JPS60246635A - 自動基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （利用分野） 本発明は、半導体デバイス等ｔＳ造する際に用いる半導
体基板等の自動基板処理装置に関するものである。

（背景技術） 高密度に集積された半導体デバイス等の製造では生産歩
留りを改善することがきわめて＊要である。生産歩留り
を上げることで希少かつ貴重な資源を有効に活用し、コ
スト低減を計ることができる。

高密度集積半導体デバイスの生産歩留りに影響を与える
要因として、基板υ）搬送その他の前処理工程における
基板（例えはシリコンウェー）・）へのゴミ（極微粒子
を含む）の付着がある。例えば高密腿集積回路の製造工
程の中には］、　７４ｎ１前後の寸法のラインアンドス
ペースのエツチング上程があるが、この工程で１〜２μ
ｏ＋　：＋３１＆の微粒子がエツチング処理前の基板１
１１すれば、その微粒子はエツチング用マスクとして作
用し、その場所にエツチング不良（エツチング残り）を
生ずる。エッチング残りがＡ１配線の加工時に生ずると
き、それはすなわち線間のンヨートとなり半導体デバイ
スは動作しなくなり歩留りを低下させる。

こうした前処理工４１ｆｆｌＫおけるゴミ及び微粒子の
付着の原因には、１＋１４・μ業者の不注意によゐもの
。

（２）基板の脱着に使用するピノセットなどの（、Ｊ具
の汚染によるもの、（３）基板処理に１Ｆって不可遊回
に生ずるものがある。これしのりら、ｉｌｌ　、　＋２
１項は作業名の介イＬ＆こよって生ずるもので、これの
除去を１指してｆｉｉｌ処理工程を出来心たけ作來者？
煩わさないものにする自動化装置の採用が増加している
。

さて、第２図は従来のドライエノナングエＧにおける自
動基板処理装置の概略を示す図である。

被処理基板１１はカヤット１０に１枚重たは俵数枚収帽
された状態で扉２を開けて右方の外気側からカセ７　ト
Ｍ　Ｉ　ＩＩこ投入設置される。被処理基板１１はこＵ
）あと、トラノスファー至５に設けられたフォーク６に
よって自動的にエノテノグ室７の電極８上に設けられた
ステージ９に搬込される。第１図では電極８の上に台ｆ
ｉｔ　８１１！Ｉのスフ°−／９が収けられているため
これに８枚の被処坤基板ケ配（ッて８枚が一計となって
同時にエツチングされるがカセット１０内にだ寸だ捷８
の整数倍の枚数の基板１１が力い場合には、電極８上に
不足分の空きステージを生ずること＼なる。この状態で
エツチングを行なうと、空きステージは過度の活性グラ
スフに晒され、ステージ９のその部分の表面がエツチン
グされたり、あるいはこの表面に反応生成物や重合物が
堆積するなどし、損傷あるいは汚染されるなどの問題を
生ずる。こυンため、こうした場合には空きステージの
上にｄタミー用の補助基板を置いてこれをエツチングさ
せるようにしている０ この補助基板は、被処理基板１１が人っているカセット
１０１にカセット室１に搬入する萌に、作業者が被処理
基板１１の枚数を数えて、それが前記した一計の枚数の
８の整数倍になるように調整しているもので、この場合
の基板の出し入れにはビンセットを用いているが、これ
がゴミの発生を促進することｔｃな一〕てい４・。こυ
）枚数νり模作実は上述のローディング（投入）作業時
だけでなく、γンローディング（回収）作業時にも必要
である。

即ち、図示のように１処理済の基板にはカセット室３に
配置されたカセット１５内に補助基板と一緒に回収場ノ
するので、カセット室３からカセット１５を取り出した
際に不要な補助基板を抜き取る作業が８訣である。この
際にもゴミ付着の機会を生ずる。従って、上記の作業を
自動化するとともに、その作業を密閉した室内で行うよ
うな装置が必要となる。

