JPS60251144A - 光学系ガラス原料のバブリング装置 - Google Patents
光学系ガラス原料のバブリング装置Info
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- JPS60251144A JPS60251144A JP10680284A JP10680284A JPS60251144A JP S60251144 A JPS60251144 A JP S60251144A JP 10680284 A JP10680284 A JP 10680284A JP 10680284 A JP10680284 A JP 10680284A JP S60251144 A JPS60251144 A JP S60251144A
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- Japan
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- liquid
- bubbling
- phase part
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/80—Feeding the burner or the burner-heated deposition site
- C03B2207/85—Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from liquid glass precursors, e.g. directly by heating the liquid
- C03B2207/86—Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from liquid glass precursors, e.g. directly by heating the liquid by bubbling a gas through the liquid
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
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- C03B2207/85—Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from liquid glass precursors, e.g. directly by heating the liquid
- C03B2207/89—Controlling the liquid level in or supply to the tank
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/80—Feeding the burner or the burner-heated deposition site
- C03B2207/90—Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from solid glass precursors, i.e. by sublimation
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は光フアイバ用、イメージガイド用、ライトガイ
ド用、ロッドレンズ用など、各種光学系の多孔質ガラス
母材をつくる際に用いられるガラス原料のバブリング装
置に関する。
ド用、ロッドレンズ用など、各種光学系の多孔質ガラス
母材をつくる際に用いられるガラス原料のバブリング装
置に関する。
(従来の技術)
MCVD法、VAD法、OVD法など、既知の化学反応
手段により光学系の多孔質ガラスを作製するとき、所定
の液体原料を気化し、その気化ガスを反応系へ供給して
いる。
手段により光学系の多孔質ガラスを作製するとき、所定
の液体原料を気化し、その気化ガスを反応系へ供給して
いる。
第3図は上記に用いられるバブリング装置の一般例であ
り、この装置はバブリング槽1内が所定液体原料(S
r Cl a、GeCIaなど)による液相部2とその
上位の気相部3とに区分され、その液相部2にはフロー
コントローラ4を有するキャリアガス(Ar 、 02
など)の導入管5が内挿されるとともに気相部3には気
化原料の導出管6が内挿され、さらに上記バブリング槽
1が熱媒体7入りの恒温槽8を介して覆われている。
り、この装置はバブリング槽1内が所定液体原料(S
r Cl a、GeCIaなど)による液相部2とその
上位の気相部3とに区分され、その液相部2にはフロー
コントローラ4を有するキャリアガス(Ar 、 02
など)の導入管5が内挿されるとともに気相部3には気
化原料の導出管6が内挿され、さらに上記バブリング槽
1が熱媒体7入りの恒温槽8を介して覆われている。
上記における液体原料の気化量は、その液温により定ま
る飽和蒸気圧とキャリアガスの流量とで決まり、そのた
