JPS60249144A - 写真材料 - Google Patents
写真材料Info
- Publication number
- JPS60249144A JPS60249144A JP60093956A JP9395685A JPS60249144A JP S60249144 A JPS60249144 A JP S60249144A JP 60093956 A JP60093956 A JP 60093956A JP 9395685 A JP9395685 A JP 9395685A JP S60249144 A JPS60249144 A JP S60249144A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- antistatic layer
- group
- ester compound
- sodium
- material according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/85—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by antistatic additives or coatings
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はポリオレフィン−被覆され九紙支持体の一側面
上に少くとも一つのノ・ロゲン化銀乳剤層を含みそして
支持体の他の側面上に帯電防止層を含む写真材料に関す
る。
上に少くとも一つのノ・ロゲン化銀乳剤層を含みそして
支持体の他の側面上に帯電防止層を含む写真材料に関す
る。
ポリオレフィン−被覆された写真用紙に、帯電防止性を
材料に付与する裏材層を施すことは知られている。帯電
防止仕上げは写真材料の感光性層を、偶発的な露出即ち
例えば材料の輸送過程、注型または包装過程または加工
処理装置中における放電によって起されることがある所
謂”樹枝状”の露出による被害から防護する。静電荷は
例えば材料がそこを通過するローラー′または装置のそ
のされそして写真処理工程後年規則な縞もしくは線また
は黒点があられれる。
材料に付与する裏材層を施すことは知られている。帯電
防止仕上げは写真材料の感光性層を、偶発的な露出即ち
例えば材料の輸送過程、注型または包装過程または加工
処理装置中における放電によって起されることがある所
謂”樹枝状”の露出による被害から防護する。静電荷は
例えば材料がそこを通過するローラー′または装置のそ
のされそして写真処理工程後年規則な縞もしくは線また
は黒点があられれる。
写真材料の表面は接部（する二つの材料の間の付着を低
減するためマット剤（ｍａ、ｔ ｔ ｉｎｇ ａｇｅｎ
ｔ ）を保護層に添加することによって静電的に帯電す
ることから防がれる。もし電荷が既に形成されているな
らば、これは電導性添加物によって除去されうる。これ
ら二つの方法を組合せて用いることもできる。
減するためマット剤（ｍａ、ｔ ｔ ｉｎｇ ａｇｅｎ
ｔ ）を保護層に添加することによって静電的に帯電す
ることから防がれる。もし電荷が既に形成されているな
らば、これは電導性添加物によって除去されうる。これ
ら二つの方法を組合せて用いることもできる。
電解質としてまたはそのマット効果のために帯電防止作
用をあられすことのできる多数の単量体重たは重合体の
化合物が写真材料の静電的帯電を抑制するのに適当であ
ることは既に記述されている；これについてはドイツ特
許出願公開明細書筒２．３３７，３９２号、第２，３５
９，５５３号、第６，３１１．１２６号、第２，５１５
，７９１号及び第２，５３４、９７６号参照。
用をあられすことのできる多数の単量体重たは重合体の
化合物が写真材料の静電的帯電を抑制するのに適当であ
ることは既に記述されている；これについてはドイツ特
許出願公開明細書筒２．３３７，３９２号、第２，３５
９，５５３号、第６，３１１．１２６号、第２，５１５
，７９１号及び第２，５３４、９７６号参照。
従来知られた帯電防止層は、写真材料、殊に機械的に加
工処理されるべき材料にとって特に重要な性質を欠除し
ているかまたは不十分にしかあられれないという欠点を
もっている。これら性質のなかには、乳剤層の施用過程
で通過する輸送ローラーまたは所謂”プリンター”を通
る通路中における摩擦に対する高゛−析抗力及び写真処
理液による帯電防止性に関し悪い影響を受けることなし
に保たれる能力が包含される；その上帯電防止層はその
成分でこれら液を汚染しないことが確実でなければなら
ずそしてこの層は高い巻取り摩擦に付されるときできえ
も粘着して１なら／よい。これらはまたプリント、及び
ボールにンインキを含めて常用の糊またはインクによる
