JPS602487A - ロ−タリ−式リンサ− - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はロータリ一式リンサーに関する。

従来のライン式すン丈−では、一方向へ走行する無端状
チェノに連結されたキャリヤバスケット内に船場部にお
いて壜を挿入し、その壜を水槽内に入れて洗浄した後、
乾燥させ、次に排壜部において壜を排出している。この
従来構成では、壜の胴部がキャリヤバスケットによって
摩耗され、傷がつきやすく、また設置面積が大きくて高
価である。

そこで本発明はかかる問題を解消したロータリ一式リン
サーを提供するものであって、その特徴とするところは
、順番に送り込まれてくる壜を外周部に一定間隔ごとに
設けた壜斐部により受けとる回転体を設け、該回転体の
回転方向に沿って船場区間、壜倒立区間、洗場区間、乾
燥区間、正立区間および排壜区間に区分し、回転体に、
壜倒立区間にもたらされた壜の首部をつかんでこの壜を
倒立させると共に正立区間にもたらされた壜を正立させ
る壜回転装置と、洗場区間にもたらされた場内にノズル
を挿入すると共に該ノズルから場内に洗浄水を噴射する
洗浄水噴射装置と、乾燥区間にもたらされた場内に上記
ノズルからエアを噴射するエア噴射装置とを設けたこと
にある。かかる構成によれば、壜の首部をつかんで倒立
させるだけであるから、壜の胴部が摩耗され、傷つけら
れることはない。チた設置面積が小さく、安価である。

以下、本発明の一実施例を図に試づいて説明する。この
実施例はプラスチック壜（１）のリンサーに関する。（
２）は回転軸であって、下端がヌラヌトベアリング（３
）を介して軸受（４）に回転自在に支持されている。（
５）は回転軸（２）の下部に固定された従動スプロクッ
トホイールであって、駆動モータ（図示せず）によシ回
転させられる駆動ヌプロケソトホイールによりチェノ（
６）を介して矢印（５）方向へ回転させられるものであ
る。（７）は回転軸（２）の従動スプロクットホイー／
ｌ／　（５）より上方に固定された中間円筒、（８）は
該中間円筒（７）の下部に外嵌する固定リングであって
、固定１１４Ｉ（９）にボルト止めされている。

なお固定リング（８）と中間円筒（７）との間は止水構
造としである。００は回転軸（２）の中間円筒（７）よ
勺上方にキー止めされた回転円板であって、上面外周部
には一定間隔（ａ）ごとに壜受部０１）を配設しである
。