めバブリング槽1は既述のごとく精密な恒温槽8内に入
れられ、キャリアガスもフローコントローラ4を介して
精密に制御されるようになっている。
る飽和蒸気圧とキャリアガスの流量とで決まり、そのた
めバブリング槽1は既述のごとく精密な恒温槽8内に入
れられ、キャリアガスもフローコントローラ4を介して
精密に制御されるようになっている。
ところで、上記バブリング装置を連続使用した場合、気
化原料の発生量が漸減していくことが判明し、しかもこ
れが多孔質ガラス母材作製時の制御性を乱し、その母材
の不良発生率を高める一因であることがわかった。
化原料の発生量が漸減していくことが判明し、しかもこ
れが多孔質ガラス母材作製時の制御性を乱し、その母材
の不良発生率を高める一因であることがわかった。
このような現象が起こる原因をパラドックスな仮設によ
り解明するため、上記バブリングによる気化後の原料を
冷却により再度液化し、その重さを連続測定したところ
、第4図のごとく、原料の量が徐々に減少することが究
明できた。
り解明するため、上記バブリングによる気化後の原料を
冷却により再度液化し、その重さを連続測定したところ
、第4図のごとく、原料の量が徐々に減少することが究
明できた。
この実験結果によれば、上記の原因はバブリングにとも
なう原料減により液体原料の液面が漸次低下したとき、
これとともにその液体原料に対する導入管5の深入度が
漸減してキャリアガスのバブル(気泡)と液体原料との
接触時間が徐々に減少し、バブル中における原料の飽和
度が低下すると推定できる。
なう原料減により液体原料の液面が漸次低下したとき、
これとともにその液体原料に対する導入管5の深入度が
漸減してキャリアガスのバブル(気泡)と液体原料との
接触時間が徐々に減少し、バブル中における原料の飽和
度が低下すると推定できる。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明は上記の問題点に鑑み、バブリング中における液
体原料の液面が一定に保持できるよう当該バブリング装
置を改善し、その気化原料が安定して供給できるように
しようとするものである。
体原料の液面が一定に保持できるよう当該バブリング装
置を改善し、その気化原料が安定して供給できるように
しようとするものである。
(問題を解決するための手段)
本発明は、バブリング槽の液相部にはキャリアガスの導
入管が、同種の気相部には気化原料の導出管がそれぞれ
内挿されている光学系ガラス原料のバブリング装置にお
いて、上記液相部には液面検出器と液面調整機の液面調
整部とが配設され、その液面調整機の駆動部が制御器を
介して液面検出器と相互に接続されていることを特徴と
している。
入管が、同種の気相部には気化原料の導出管がそれぞれ
内挿されている光学系ガラス原料のバブリング装置にお
いて、上記液相部には液面検出器と液面調整機の液面調
整部とが配設され、その液面調整機の駆動部が制御器を
介して液面検出器と相互に接続されていることを特徴と
している。
(作用)
本発明装置の場合、バブリング槽内における液相部の液
面が液面検出器、液面調整機、制御器などを介して一定
に保持されるようになり、したがって液体原料の減少に
かかわらず、キャリアガスのバブル(気泡)と液体原料
との接触時間が一定化し、これにより安定して気化原料
が供給できるようになる。
面が液面検出器、液面調整機、制御器などを介して一定
に保持されるようになり、したがって液体原料の減少に
かかわらず、キャリアガスのバブル(気泡)と液体原料
との接触時間が一定化し、これにより安定して気化原料
が供給できるようになる。
(実 施 例)
以下本発明装置の具体的実施例につき、図面を参照して
説明する。
説明する。
第1図、第2図において、1はバブリング槽、2はその
液相部、3はその上位の気相部、5はフローコントロー
ラ4を有するキャリアガスの導入管、8は気化原料の導
出管、8は熱媒体7入りの恒温槽8であり、これらは前
記第3図で述べたものと同じである。
液相部、3はその上位の気相部、5はフローコントロー
ラ4を有するキャリアガスの導入管、8は気化原料の導
出管、8は熱媒体7入りの恒温槽8であり、これらは前
記第3図で述べたものと同じである。
本発明では、上記におけるバブリング槽1に液面検出器
9、液面調整部10と駆動部11とを有する液面調整機
12.制御器13などが備なえられるが、第1図の場合
は液面調整機12の液面調整部10がベローズ型などの
伸縮自在な容器、その駆動部11がコンプレッサからな
るとともにこれらが配管14を介して相互に接続され、
第2図の場合は液面調整機12の液面調整部10がフロ
ート、その駆動部11が伝動機構付のモータからなると
ともに、フロート酸の液面調整部10が駆動部11の伝
動機構により昇降自在なロッド(例えば螺軸)15の下
端に連結されている。
9、液面調整部10と駆動部11とを有する液面調整機
12.制御器13などが備なえられるが、第1図の場合
は液面調整機12の液面調整部10がベローズ型などの