書写に対して適する表面を形成しなければならない。公
知の帯電防止層の特に面倒な特質の一つけ輸送ローラー
を用いる現像機械中で汚物を拾い上げる傾向があること
である。特にシートフィルムを処理するように設計され
そして織物−被覆されたローラーを含む機械中では現像
液酸化生成物よシ成る汚物薄膜が処理された材料の背面
に析出される傾向があり、これは特に機械の操作開始時
及び機械の生産速度が低いときにその傾向が大きい。
工処理されるべき材料にとって特に重要な性質を欠除し
ているかまたは不十分にしかあられれないという欠点を
もっている。これら性質のなかには、乳剤層の施用過程
で通過する輸送ローラーまたは所謂”プリンター”を通
る通路中における摩擦に対する高゛−析抗力及び写真処
理液による帯電防止性に関し悪い影響を受けることなし
に保たれる能力が包含される；その上帯電防止層はその
成分でこれら液を汚染しないことが確実でなければなら
ずそしてこの層は高い巻取り摩擦に付されるときできえ
も粘着して１なら／よい。これらはまたプリント、及び
ボールにンインキを含めて常用の糊またはインクによる
書写に対して適する表面を形成しなければならない。公
知の帯電防止層の特に面倒な特質の一つけ輸送ローラー
を用いる現像機械中で汚物を拾い上げる傾向があること
である。特にシートフィルムを処理するように設計され
そして織物−被覆されたローラーを含む機械中では現像
液酸化生成物よシ成る汚物薄膜が処理された材料の背面
に析出される傾向があり、これは特に機械の操作開始時
及び機械の生産速度が低いときにその傾向が大きい。
本発明の目的は写真材料の機械的処理に必要な磨耗抵抗
性を有し且つプリント及び書写に適した表面を形成し、
そしてシートフィルム上に用いるとき上記欠点なしに材
料を機械的に処理することを可能ならしめる帯電防止層
を提供することである。
性を有し且つプリント及び書写に適した表面を形成し、
そしてシートフィルム上に用いるとき上記欠点なしに材
料を機械的に処理することを可能ならしめる帯電防止層
を提供することである。
この問題は、本発明に従いポリオレフィン−被俊された
紙支持体の一側面上に少くとも一つのハロゲン化銀乳剤
層を含みそして支持体の他の側面上に帯電防止層を含む
写真材料であって、帯電防止層は、 （，４） ナトリウムマグネシウムシリケートとポリス
チレンスルホン酸ナトリウム塩との混合物；及び （Ｂ） 次記一般式Ｉ及び■ 式中。Ｒ′は炭素原子８〜１８個を有するアルキルまた
はアルケニル基をあられし；Ｒ２は置換されたもしくは
置換されていないシクロアルキルまたはアリール基、縮
合されたアリールシクロアルキル基、アラルキル基また
は基： の一つをあられし；そして Ｘはシクロヘキシレン、アルキレン アルキレン−シクロアルキレンまたは基−−Ｃ１１２−
ＣＨ，−（０−ＣＨ２−ＣＨ２−）３−７、−ＣＨ，−
’ＣＨ，−及び 一〇Ｈ。
紙支持体の一側面上に少くとも一つのハロゲン化銀乳剤
層を含みそして支持体の他の側面上に帯電防止層を含む
写真材料であって、帯電防止層は、 （，４） ナトリウムマグネシウムシリケートとポリス
チレンスルホン酸ナトリウム塩との混合物；及び （Ｂ） 次記一般式Ｉ及び■ 式中。Ｒ′は炭素原子８〜１８個を有するアルキルまた
はアルケニル基をあられし；Ｒ２は置換されたもしくは
置換されていないシクロアルキルまたはアリール基、縮
合されたアリールシクロアルキル基、アラルキル基また
は基： の一つをあられし；そして Ｘはシクロヘキシレン、アルキレン アルキレン−シクロアルキレンまたは基−−Ｃ１１２−
ＣＨ，−（０−ＣＨ２−ＣＨ２−）３−７、−ＣＨ，−
’ＣＨ，−及び 一〇Ｈ。
の一つをあられす、
の一つに相当するコハク酸半−エステル化合物、を含む
こ七を４゛￥徴とする写真材料によって解決させる。
こ七を４゛￥徴とする写真材料によって解決させる。
縮合されたアリールシクロアルキル基とは少くとも一つ
の芳香族炭素環と少くとも一つの非芳香族炭素環とより
成る縮合環系の基、例えば次の構造 を有する基であると理解きれるべきである。
の芳香族炭素環と少くとも一つの非芳香族炭素環とより
成る縮合環系の基、例えば次の構造 を有する基であると理解きれるべきである。
帯電防止剤（Ａ）としての使用に適するす） ＩＪウム
マグネシウムシリケートは市場で入手しうる。
マグネシウムシリケートは市場で入手しうる。
著しく適当なナトリウムマグネシウムシリケートの一つ
は例えば次の組成を有する； Ｓｉｎ、 ５０．９重量％ ＭｒｔＯ２４，２１ Ｎｏ、２０ ３．７ ’ Ｌｉ２Ｏ１，８１ Ｆ４．７ １ 残部は構造的に結合された水である。
は例えば次の組成を有する； Ｓｉｎ、 ５０．９重量％ ＭｒｔＯ２４，２１ Ｎｏ、２０ ３．７ ’ Ｌｉ２Ｏ１，８１ Ｆ４．７ １ 残部は構造的に結合された水である。