（発明の構成） 本発明はこの問題を次の構成の装置で解決するものであ
る。即ち、上記の第２図の装置を基板処理部として、そ
の前・後段に基板搬送装置およびそれに連なる基板収納
装置忙設備し、基板収納装置には、被処理基板、処理済
基板と、タミー用の補助基板の王者をそれぞれ区別して
収納し、これに対応して基板搬送装置には次の（Ａ）　
、　（Ｂ）の機能を持たせたものである。

（Ａ）基板収納装置力・ら基板処理部に搬送する被処理
基板の個数が、前記の一計の枚数（前記では８枚）に達
しないときけ、補助基板収納のカセットから、不足枚数
だけの補助基板を取出して搬送する。

（Ｂ）基板処理部から基板収納装置に基板を搬送すると
きには、基板を処理消基板と補助基板に区別してそれぞ
れのカセｙトに収納する。

（実施例） 以下、図に基いて本発明の詳細な説明する。

第１図において、基板処理ｆｆ１ｌＡけ、カセット１０
の形状を除けは第１図と同一の基板処理装置である。こ
の実施例ではカセット１０．１５はカセット室１．３の
専用となってこ＼に固定され脱着の必要がないものにな
っている。壕だこれに伴って、（第１図には第２図と同
じ大きさに描いたが）カセット室の扉２，４も基板が通
過できるだけの最小開口でよいものとなる。カセット１
０．１５の出し入れが省略されるので、その分だけ真空
室へのゴミの流入の確率が小さくなる。

第２図のＢ部の基板搬送装置６０と基板収納装置７０は
本実施例で付設された部分である。基板収納装［７０の
内では処理前の被処理基板２１はカセット２０ＶＣ収納
され、処理後の基板３１はカセッ）３０に収納され、ダ
ミー用の補助基板５１はカセッ）４１．４２に収納され
ている。カセット室１．３に固定されている既述のカセ
ット１（）、１５と基板収納装置７０の各カセットの間
の基板の搬送を基板搬送装置６０が受持つ。即ち、カセ
ット室１のカセット１０の被処理基板１１がなくなった
場合には、加２を開いて、基板収納装置７０内にあらか
じめ投入されている被処理基板２１がカセット２（）か
ら、搬送器Ｃで搬送されてくるようになっている。そし
てこの場合、もしカセ７）２１にセットされている基板
の枚数が、エツチング室７に設けられたステージ９の個
数（これは−回で処理される枚数であって、図の場合は
８個）の整数倍になっていない揚台には、（この検出は
カウンターの設置などで比較的簡単に行なわれる。図示
していない。）不足枚数だけの補助用基板５】がカセッ
ト４１より搬送器Ｆ−Ｄ−Ｃを経由して、カセット室１
のカセット１０に自動的に搬送補給されるよう罠なって
いる。次に、所定の基板処理を終えてエツチング室７か
もトランスファー室５５ｉｌ−経由して、処理済基板１
２がカセット室３のカセット１５に納められた後は、ｊ
ｊＩ＋４が開かれ、処理済基板１２が搬送器１〕、■パ
忙よって処理済基板３１と補助基板５１に区分けされて
、それぞれがカセット３０とカセット４１またけ４２に
送られ収納される。処理済基板３１と補助基板５１の区
別けは、例えば補助基板５】の周縁部にあらかじめ切欠
ぎを設けておき、搬送器りにはその切欠きを検出する機
能を付与しておくなどの方法でこれも比較的簡単に行な
われる。便って、その詳細の図示・説明は省略する。

なお、上述の被処理基板個数の検出とそれに基つく補助
基板の追加と、処理隣？ｌｋ、板と補助基板の区分けと
各カセットへの缶分け′Ｉ＆送なとは、簡単な記憶装置
と中央処理装置をそなえた電子的な制御器（第１図に１
点鎖線のブロック８０で示す）を、基板搬送装置６０に
付設して行わせることでも、容易に達成できる。補助基
板５１のカセット４１またｔ−ｔ４２への収納は４１．
４２の一方が空になった時点または酒杯になった時点で
供給用と回収用が自動的に変換されるものとなっている
。