伸縮自在な容器、その駆動部11がコンプレッサからな
るとともにこれらが配管14を介して相互に接続され、
第2図の場合は液面調整機12の液面調整部10がフロ
ート、その駆動部11が伝動機構付のモータからなると
ともに、フロート酸の液面調整部10が駆動部11の伝
動機構により昇降自在なロッド(例えば螺軸)15の下
端に連結されている。
第1図の実施例では伸縮自在な容器製の液面調整部10
がバブリング槽1の液相部2内に浸漬され、第2図の実
施例ではフロート酸の液面調整部11が」二記液相部2
の液面を抑圧可能なるようバブリング槽l内へ配置され
るが、この態様の相違を除き、両実施例とも共通した構
成となっている。
がバブリング槽1の液相部2内に浸漬され、第2図の実
施例ではフロート酸の液面調整部11が」二記液相部2
の液面を抑圧可能なるようバブリング槽l内へ配置され
るが、この態様の相違を除き、両実施例とも共通した構
成となっている。
すなわち、液面検出器9はバブリング槽1における液相
部2の液面に対応して配設され、該液面検出器9と液面
調整機12の液面調整部10とが制御器13を介して相
互に接続される。
部2の液面に対応して配設され、該液面検出器9と液面
調整機12の液面調整部10とが制御器13を介して相
互に接続される。
上記実施例からなる本発明では、導入管5を介してバブ
リング槽1の液相部2ヘキャリアガスを吹きこみ、これ
により気化した原料ガスを導出管6より所定の反応系へ
給送する際、その原料供給にともなって低下する液相部
2の液面を一定に保持する。
リング槽1の液相部2ヘキャリアガスを吹きこみ、これ
により気化した原料ガスを導出管6より所定の反応系へ
給送する際、その原料供給にともなって低下する液相部
2の液面を一定に保持する。
これに際してはバブリング時における液相部2の液面を
液面検出器8により検出してその測定信号を制御器13
へ入力し、該制御器13では入力された信号を電気的、
電子的に演算処理して液面調整機12の駆動部11をア
ナログ、デジタル、あるいはタイムリーに稼動させるが
、その駆動部11がコンプレッサ、液面調整部10が容
器からなる第1図の場合では、液相部2中の該容器内に
コンプレッサからのガスを吹きこんでこれを所定量ずつ
、または所定量だけ膨満させ、一方、その駆動部11が
モータ、液面調整部10がフロートからなる第2図の場
合では、モータの駆動によりフロートを液相部2内へ所
定量ずつ、または所定量だけ深入させることとなる。
液面検出器8により検出してその測定信号を制御器13
へ入力し、該制御器13では入力された信号を電気的、
電子的に演算処理して液面調整機12の駆動部11をア
ナログ、デジタル、あるいはタイムリーに稼動させるが
、その駆動部11がコンプレッサ、液面調整部10が容
器からなる第1図の場合では、液相部2中の該容器内に
コンプレッサからのガスを吹きこんでこれを所定量ずつ
、または所定量だけ膨満させ、一方、その駆動部11が
モータ、液面調整部10がフロートからなる第2図の場
合では、モータの駆動によりフロートを液相部2内へ所
定量ずつ、または所定量だけ深入させることとなる。
もちろん上記容器の膨満量、フロート深入量は原料供給
時における液相部2の液面低下が補償できるよう、つま
りその液面が一定に保持できるように設定するが、この
際の液面変動には許容範囲があるのでその許容範囲内に
おいて前記制御系、駆動系を断続的に作動させてもよい
。
時における液相部2の液面低下が補償できるよう、つま
りその液面が一定に保持できるように設定するが、この
際の液面変動には許容範囲があるのでその許容範囲内に
おいて前記制御系、駆動系を断続的に作動させてもよい
。
かくてバブリング槽l内における液相部2の液面は一定
に保持され、これによりキャリアガスのバブル(気泡)
と液体原料との接触時間も一定となり、ゆえに原料の気
化ガスを反応系へ安定供給することができる。
に保持され、これによりキャリアガスのバブル(気泡)
と液体原料との接触時間も一定となり、ゆえに原料の気
化ガスを反応系へ安定供給することができる。
なお1本発明の基本的な原理はバブリング槽1内の容積
を減じることにより液相部2の液面位を一定に保持する
ものであり、したがってその内容積を減じることのでき
るものであれば他の手段も採用できる。
を減じることにより液相部2の液面位を一定に保持する
ものであり、したがってその内容積を減じることのでき
るものであれば他の手段も採用できる。
また、液面検出器13も既製のものが各種採用できる。
(発明の効果)
以上説明した通り、本発明装置によるときは液面検出器
、液面調整部と駆動部とを有する液面調整機、制御器な
どを介してバブリング中における液体原料の液面が一定
に保持できるから、バブリングによる気化原料が安定し
て供給できるようになる。
、液面調整部と駆動部とを有する液面調整機、制御器な
どを介してバブリング中における液体原料の液面が一定
に保持できるから、バブリングによる気化原料が安定し
て供給できるようになる。
第1図、第2図は本発明装置の各種実施例を略示した説