上記コハク酸半−エステル化合物Ｂは公知法により容易
に製造されそして部分Ｒ１は本発明の目的に重要な化合
物の性質に対し比較的僅かな影響しか有しガい。
に製造されそして部分Ｒ１は本発明の目的に重要な化合
物の性質に対し比較的僅かな影響しか有しガい。
好ましくコハク醪半−エステル化合物、以下簡単にコハ
ク酸半−エーステルと呼ぶ、においてＲ′はモノ不飽和
脂肪族基−ＣＩ １！ １１２３、 ’ ｌ ５１．／
２９または−Ｃ，，Ｂ、、の一つをあられし、その生成
はプロピレンの繰返し添加によって霞明されよう。
ク酸半−エーステルと呼ぶ、においてＲ′はモノ不飽和
脂肪族基−ＣＩ １！ １１２３、 ’ ｌ ５１．／
２９または−Ｃ，，Ｂ、、の一つをあられし、その生成
はプロピレンの繰返し添加によって霞明されよう。
好ましいコハク酸半−エステルの例として次の化合物が
挙げられる： （６） ｃｎ、 （４） Ｃ１ｌ。
挙げられる： （６） ｃｎ、 （４） Ｃ１ｌ。
ｌ１３
／？１−ＣＨ−Ｃ’ＯＯＨ
「
７？Ｉ−ＣＢ−Ｃｏｏｎ
ＲＩ−ＣＨ−ＣＯＯＩｉ
／？ｌ −Ｃ１ｌ−Ｃ’００Ｂ
（１２）
Ｒ１−ＣＢ−ＣＯＯＢ
ＲＩ−ＣＨ−ＣＯＯＨＨＯＯＣ−ＣＨ−ＲＩＨＯＯＣ−
ＣＨ−ＲＩ 一−ＣＨｆ１５） ＣＨ３ ＨＯＯＣ−ＣＨ−／？Ｉ 一０ＣＩＩ、ＣＥ２００Ｃ−ＣＨ２（１７）（１９） （２０） （２１） コハク酸半−エステルの製造はよく知られており、酸性
または塩基性触媒（例えばジアザビシクロオクタン）の
助けによりアルコールをコハク酸無水物でエステル化す
ることによって全く簡単に行なうことができる。製造方
法は例えばベルギー特許第７５６，４７６号、カナダ特
許第８３５．４２０号及び米国特許第３．６８９．２７
１号の中に記載されている。
ＣＨ−ＲＩ 一−ＣＨｆ１５） ＣＨ３ ＨＯＯＣ−ＣＨ−／？Ｉ 一０ＣＩＩ、ＣＥ２００Ｃ−ＣＨ２（１７）（１９） （２０） （２１） コハク酸半−エステルの製造はよく知られており、酸性
または塩基性触媒（例えばジアザビシクロオクタン）の
助けによりアルコールをコハク酸無水物でエステル化す
ることによって全く簡単に行なうことができる。製造方
法は例えばベルギー特許第７５６，４７６号、カナダ特
許第８３５．４２０号及び米国特許第３．６８９．２７
１号の中に記載されている。
本発明による帯電防止層中において、コハク酸半−エス
テルは単独でまたは混合物として用いＺことができる。
テルは単独でまたは混合物として用いＺことができる。
それらは有利には油／水エマルジョンの形で用いられる
。ナトリウムマグネシウムシリケートとの組合せにおい
て、これらのエマルジョンはすぐれた堅固な付着性及び
磨耗抵抗性の層を与える。
。ナトリウムマグネシウムシリケートとの組合せにおい
て、これらのエマルジョンはすぐれた堅固な付着性及び
磨耗抵抗性の層を与える。
本発明による帯電防止層はナトリウムマグネシウムシリ
ケートとポリスチレンスルホンｌソナトリラムとの混合
物（、（）の３０〜１５０ Ｗ ／ ｎ？、好ましくけ
６０〜１００即／１−？及びコハク酸半−エステル（Ｒ
）の４ ［１〜２００ Ｔｎｇ／ ｔ＋＋’、好ましく
は８０〜１２０叩／’ｎ？を含有する。
ケートとポリスチレンスルホンｌソナトリラムとの混合
物（、（）の３０〜１５０ Ｗ ／ ｎ？、好ましくけ
６０〜１００即／１−？及びコハク酸半−エステル（Ｒ
）の４ ［１〜２００ Ｔｎｇ／ ｔ＋＋’、好ましく
は８０〜１２０叩／’ｎ？を含有する。
ナトリウムマグネシウムシリケートとポリスチー レン
スルホン酸ナトリウムとがＳ］ｉＬ合される割合は、型
開０部として、０．５：１乃至１２：１の範囲に亘るこ
とができる。好ましくけ４：１乃至７：１である。
スルホン酸ナトリウムとがＳ］ｉＬ合される割合は、型
開０部として、０．５：１乃至１２：１の範囲に亘るこ
とができる。好ましくけ４：１乃至７：１である。
上記した成分Ｌ４）及び［１に加えて、帯電防止層は写
真用補助層のための常用の添加物、例えばプロティン、
セルロース誘導体、ポリサッカライド、ポリビニルアル
コールまたはポリビニルピロリドン、特にゼラチンの如
き天然もしくは合成バインダー：濡れ剤、つや消し剤ま
たは殺菌剤の如き被覆補助剤及び硫酸セルロースまたは
カルボキシメチルセルロースの如きシックナーを含有す
ることができる。本発明による帯電防止層の注型溶液中
に被覆補助剤として常用の物質、例えばスルホコハク酸
ジオクチルエステル、ジプチルナフタレンスルホン酸、
トリイソプロピルアンスラセンスルホン濃及ヒ特にトチ
ゝ゛シルベンゼンスルホン酸のナトリウム塩を用いるこ
とができる。
真用補助層のための常用の添加物、例えばプロティン、
セルロース誘導体、ポリサッカライド、ポリビニルアル