このリンＡｊ−一は回転円板０（１０回転方向（イ）に
沿って船場区間（イ）、崩倒立区間（ロ）、ｆ＃：壜区
間（ハ）、乾燥区間に）、王立区間（ホ）および正文区
間（へ）に区分されている。（２）は中央貫通穴が回転
軸（２）の上端に遊嵌合する固定１−ＬＩ板であって、
固定腕０３（１→を介して第１〜第３のカムレール０υ
ａｈａηを固定しである。０８）は回転円板（１０上の
各壜受部０υに対向して配設された壜回転装置であって
、次のものから構成されている。θ優は回転円板α０か
ら一定間隔をおいた上方に配設された下受棚であって、
連結胛翰により回転円板α０に固定されている。（ハ）
は下受ａＱｉから一定間隔をおいた上方に配設された上
受棚であって、連結杆（イ）によシ下受棚Ｑすに固定さ
れている。翰は上下端が上下受棚ａｌ）　（１１に固定
された固定支軸、（ハ）は該固定支軸（社）と平行に配
設されると共に上下端が上下受棚＠１）　Ｈに回転自在
に支持された回転支軸、に）は固定支軸■の上端にナツ
ト止めされた支持アーム、に）は固定支軸（財）および
回転支軸（ハ）の下部に昇降自在に外嵌する昇降ブロッ
クであって、側面に配設したローラ（ハ）は第２カムレ
ールαＱ内に嵌入している。（ハ）は昇降ブロックに）
の上において固定支軸（ホ）に昇降自在に外嵌する昇降
アームであって、先端には水平軸翰を回転自在に配設し
である。に）Ｖｉ該水平軸翰の壜対向側端部にピン連結
された壜首部支持用基準ブロックであって、壜（１）の
首部に対向する箇所には円弧凹部０１ンを形成しである
。に）は水平軸翰の基準ブロック（至）とは反対側の端
部にキー止めされた矢印（Ｆｌ　（Ｇ）方向回転自在な
〆°ニオン、に）は昇降グロック（ホ）の腕部（２６Ａ
）の貫通穴および支持アームに）の貫通穴に昇降自在に
挿通されると共に上端に回転自在に支持されたローラー
が第１カムレー／’　ＱＯ内に嵌入する昇降ロッドであ
って、その中央部に固定ピース曽を介して固定されたラ
ック（７）は前記ビニオン（２）に噛合している。（ロ
）昇降グロックに）の上において回転支軸（ハ）に昇降
および矢印（Ｂ）　（Ｃ）方向回転自在に外表する回動
アームであって、その先端にビン連結した水平軸−には
ベアリングｋｅを介して挟持用ブロックに）を配設しで
ある。θυは該挟持用ブロック（至）の壜（１）の首部
に対向する箇所に形成された円弧四部である。（６）は
回転支軸−の上端にナツト止めされた支持腕、θ■は該
支持腕（６）の先端から垂下されたガイドロッドであっ
て、下端は回動アーム（功の中央に形成された１１通穴
に昇降自在に挿通されている。−は回転支軸（ハ）の下
端に固定されたカムレバーであって、その先端に回転自
在に支持されたローラ帥は第３カムレールθηに当接し
ている。に）はカムレバーＨＫ　ｒｋけられた腕部（４
４Ａ）のピン（／４７）と連結脚α）のブラケット（財
）との間に張設されたばねであって、回動アーム□□□
を矢印（Ｂ）方向へ付勢するものである。次に回転円板
Ｑ１０下に配設した洗浄乾燥装置０呻について説明する
。−は第４カムレールであって基礎脚ノ】）に固定され
ている。に）は回転円板ＯＱの各櫓（１）の載置箇所に
形成された貫通穴、輪は回転円板ＧＯの各貫通穴呻近傍
から垂下されたガイドロッド、（財）は一端に設けたロ
ーラ岐が第４ガイトレー）ｖ艶内に嵌入させられると共
に他端のガイドローラ■が上記ガイドロッド−を挟持す
る昇降体、６乃は該昇降体■の中央を貫゛通ずると共に
該昇降体■Ｋ　ｌ１ｚｉ定されたノズルであって、上記
各貫通穴〇２の直下に位１Ｎシている。寸たノズル（２
）の中心には洗浄水供給路を、その外周にエア供給路を
それぞれ形成しである。（ハ）は固定リング（８）の洗
場区間（ハ）に形成さてあって、エア供給主管＃３→を
接続しである。まだエア供給四部…を洗浄水供給凹部（
ハ）よりも上方に位置させである。Ｉｅ１３は前記中間
円筒（７）に一定間隔（α）ごとに形成された洗浄水供
給通路とエア供給通路であって、洗浄水供給通路Ｏ［Ｆ
］の下端開口は洗浄水供給凹部（財）に対向し、エア供
給通路−の下端開口はエア供給四部−に対向している。

■は洗浄水供給通路６諺の上端開口とノズル６７１の洗
浄水供給路とをつなぐ可Ｂ１ε性洗浄水供給パイプ、輪
はエア供給通路−の上端開口とノズ／ｌ’　０５７１の
エア供給通路とをつなぐ可撓性エア供給パイプである。

なお第１カムレー）ｖｏｏは、壜倒立区間（ロ）におい
て徐々に降下し、洗場区間ｐ→および乾燥区間に）にお
いて降下状態を保持し、王立区間（ホ）において徐々に
上昇している。第２カムレー１ｖａｅは、排壜区間（へ
）の途中から船場区間（イ）の途中までの昇降ブロック
上昇区間（ト）において上昇している。第３カムレー／
ｖ（１７）は、船場区間（イ）の終端から排壜区間（へ
）の始端寸で外方へ突出している。第４カムレー）ｖＩ
！Ａは、？５１区間（ハ）と乾燥区間に）において上昇
している。鞄は増搬送コンベア、暁は船場用スターホイ
ール、−は排壜用スターホイーｌレテアル。

上記構成の作用を第８図のタイミングチャートに基つい
て説明する。壜搬送コンベア輪により矢印（Ｄ）方向へ
搬送された壜（１）は矢印（Ｅ）方向へ回転する船場用
スクーホイー／Ｖ＠によりつかまれて回転円板００の各
壜受部Ｑｌ）内に送り込まれる。次に回転円板ＯＱ上の
壜（１）が船場区間（イ）の終端にくると、第２カムレ
ー／”Ｈの作用によυローラ（ハ）を介して昇降ブロッ
ク（ハ）が降下し、基準ブロックα身が＠（１）の首部
に対向するように々る（第３図実線状態）。