そのため補助基板は一定の枚数のものが繰返し基板処理
部に供給され、かつそこから回収される。

肝心なことは、それらの移動がすべて装置内で人手によ
らずして行なわれることで、装置の清浄性の維持は容易
となる。なお、本実施例では、基板収納装置７０内に被
処理基板用、処理済基板用及び補助基板用に各２コのカ
セノ）２０．３０及び４１と４２ｔ−用いたが、それら
のカセットの個数には制限はない。

さらに、本実施例には、次の側法的効果がある。

即ち、実工程に先だって基板処理部のウオーミングアツ
プを行うことがこの種の装置では不可欠であるが、その
場合、被処理基板用のカセット２０投 に、故急に基板を参人せずに、梶動を開始すれば補助用
基板が自動的に必要数基板処理部１に搬送され処理され
、かつ返送されその動作が繰返されて所望回数のウオー
ミングアツプが実何されるという効果がある１、この際
の装置の清浄性も確保される。

以上は本発明の一実施例をドライエツチング装置につい
て詳細に述べたものであるが、エラチン装置に限定され
ることなく本発明は半導体製造装置等で他の処理工程に
も広範囲に利用できることはいう１でもない。

（発明の効果） 本発明の自動基板処理装置は、クリーンルーム内への作
業者の立入りを低減し、ゴミの発生付層の機会を極小に
し、処理基板の歩留りを向上させる効果がある。自動化
による省力の効果も著るしい０

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例の自動基板処理装置の概略図、
第２図は従来の基板処理装置の概略図である。 １．３・・カセット室　、　５・・・トランスファー室
７・・・・エツチング室　、６・・フォーク８・・・・
・電極 １０．＋５．２０，３０，４１．４２・・・カセット１
１．２１・被処理基板、１２．３１・・・処理済基板５
１・・・・補助基板　、６０　・・・・基板搬送装置７
０・・・・基板収納装置 Ａ・　・・基板処理部 特許出願人　日電ア不ルバ株式会社 手続補正＠（自発） 昭和５９年７月１３日 特許庁長官　殿 １、事件の表示 昭和５９年特許願第１０３０９８号 ２、発明の名称 自動基板処理装置 ３、補正をする者 事件との関係　特許出願人 ４　補正命令の日付　昭和　年　月　日５　補正により
増加する発明の数　０ ６、補正の対象 明卸１＠の発明の詳細な説明の欄。図面。 補　正　の　内　容 １　明側書第３頁２０行目の１１図では」を「２図では
」と補正する。 ２、　同第６貞１１行目の［０の形状Ｊｔ−１−０およ
び１５の形状］と補正する。 ３、同２０行目の１第２図のＢ部」を「第１図の」と補
正する。 ４　図面の第１図の符号の一部を冷付図面の赤字の如く
補正する。 即（−ハ第１図の符号の左上部の１４１」を１４２」に
補正する。 （以上）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 所冗枚数の基板を一群としその複数群の谷の上に１遂仄
   連続的かつ自動的Ｋｇ膜の堆積９食刻等の処理を施す自
   動基板処理装置において、被処理基板と処理済基板とダ
   ミー用の補助基板の王者をそれぞれのカセットに区別し
   て収納する基板収納装置と、この基板収納装置の谷カセ
   ットと基板処理部の間で削記各基板を搬送する基板搬送
   装置とをそなえ、かつこの基板搬送装置には、基板収納
   装置から基板処理部に搬送する被処理基板の個数が前記
   所定枚数に遅しないときは、これに補助基板を加えて所
   定枚数くし、かつ、基板処理部から基板収納装置に搬送
   する基板は、これを処理済基板と補助基板に区別してそ
   れぞれのカセットに収納する機能を付与したことを特徴
   とする自動基板処理装置。