コールまたはポリビニルピロリドン、特にゼラチンの如
き天然もしくは合成バインダー：濡れ剤、つや消し剤ま
たは殺菌剤の如き被覆補助剤及び硫酸セルロースまたは
カルボキシメチルセルロースの如きシックナーを含有す
ることができる。本発明による帯電防止層の注型溶液中
に被覆補助剤として常用の物質、例えばスルホコハク酸
ジオクチルエステル、ジプチルナフタレンスルホン酸、
トリイソプロピルアンスラセンスルホン濃及ヒ特にトチ
ゝ゛シルベンゼンスルホン酸のナトリウム塩を用いるこ
とができる。
本発明の帯電防止層は浸漬、噴霧またはブレード被覆の
如き常法によって写真層支持体の裏面に施される。より
良い付層のためｖｔ丁は予備処理例えばドイツ特許出願
公告第１．１５９．１５９号に従うコロナ照射が奨めら
れる。本発明による帯電防止層を施した後、感光性写真
ハロゲン化銀乳剤層及び補助層を層支持体の他の側面に
ホハすことができる。
如き常法によって写真層支持体の裏面に施される。より
良い付層のためｖｔ丁は予備処理例えばドイツ特許出願
公告第１．１５９．１５９号に従うコロナ照射が奨めら
れる。本発明による帯電防止層を施した後、感光性写真
ハロゲン化銀乳剤層及び補助層を層支持体の他の側面に
ホハすことができる。
用いられる層支持体は炭素原子２〜２０を含むα−オレ
フィンのポリマー例えばポリエチレン、ポリプロピレン
またはエチレンとプロピレンとのコポリマーで被覆され
た紙であることができる。
フィンのポリマー例えばポリエチレン、ポリプロピレン
またはエチレンとプロピレンとのコポリマーで被覆され
た紙であることができる。
本発明による帯電防止層は白黒写真材料及びカラー写真
材料のいずれに対しても適する。写真層の性質は本発明
の帯電防止層によって何ら悪い影響を受けることがない
。
材料のいずれに対しても適する。写真層の性質は本発明
の帯電防止層によって何ら悪い影響を受けることがない
。
同時にまた、本発明による帯電防止層の帯電防止性質は
写真材料に用いられる処理液によって損なわれもしない
し、捷たとれら処理液はこの帯電防止層の成分によって
影響されることもない。この帯電防止層はすぐれた磨耗
抵抗性を有し、従って織物ローラーを備えた機械中での
処理が意図される写真材料用に有、利に使用される。
写真材料に用いられる処理液によって損なわれもしない
し、捷たとれら処理液はこの帯電防止層の成分によって
影響されることもない。この帯電防止層はすぐれた磨耗
抵抗性を有し、従って織物ローラーを備えた機械中での
処理が意図される写真材料用に有、利に使用される。
以下の実施例けここに記載の帯電防止層の使用を説明す
るのに供される。
るのに供される。
１、 コハク酸半−エステルの、直ちに使用しうル、水
性エマルジョンの調製： ゼラチン３０ｇを蒸留水９９７１中に４０℃で溶かす。
性エマルジョンの調製： ゼラチン３０ｇを蒸留水９９７１中に４０℃で溶かす。
次いで８０重量％フェノール水溶液４０ｇを加える。
次にこの溶液中ヘコノ・り酸半−エステル３ｋｌｌＪと
ナトリウムドデシルベンゼンスルホネ−ドア ５ Ｆト
ヲジエテルカーポネート５に９中に溶かした溶液を４０
℃で高速攪拌装置を用いて横押添加する。
ナトリウムドデシルベンゼンスルホネ−ドア ５ Ｆト
ヲジエテルカーポネート５に９中に溶かした溶液を４０
℃で高速攪拌装置を用いて横押添加する。
溶液を一緒にしたとき得られた混合物を適当な装置の中
で８０バールで均質化し、次いで用いた補助剤を蒸−留
除去する。
で８０バールで均質化し、次いで用いた補助剤を蒸−留
除去する。
帯電防止性注型溶液の調製
２．１．脱イオン化した水７．２６ ｋｇ中へ、撹拌し
ながら、下記のもの次々に導入する： 上記１により調製されたコハク酸半−エステル陽ｊ （
Ｒ’ ＝Ｃ，、Ｈｓｙ ）の水性エマルジョン０，８ゆ
、ナトリウムマグネシウムシリケート１．２５ ｋｇ（
水中１０％）、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム０．
４４ ｋｌＦ （水中５％）、及びドデシルベンゼンス
ルホン酸ナトリウム０．２７ｋｇ（水中４率％）。
ながら、下記のもの次々に導入する： 上記１により調製されたコハク酸半−エステル陽ｊ （
Ｒ’ ＝Ｃ，、Ｈｓｙ ）の水性エマルジョン０，８ゆ
、ナトリウムマグネシウムシリケート１．２５ ｋｇ（
水中１０％）、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム０．
４４ ｋｌＦ （水中５％）、及びドデシルベンゼンス
ルホン酸ナトリウム０．２７ｋｇ（水中４率％）。
２．２．帯電防止、注型溶液２．１の組成を次の通シ変