明図、第3図は本発明装置が前提としている従来装置の
略示説明図、第4図は液面低下と気化原料との関係を示
す説明図である。 1 ・・・バブリング槽 2・・・液相部 3 ・・・気相部 5 ・・Φキャリアガスの導入管 6・・・気化原料の導出管 9・・・液面検出器 10@−−液面調整機の液面調整部 11・・・液面調整機の駆動部 12・・・液面調整機 13・・中制御器 14・・参配管 15・・争ロッド 代理人 弁理士 斎 藤 義 雄 第 fllW J(J 第3図 第 21!O 2 1す 第4図 o o5r、。 ミに面高さ
明図、第3図は本発明装置が前提としている従来装置の
略示説明図、第4図は液面低下と気化原料との関係を示
す説明図である。 1 ・・・バブリング槽 2・・・液相部 3 ・・・気相部 5 ・・Φキャリアガスの導入管 6・・・気化原料の導出管 9・・・液面検出器 10@−−液面調整機の液面調整部 11・・・液面調整機の駆動部 12・・・液面調整機 13・・中制御器 14・・参配管 15・・争ロッド 代理人 弁理士 斎 藤 義 雄 第 fllW J(J 第3図 第 21!O 2 1す 第4図 o o5r、。 ミに面高さ
Claims (3)
- (1)バブリング槽の液相部にはキャリアガスの導入管
が、同種の気相部には気化原料の導出管がそれぞれ内挿
されている光学系ガラス原料のバブリング装置において
、上記液相部には液面検出器と液面調整機の液面調整部
とが配設され、その液面調整機の駆動部が制御器を介し
て液面検出器と相互に接続されていることを特徴とする
光学系ガラス原料のバブリング装置。 - (2)液面調整部が伸縮自在な容器からなる特許請求の
範囲第1項記載の光学系ガラス原料のバブリング装置。 - (3)液面調整部がフロートからなる特許請求の範囲第
1項記載の光学系ガラス原料のバブリング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10680284A JPS60251144A (ja) | 1984-05-25 | 1984-05-25 | 光学系ガラス原料のバブリング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10680284A JPS60251144A (ja) | 1984-05-25 | 1984-05-25 | 光学系ガラス原料のバブリング装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60251144A true JPS60251144A (ja) | 1985-12-11 |
Family
ID=14442997
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10680284A Pending JPS60251144A (ja) | 1984-05-25 | 1984-05-25 | 光学系ガラス原料のバブリング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60251144A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100632879B1 (ko) * | 1999-06-03 | 2006-10-16 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 유리소재의 제조장치 및 제조방법 |
JP2018095485A (ja) * | 2016-12-08 | 2018-06-21 | 株式会社モトヤマ | 溶解炉 |
JP2018193273A (ja) * | 2017-05-17 | 2018-12-06 | 住友電気工業株式会社 | ガラス原料容器 |
-
1984
- 1984-05-25 JP JP10680284A patent/JPS60251144A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100632879B1 (ko) * | 1999-06-03 | 2006-10-16 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 유리소재의 제조장치 및 제조방법 |
JP2018095485A (ja) * | 2016-12-08 | 2018-06-21 | 株式会社モトヤマ | 溶解炉 |
JP2018193273A (ja) * | 2017-05-17 | 2018-12-06 | 住友電気工業株式会社 | ガラス原料容器 |
CN108947211A (zh) * | 2017-05-17 | 2018-12-07 | 住友电气工业株式会社 | 玻璃原料容器 |
CN108947211B (zh) * | 2017-05-17 | 2022-06-21 | 住友电气工业株式会社 | 玻璃原料容器 |
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