆｉ変化を１？’ｌぎ、フッ素イオン
制ｔｉｌ＋を国外にすることがないように、本発明の右
利＜ｒ実施態様によればフッ素イオン含有浴液を上記の
ｐｌ−１値の揺れを阻止する緩衝液で希釈する。
ｐ Ｉ−ｌ （ｉｆｉ変化を１？’ｌぎ、フッ素イオン
制ｔｉｌ＋を国外にすることがないように、本発明の右
利＜ｒ実施態様によればフッ素イオン含有浴液を上記の
ｐｌ−１値の揺れを阻止する緩衝液で希釈する。
希釈に好適な緩衝液の１つとしてｌ−Ｉ Ｃ、ｆ！ ／
ＫＣ！／、系がある。
ＫＣ！／、系がある。
測定値から得られた実際値と、表面処理方法に必須の１
１標値との相異をフッ素イオン含有溶液補給を制御する
ために利用覆る。
１標値との相異をフッ素イオン含有溶液補給を制御する
ために利用覆る。
−７−
補給は、金属表面との反応によって消費される有効成分
、並びに処理部材による持ち出しおよび処理浴からのオ
ーバーフローによって除去される有効成分を考慮に入れ
て、通常２つの補給濃厚液によって行なう。フッ素イオ
ン不含の、ないしは少量のフッ素イオンを含有するにす
ぎない濃厚液の補給は公知の、その都度の表面処理方法
に適合せしめられた滴定または他の、例えば電気伝導度
の測定によって制御される。このようにして制御された
補給弁を越える、フッ素イオンの必要分は本発明の方法
によりフッ素イオン溶液で補給する。
、並びに処理部材による持ち出しおよび処理浴からのオ
ーバーフローによって除去される有効成分を考慮に入れ
て、通常２つの補給濃厚液によって行なう。フッ素イオ
ン不含の、ないしは少量のフッ素イオンを含有するにす
ぎない濃厚液の補給は公知の、その都度の表面処理方法
に適合せしめられた滴定または他の、例えば電気伝導度
の測定によって制御される。このようにして制御された
補給弁を越える、フッ素イオンの必要分は本発明の方法
によりフッ素イオン溶液で補給する。
その際最初の補給ｍ用液の組成は、処理浴中で高すぎる
フッ素イオン活量の状態に達しないにうにすべきである
。２番目の主としてフッ素イオンを含有する補給濃厚液
は相応する制限を伴なって他の成分を含／Ｖでいてもよ
い。
フッ素イオン活量の状態に達しないにうにすべきである
。２番目の主としてフッ素イオンを含有する補給濃厚液
は相応する制限を伴なって他の成分を含／Ｖでいてもよ
い。
処理される材料および処理速度が一定の状態ではフッ素
イオン活量を別の溶液で補正することを取りやめ、１種
の補給溶液だりで行なうことももちろん十分可能である
。このような場合には水弁−８− 明によるフッ素イオン活量をめる方法は全体の補給の制
御に有利に使用することができる。
イオン活量を別の溶液で補正することを取りやめ、１種
の補給溶液だりで行なうことももちろん十分可能である
。このような場合には水弁−８− 明によるフッ素イオン活量をめる方法は全体の補給の制
御に有利に使用することができる。
本発明による方法は一般的に使用できるが、化学的また
は電解クロム処理液、なかんづく亜鉛および／またはア
ルミニウム表面のクロム処理用のもののフッ素イオン活
量の維持に特に使用される。
は電解クロム処理液、なかんづく亜鉛および／またはア
ルミニウム表面のクロム処理用のもののフッ素イオン活
量の維持に特に使用される。
次の使用例が挙げられる：
鋼製およびアルミニウム製部材のリン酸亜鉛処理鋼表面
とアルミニウム表面の割合が変化するものの処理。両表
面上に第３リン酸亜鉛皮膜が形成されるが、アルミニウ
ム表面のみが例えば次の反応： Ａｊ！”” ＋６Ｆ−＋３Ｎａ ” −Ｎａ ３Ａｊ！
Ｆ６にＪ：つで著しくフッ素イオンを消費する。この
反応によって“化成阻害物質′″のアルミニウムは処理
溶液から有効に除かれる。亜鉛、リン酸塩および促進剤
の補給は場合により自動滴定に基いて行なわれ、フッ素
イオンの補給は主としてフッ素イオンを、例えばＮ１−
Ｉ ］１Ｆ２の形で含有する第２の濃厚液で行なう。処
理アルミニウム表面の割合が変わる場合にはフッ素イオ
ン含有濃厚液の補給量を変化させて行ない、これは本発
明による方法によって制御する。