更： 脱イオン水 ６．４７ｋｇ コハク酸半−エステル崩１（１＝ ” ｕ＋Ｈｓｓ ） １．２ ｋｌ？ ナトリウムマグネシウムシリケート （１０％） １．８４ ｋｇ ポリスチレンスルホン酸ナトリウム （５％） ０．３３ ｋｇ ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリ ウム（４％） ０．１６に９ ２．６．溶液２．１の組成を次の通り変更：脱イオン化
水 ８．３３ｋｇ コハク酢半−エステルＮｏ、６（Ｒ’ ＝Ｃ＋ｓ＃ｓ＊
） ０．３ｋｇ ナトリウムマグネシウムシリケート （１０％） ０．４ ｋｇ ポリスチレンスルホン酸ナトリウム （５％） ［１，７ｋｇ ドテシルベンゼンスルポンＱｊＪ−） リウム（４０％
） ［１，２７ｋｇ ２．４、溶液２．１の組成を次の通り変更：脱イオン化
水 ８．８８ ｋｌｉｌ コハク酸半−エステル阻７（ＲＩ − （：’１８Ｈ３！＋） ０６に＆ ナトリウムマグネシウムシリケート （１０％） ０．２ ｋｙ ポリスチレンスルホン酸ナトリウム （５％） ０．３５ｋｇ ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリ ウム（４％） ０．２７ｋｔＪ ２．５、溶液２．１の組成を次の通り変更：脱イオン化
水 ６．８３ ｋｇ コハク酸半−エステル園１８（Ｒ１＝ ＣＩｓＨｓ＊ ） ０．９ ｋｌｉ’ ナトリウム゛マグネシウムシリケート （１０％） ０．４ ｋｇ ポリスチレンスルホン酸ナトリウム （５％） １． ／ｌ ｋｇ ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリ ウム（４％３ ０．２７ｋｇ ３、 帯電防止層の調製： 注型溶液２．１〜２．５を別々に予めコロナ処理に付し
たポリエチレン−被覆された紙支持体の背面上に注型す
る。層の適用はドクターブレードにより調整して１７１
？当り注型液５ｇが適用されるようにする。こうして調
製された層を次いで乾燥する。
更： 脱イオン水 ６．４７ｋｇ コハク酸半−エステル崩１（１＝ ” ｕ＋Ｈｓｓ ） １．２ ｋｌ？ ナトリウムマグネシウムシリケート （１０％） １．８４ ｋｇ ポリスチレンスルホン酸ナトリウム （５％） ０．３３ ｋｇ ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリ ウム（４％） ０．１６に９ ２．６．溶液２．１の組成を次の通り変更：脱イオン化
水 ８．３３ｋｇ コハク酢半−エステルＮｏ、６（Ｒ’ ＝Ｃ＋ｓ＃ｓ＊
） ０．３ｋｇ ナトリウムマグネシウムシリケート （１０％） ０．４ ｋｇ ポリスチレンスルホン酸ナトリウム （５％） ［１，７ｋｇ ドテシルベンゼンスルポンＱｊＪ−） リウム（４０％
） ［１，２７ｋｇ ２．４、溶液２．１の組成を次の通り変更：脱イオン化
水 ８．８８ ｋｌｉｌ コハク酸半−エステル阻７（ＲＩ − （：’１８Ｈ３！＋） ０６に＆ ナトリウムマグネシウムシリケート （１０％） ０．２ ｋｙ ポリスチレンスルホン酸ナトリウム （５％） ０．３５ｋｇ ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリ ウム（４％） ０．２７ｋｔＪ ２．５、溶液２．１の組成を次の通り変更：脱イオン化
水 ６．８３ ｋｇ コハク酸半−エステル園１８（Ｒ１＝ ＣＩｓＨｓ＊ ） ０．９ ｋｌｉ’ ナトリウム゛マグネシウムシリケート （１０％） ０．４ ｋｇ ポリスチレンスルホン酸ナトリウム （５％） １． ／ｌ ｋｇ ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリ ウム（４％３ ０．２７ｋｇ ３、 帯電防止層の調製： 注型溶液２．１〜２．５を別々に予めコロナ処理に付し
たポリエチレン−被覆された紙支持体の背面上に注型す
る。層の適用はドクターブレードにより調整して１７１
？当り注型液５ｇが適用されるようにする。こうして調
製された層を次いで乾燥する。
４、試験方法：
写真材料が加工処理機械中を通過するとき帯電防止層が
汚物を拾い上げる傾向を調べるため次のように試験する
：ポリプロピレン織布で被嫌されそしてスチールの接Ｍ
圧ローラーに接触している織布ローラーを皿に収窮した
現像液の中に浸漬する。この織布ローラーをモーターで
駆動する。現像液をその温度が３０℃に保たれるように
サーモスタットを経て循環させる。試験に用いられる現
像液は試験供試用として空気を２日間通過させたもので
ある。汚物を拾い上げる度合いは１（甚だしく汚物）か
ら５（認め得る汚染なし）に亘る数学的尺度に従って評
価する： 現像液１１は次のものを含有するニ オレイン酸−Ｎ−メチルタウライド、 ナトリウム塩 ０．０５ Ｆ ジエチレングクリコール ５０．０ｍ６ベンジルアルコ