次に第３カムレー／Ｉ／（Ｉηの作用によりローラ４ｉ
籾、カムレバー（ロ）および回転支軸（ハ）を介して回
動アーム（ロ）がばねＯＱにより矢印（８１方向へ回動
し、挟持用ブロック（至）が増（］）の首部に接当し、
これによって第３図仮想線で示すごとく壜（１）の首部
が基準ブロックｑ１と挟持用プ西ツク（至）とで挟持さ
れる。次にその挟持された壜（１）が壜倒立区間（ロ）
に入ると、第１カムレールθＱの作用によυローラ■、
昇降ロッド（ト）およびラック（至）が降下させられ、
ビニオンｃ埒が矢印（Ｆ）方向へ回転させられる。これ
によって水平軸（２）を介して基準ブロック（１）と挟
持用ブロック■に支持されている壜（１）が倒立させら
れる。次に倒立させられた＠（１）が洗場区間（ハ）に
入ると、第４カムレー）Ｖ−の作用によりノズ／Ｉ／６
７）が上昇して壜（１）内に挿入され、またその上昇し
たノズ／Ｌ／　＠に連通している洗浄水供給通路６のが
洗浄水供給四部（至）に連通し、第７図に示すごとくノ
ズル６ηがら壜（１）内に洗浄水が噴射され、壜（１）
の内周面が洗浄される。

次に洗浄された壜（１）が乾燥区間（′：Ａに入ると、
壜（１）内に挿入されているノズ／Ｌ／Ｅηに連通して
いるエア供給通路輪がエア供給口部員に連通し、ノズル
６７）から壜（１）内にエアが噴射され、壜（１）の内
周面が乾燥させられる。次に洗浄乾燥済みの壜（１）が
正立区間（ホ）に入ると、第１カムレー／ｌ’Ｏ！ｌｉ
ｌの作用によりラック（至）が上昇し、ピニオン（至）
が矢印（Ｇ）方向へ回転させられ、壜（１）が回転円板
ｏ０上に正立させられる。

次に正立した壜（１）が排壜区間（へ）に入ると、まず
第３カムレール０ηの作用により、ばねＯ・に抗し７て
回動アーム（ロ）が矢印（Ｃ）方向へ回動し、壜（１）
の曲部の挟持が解除される。次に第２カムレー）１１０
（ｊの作用により昇降ブロック（７）が上昇させられ、
次にその壜（１）は矢印（Ｈ１方向へ回転する排壜用ス
ターホイール岐により壜搬送コンベア輪上に送り込まれ
、このコンベア特により充填機まで搬送される。

以上述べたごとく本発明によれば、壜の首部をつかんで
倒立させるだけであるから、壜の胴部が摩耗され、傷つ
けられることはない。捷た設置４而槓が小さく、安価で
ある。

【図面の簡単な説明】

図は本発明の一実施例を示し、第１図は概略平面図、第
２図は縦断面図、第３図は第２図のＩｌｌ　−Ｉ■矢視
図、第４図は第３図のＩＶ−、ＩＶ矢視図、第５図は第
３図のＹ−■矢視図、第６図は第２図の■−Ｖｌ矢視図
、第７図は壜洗浄乾燥状態の要部の縦断面図、第８図は
洗場手順を示すタイミングチャートである。 （］）・・・プラスチック壜、Ｏｃｊ・・・回転円板（
回転体）、０１）・・・壜受部、０つ・・・第１カムレ
ール、＜ＩＩ・・・第２カムレール、０′ｉ）・・・第
３カムレーμ、（至）・・・壜回転装置、（７）・・・
ＪｊＬ降ブロブロック７）・・・基準ブロック、ζ３４
・・・ビニオン、（至）・・・ラック、■・・・挟持用
ブロック、θす・・・洗浄乾燥装置ｉｔ、Ｆ４・・・第
４カムレール、←η・・・ノズル、（至）・・・洗浄水
供給四部、…・・・エア供給四部、（イ）・・・船場区
間、（ロ）−・・壜倒立区間、ｅ→・・・洗堀区間、に
）・・・乾燥区間、（ホ）・・・正立区間、（へ）・・
・排壜区間、（ト）・・・昇降グロック−ヒ昇区間 代理人　森　本　義　弘 第４図 第５図 ２ 第６図 第７図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １　順番に送シ込まれてくる壜を外周部に一定間゛隔ご
   とに設けた壜受部によシ受けとる回転体を設け、該回転
   体の回転方向に沿って袷壜区聞、壜倒立区間、洗場区間
   、乾燥区間、正立区間および排壜区間に区分し、回転体
   に、壜倒立区間にもたらされた壜の首部をつかんでこの
   壜を倒立させると共に正立区間にもたらされた壜を正立
   させる壜回転装置と、洗場区間にもたらされた場内にノ
   ズルを挿入すると共に該ノズルから場内に洗浄水を噴射
   する洗浄水噴射装置と、乾燥区間にもたらされた場内に
   上記ノズルからエアを噴射するエア噴射装置とを設けた
   ことを特許とするロータリ一式すンサア。