とアルミニウム表面の割合が変化するものの処理。両表
面上に第３リン酸亜鉛皮膜が形成されるが、アルミニウ
ム表面のみが例えば次の反応： Ａｊ！”” ＋６Ｆ−＋３Ｎａ ” −Ｎａ ３Ａｊ！
Ｆ６にＪ：つで著しくフッ素イオンを消費する。この
反応によって“化成阻害物質′″のアルミニウムは処理
溶液から有効に除かれる。亜鉛、リン酸塩および促進剤
の補給は場合により自動滴定に基いて行なわれ、フッ素
イオンの補給は主としてフッ素イオンを、例えばＮ１−
Ｉ ］１Ｆ２の形で含有する第２の濃厚液で行なう。処
理アルミニウム表面の割合が変わる場合にはフッ素イオ
ン含有濃厚液の補給量を変化させて行ない、これは本発
明による方法によって制御する。
亜鉛のクロメート処理
亜鉛の酸性クロメート処理では、処理溶液に ”Ｚｎ＋
＋イオンと６価のクロムの還元で生じるＣ、、＋＋＋イ
オンを多量に含有している。後者はフッ素イオンと徐々
に反応して、ＭｉｌｌＩｌのフッ素イオンの含量を減ら
すことが推定される。したがって、一定静１Ｆ期間の後
、例えば−晩装置した場合にはフッ素イオンを別個に補
給しｔＪ４ノればならない。
＋イオンと６価のクロムの還元で生じるＣ、、＋＋＋イ
オンを多量に含有している。後者はフッ素イオンと徐々
に反応して、ＭｉｌｌＩｌのフッ素イオンの含量を減ら
すことが推定される。したがって、一定静１Ｆ期間の後
、例えば−晩装置した場合にはフッ素イオンを別個に補
給しｔＪ４ノればならない。
アルミニウムのグリーンクロメート処理クロメート皮膜
の皮膜重量はアルミニウムのグリーンクロメート処理で
は主としてフッ素イオン活昂に左右される。種々の製品
に対して異なる皮膜重量がめられる場合には別個のフッ
素イオン補給が必要である。
の皮膜重量はアルミニウムのグリーンクロメート処理で
は主としてフッ素イオン活昂に左右される。種々の製品
に対して異なる皮膜重量がめられる場合には別個のフッ
素イオン補給が必要である。
［発明の効！ｌ！］
本発明の利点は、測定に害を与える、測定電極の表面付
着物やその他の変化が有効に排除されることにある。し
かも測定範囲の制限はない、即ちフッ素イオン電極にに
る測定範囲は無限に近く、又希釈液中に痕跡のフッ素イ
オンを含有していればよいのであるから、測定のための
処理液の使用が少ない。
着物やその他の変化が有効に排除されることにある。し
かも測定範囲の制限はない、即ちフッ素イオン電極にに
る測定範囲は無限に近く、又希釈液中に痕跡のフッ素イ
オンを含有していればよいのであるから、測定のための
処理液の使用が少ない。
［実施例］
検量線作成のために２つの溶液を調製した。溶液は夫々
次の成分含む。
次の成分含む。
溶液１゜
ＫＣｌ ３．７３ ｇ／Ｉｔ
１−Ｉ Ｃ！ ５．４７ ｇ＃！
Ｆ’−（ＮａＦとしＴ ） ０．００１ｇ／ｌ溶液２゜
ＫＣｊ！ ３．７３ ｆＪ／Ｉ
ＨＣβ ５．４７９／ρ
Ｆ−（Ｎａ Ｆとして） ０．０１０ｇ＃！各成分は完
全脱塩水中に溶解する、溶液のｐ ｌ−１は約０．９で
ある。
全脱塩水中に溶解する、溶液のｐ ｌ−１は約０．９で
ある。
フッ素イオン電極（オリオン□ ｒｉｏｎ、タイプ９６
−Ｏ９−００）を、２０℃の各溶液に２分間＝ １１
− 浸漬したとき溶液１については測定値＋１９０ｍ■が、
又溶液２については測定値＋１３４ ｍ、 Ｖ 請求め
られた。
−Ｏ９−００）を、２０℃の各溶液に２分間＝ １１
− 浸漬したとき溶液１については測定値＋１９０ｍ■が、
又溶液２については測定値＋１３４ ｍ、 Ｖ 請求め
られた。
以下の測定の場合にも、液温２０℃で２分間浸漬後の測
定値をめた。
定値をめた。
予め強アルカリ性の清浄剤中で清浄にし、かつ水洗した
、溶解亜鉛メッキ鋼板をクロメート処理するために、 次の成分； Ｃｒ ０３ ｇ、Ｏｇ＃！ Ｎ Ｏ（＋−Ｉ Ｎ Ｏ３どして） ９．０ｇ／１Ｆ−
（１」Ｆとして） ０．４０ｇ＃！を含有し、かつｐｌ
−１約０．９のクロメート処理液を調製した。
、溶解亜鉛メッキ鋼板をクロメート処理するために、 次の成分； Ｃｒ ０３ ｇ、Ｏｇ＃！ Ｎ Ｏ（＋−Ｉ Ｎ Ｏ３どして） ９．０ｇ／１Ｆ−