ール ２０．２ ｍｌ 白色トーナー（ナトリウム塩） １．５ＩＩフルオ一ル
テンシト４％ ０．１５ ｍｌカグロラクタム ５．０
．？ ４−アミノーＮ−エテルーＮ−（３ −メチルスルホンアミド）−ｍ−ト ルイジン ６．６１ １−ヒドロキシ−エタン−１，１ 一ジホスホン酸ジナトリウム塩 ０１６ｇヒドロキシル
アミンサルフェート６、ｏｇニトリロトリ酢酸ナトリウ
ム塩 ０６Ｉ！ジエチレントリアミンペンタ酢酸 ナトリウム塩 ０．７７ 、！？ 炭酸カリウム ３４．０．９ 水酸化カリウム ３．６ｇ 試料を試験するため上記の装置を次の如く用いる： 試験試料（９Ｘ２３α）を装置を通じ縦長方向に、帯電
防止層を織布ローラーに面して通過させる。
汚物を拾い上げる傾向を調べるため次のように試験する
：ポリプロピレン織布で被嫌されそしてスチールの接Ｍ
圧ローラーに接触している織布ローラーを皿に収窮した
現像液の中に浸漬する。この織布ローラーをモーターで
駆動する。現像液をその温度が３０℃に保たれるように
サーモスタットを経て循環させる。試験に用いられる現
像液は試験供試用として空気を２日間通過させたもので
ある。汚物を拾い上げる度合いは１（甚だしく汚物）か
ら５（認め得る汚染なし）に亘る数学的尺度に従って評
価する： 現像液１１は次のものを含有するニ オレイン酸−Ｎ−メチルタウライド、 ナトリウム塩 ０．０５ Ｆ ジエチレングクリコール ５０．０ｍ６ベンジルアルコ
ール ２０．２ ｍｌ 白色トーナー（ナトリウム塩） １．５ＩＩフルオ一ル
テンシト４％ ０．１５ ｍｌカグロラクタム ５．０
．？ ４−アミノーＮ−エテルーＮ−（３ −メチルスルホンアミド）−ｍ−ト ルイジン ６．６１ １−ヒドロキシ−エタン−１，１ 一ジホスホン酸ジナトリウム塩 ０１６ｇヒドロキシル
アミンサルフェート６、ｏｇニトリロトリ酢酸ナトリウ
ム塩 ０６Ｉ！ジエチレントリアミンペンタ酢酸 ナトリウム塩 ０．７７ 、！？ 炭酸カリウム ３４．０．９ 水酸化カリウム ３．６ｇ 試料を試験するため上記の装置を次の如く用いる： 試験試料（９Ｘ２３α）を装置を通じ縦長方向に、帯電
防止層を織布ローラーに面して通過させる。
次に試料を流水下に洗肝し、乾燥し、そして拾い上げら
れた汚物の量を評定する。
れた汚物の量を評定する。
磨耗は次の如く試験する二本発明による帯電防止層を備
えた幅８．９ノの材料１２００ｍを市販のカラープリン
ターを通過させる。材料の全長が装置中を通過したとき
、帯電防止層と接触したローラー表面を検査しそして該
表面上に残された磨耗塵埃の量を１乃至５０等級により
評定する、ここで等級１け”甚だしい磨耗”そして等級
５ｄプ磨耗なし”をあられす。
えた幅８．９ノの材料１２００ｍを市販のカラープリン
ターを通過させる。材料の全長が装置中を通過したとき
、帯電防止層と接触したローラー表面を検査しそして該
表面上に残された磨耗塵埃の量を１乃至５０等級により
評定する、ここで等級１け”甚だしい磨耗”そして等級
５ｄプ磨耗なし”をあられす。
帯電防止層のプリント及び書写表面としての適応性は次
の如く試験する：帯電防止層で被われた材料の背面上に
タイプライタ−活字を黒いタイプライタ−リボンを用い
て印字し、そして捷だボールペンを用いた文字もこの表
面上に書写する。タイプ及び書写文字が完全であれば、
結果を５と評定する。より悪い結果ｄ４乃至１０等級を
つける。
の如く試験する：帯電防止層で被われた材料の背面上に
タイプライタ−活字を黒いタイプライタ−リボンを用い
て印字し、そして捷だボールペンを用いた文字もこの表
面上に書写する。タイプ及び書写文字が完全であれば、
結果を５と評定する。より悪い結果ｄ４乃至１０等級を
つける。
表面の電気抵抗はＪ）ｉＮ５５４Ｂ２により検定された
。
。
上表［１とめた結果から、本発明による帯電防止層の組
成及び施用量はこれら層の有利な性質を損失することな
しに相当変えうろことが見られるであろう。
成及び施用量はこれら層の有利な性質を損失することな
しに相当変えうろことが見られるであろう。
使用するコハク酸半−エステルにおいて８１によりあら
れされるーＣ，，Ｈ３，が前記した基−Ｃ，２Ｈ，，ま
たは一〇、、Ｈ２，によって置きかえられた場合にも同
様に有利な結果が得られる。
れされるーＣ，，Ｈ３，が前記した基−Ｃ，２Ｈ，，ま
たは一〇、、Ｈ２，によって置きかえられた場合にも同
様に有利な結果が得られる。
比較実幅例
本発明の帯電防止層の性質を、コノ・り酸半−エステル
を含有する代りに帯電防止層調製のため常用されるラテ
ックスを含有している層の性質と比較する。
を含有する代りに帯電防止層調製のため常用されるラテ
ックスを含有している層の性質と比較する。
（α）本発明による帯電防止層。
上記した注型組成２．１を用い、それだれコハク酸半−
エステルＮ［Ｌｌ、Ｍ３、陽５または−１４を含有する
帯電防止層を調製する。
エステルＮ［Ｌｌ、Ｍ３、陽５または−１４を含有する
帯電防止層を調製する。
（１））ラテックスを含有する帯電防止層。
注型組成：
脱イオン化水 ７．２９ ｋｇ
ナトリウムマグネシウムシリケー
ト （１０％） １．２３ｋｇ
ポリスチレンスルホン酸ナトリウ
ム（５％） ０．４４ｋｌ？
ドデシルベンゼンスルホン酸ナト
リウム（４％） ０．１６ｋ１９
ラテツクス（固形分含量６ＯＮ量％） ０．８８に！？
結果を下の表２に示す。比較のため用いられたラテック
スは表中に示されている。市場で入手した固形分含量３
３〜５５重量％のラテックスを各場合に濃度５０重景％
において用いた。
結果を下の表２に示す。比較のため用いられたラテック
スは表中に示されている。市場で入手した固形分含量３
３〜５５重量％のラテックスを各場合に濃度５０重景％
において用いた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 ポリオレフィン−被覆された紙支持体の一側面上
に少くとも一つのハロゲン化銀乳剤層を％（、（） ナ
トリウムマグネシウムシリケートとポリスチレンスルホ
ン酸ナトリウム塩との混合物；及び （Ｂ） 下記一般式： （） 式中、Ｒ′は炭素原子８〜１８個を有するアルキルまた
はアルケニル基をあられし、Ｒ２け置換されたもしくは
置換されていないシクロアルキルまたはアリール基、縮
合されたアリールシクロアルキル基、アラルキル基、ま
たは基： の一つをあられし；そして Ｘｔ−ｔシクロヘキシレン、アルキレンアルキレン−シ
クロアルキレン、ｔたｕ基ニーＣＢ、−ＣＤ、−（０−
Ｃ１ｌ、−ＣＨ，−）ｓ−ｙ、Ｃ１ｌ。 −ＣＨ２−ＣＥ、−及び の一つをあられす、 の一つに相当するコ／・り酸半−エステル化合物、が含
まれていることを特徴とする写真材料。 ２、帯電防止層が混合物（、（）３０〜１５０■／イ及
びコハタ酸半−エステル化合物４０〜２００ｍ９／ ｔ
ｌを含み、ナトリウムマグネシウムシリケートとポリス
チレンスルホン酸ナトリウム塩とが混合されている割合
が０．５：１乃至１２°１である特許請求の範囲第１項
記載の材料。 ６、 帯電防止層が、Ｒ２がアルキル−置換されたシク
ロアルイル基をあられすコノｈり酸半−エステル化合物
＜１１を含む特許請求の範囲第１項記載の材料。 ４、 シクロアルキル基が置換基としてメチル基１〜５
個またはターシャリ−ブチル基を含む特許請求の範囲第
３項記載の材料。 ５、帯電防止層が下記一般式： 式中、ｎは１〜３の整数をあられす、 に相当するコノ・り酸半−エステル化合物を含む特許請
求の範囲第１項記載の材料。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19843416897 DE3416897A1 (de) | 1984-05-08 | 1984-05-08 | Photographisches material |
| DE3416897.4 | 1984-05-08 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60249144A true JPS60249144A (ja) | 1985-12-09 |
Family
ID=6235190
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60093956A Pending JPS60249144A (ja) | 1984-05-08 | 1985-05-02 | 写真材料 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4582783A (ja) |
| EP (1) | EP0160912B1 (ja) |
| JP (1) | JPS60249144A (ja) |
| DE (2) | DE3416897A1 (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3716723A1 (de) * | 1987-05-19 | 1988-12-01 | Hoechst Ag | Wachsartige verbindungen aromatischer alkohole, ihre herstellung und verwendung |
| DE3735871A1 (de) * | 1987-10-23 | 1989-05-03 | Schoeller F Jun Gmbh Co Kg | Fotografisches traegermaterial fuer lichtempfindliche schichten in form eines kunststoffbeschichteten papiers oder einer kunststoffolie mit einer rueckseitenbeschichtung |