（１」Ｆとして） ０．４０ｇ＃！を含有し、かつｐｌ
−１約０．９のクロメート処理液を調製した。
新たに調製された処理液のフッ素イオン活用について測
定値をめるために処理液試料を緩衝液で１００倍に希釈
した。緩衝液は完全１２塩水中にＫＣＮ ３．７３ｇ／
Ｉｔと１−ＩＣｊ！ ５．４７ ｇ／ｊ！を含有する。
定値をめるために処理液試料を緩衝液で１００倍に希釈
した。緩衝液は完全１２塩水中にＫＣＮ ３．７３ｇ／
Ｉｔと１−ＩＣｊ！ ５．４７ ｇ／ｊ！を含有する。
１ｑられた測定ｆ１は−）１５７ｍＶであり、これは予
めめられた検量線−りの目標値と一致し−１２− た。
めめられた検量線−りの目標値と一致し−１２− た。
前記のクロメート処理液を用いて、処理液１１当り表面
積０．６６ｍを処理した後、先ずＣｒＯ３，０重量％と
１１ＮＯ３１３，５重量％を含む溶液で補給して一定の
クロムＭ（８，０ｇ／ｊりにした。次いでフッ素イオン
活用を測定するために、補給がなされた処理液の試′＃
１を前記の緩衝液で１００倍に希釈した。こうしてめら
れた測定値は＋１６０ｍＶ （２０℃）であった。検品
線と比べて、０．３５９／Ｒのクロメート処理溶液中の
フッ素イオン活用の測定値に相当した。
積０．６６ｍを処理した後、先ずＣｒＯ３，０重量％と
１１ＮＯ３１３，５重量％を含む溶液で補給して一定の
クロムＭ（８，０ｇ／ｊりにした。次いでフッ素イオン
活用を測定するために、補給がなされた処理液の試′＃
１を前記の緩衝液で１００倍に希釈した。こうしてめら
れた測定値は＋１６０ｍＶ （２０℃）であった。検品
線と比べて、０．３５９／Ｒのクロメート処理溶液中の
フッ素イオン活用の測定値に相当した。
次いでクロメート処理溶液にＦ−５０Ｉｎｇ／！を補給
した。制御下の測定によれば、０．４０９／ｊ！のクロ
メート処理溶液中のフッ素イオン活潰に相当する当初の
測定値＋１５７ｍＶ（２０℃）が再び得られた。
した。制御下の測定によれば、０．４０９／ｊ！のクロ
メート処理溶液中のフッ素イオン活潰に相当する当初の
測定値＋１５７ｍＶ（２０℃）が再び得られた。
外１名
Claims (5)
- （１） フッ素イオン活量をフッ素イオン電極を用いて
測定し、かつ浴にフッ素イオンを補給することによって
、金属の表面処理用フッ素イオン含有浴液中のフッ素イ
オン族はを維持するための方法において、フッ素イオン
含有処理液を、該処理液のｐＨ値から１単位以上異なら
ないｐｔｌ値を有する溶液で、制御下に少なくとも５倍
の容量に希釈し、次いでフッ素イオン活量を測定し、か
つこの測定値から処理液のフッ素イオン活量をめること
を特徴とする、金属の表面処理用フッ素イオン含有浴液
の制御方法。 - （２） フッ素イオン含有浴液を２０〜２００倍の容量
に希釈する、特許請求の範囲第１項記載の方法。 - （３） フッ素イオン含有浴液を緩衝液で希釈する、特
許請求の範囲第１項または第２項記載の方法。 - （４） フッ素イオン含有浴液を１−ＩＣＪ）／ＫＣｊ
！溶液で希釈する、特許請求の範囲第３項記載の方法。 - （５） 特に亜鉛および／またはアルミニウム表面をク
ロメート処理するための化学的または電解クロメート処
理液のフッ素イオン活量を維持するために使用される、
特許請求の範囲第１項から第４項までのいずれか１つの
項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19843413905 DE3413905A1 (de) | 1984-04-13 | 1984-04-13 | Verfahren zur ueberwachung fluoridhaltiger baeder zur oberflaechenbehandlung von metallen |
| DE3413905.2 | 1984-04-13 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60251280A true JPS60251280A (ja) | 1985-12-11 |