| US5026622A (en) * | 1988-10-31 | 1991-06-25 | Konica Corporation | Silver halide photographic light-sensitive material restrained from producing pin-holes |
| DE3913857A1 (de) * | 1989-04-27 | 1990-10-31 | Agfa Gevaert Ag | Fotografisches material mit einer antistatikschicht |
| US5075164A (en) * | 1989-12-05 | 1991-12-24 | Eastman Kodak Company | Print retaining coatings |
| GB2246870A (en) * | 1990-07-31 | 1992-02-12 | Ilford Ltd | Photographic materials with anti-static coatings |
| US5244728A (en) * | 1992-02-24 | 1993-09-14 | Eastman Kodak Company | Antistat layers having print retaining qualities |
| DE4308274C2 (de) * | 1993-03-16 | 1996-07-18 | Schoeller Felix Jun Papier | Schichtträger für fotografische Aufzeichnungsmaterialien |
| US5491013A (en) * | 1994-08-31 | 1996-02-13 | Rexam Industries Corp. | Static-dissipating adhesive tape |
| US20040007508A1 (en) * | 1999-12-04 | 2004-01-15 | Schulte David L. | Screen assembly for vibratory separator |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3525621A (en) * | 1968-02-12 | 1970-08-25 | Eastman Kodak Co | Antistatic photographic elements |
| US3769020A (en) * | 1971-02-11 | 1973-10-30 | Agfa Gevaert Ag | Photographic material with improved properties |
| JPS5950986B2 (ja) * | 1979-01-11 | 1984-12-11 | 富士写真フイルム株式会社 | カルボン酸ポリマ−層を有する写真感光材料 |
-
1984
- 1984-05-08 DE DE19843416897 patent/DE3416897A1/de not_active Withdrawn
-
1985
- 1985-04-26 US US06/727,551 patent/US4582783A/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-04-30 DE DE8585105192T patent/DE3565609D1/de not_active Expired
- 1985-04-30 EP EP85105192A patent/EP0160912B1/de not_active Expired
- 1985-05-02 JP JP60093956A patent/JPS60249144A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0160912B1 (de) | 1988-10-12 |
| DE3416897A1 (de) | 1985-11-14 |
| US4582783A (en) | 1986-04-15 |
| EP0160912A2 (de) | 1985-11-13 |
| EP0160912A3 (en) | 1987-09-16 |
| DE3565609D1 (en) | 1988-11-17 |
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