Family
ID=6233447
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7822785A Pending JPS60251280A (ja) | 1984-04-13 | 1985-04-12 | 金属の表面処理用フツ素イオン含有浴液の制御方法 |
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| JP (1) | JPS60251280A (ja) |
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| JP3181658B2 (ja) * | 1992-01-13 | 2001-07-03 | 日本パーカライジング株式会社 | 金属材料の酸性化成処理における有効フッ素濃度の定量方法 |
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Citations (1)
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|---|---|---|---|---|
| JPS5964781A (ja) * | 1982-09-30 | 1984-04-12 | Nippon Parkerizing Co Ltd | 金属表面の皮膜形成方法 |
Family Cites Families (3)
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|---|---|---|---|---|
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| AU6250373A (en) * | 1972-11-16 | 1975-05-15 | Avesta Jernverks Ab | Potentiometric determination using membrane electrode |
| JPS5599062A (en) * | 1979-01-25 | 1980-07-28 | Nippon Steel Corp | Concentration measurement of pickling solution containing hydrofluoric acid |
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1984
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-
1985
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- 1985-04-12 GB GB8509374A patent/GB2157446B/en not_active Expired
- 1985-04-12 JP JP7822785A patent/JPS60251280A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5964781A (ja) * | 1982-09-30 | 1984-04-12 | Nippon Parkerizing Co Ltd | 金属表面の皮膜形成方法 |
Also Published As
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| GB2157446B (en) | 1987-12-23 |
| AU4103485A (en) | 1985-10-17 |
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| GB2157446A (en) | 1985-10-23 |
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