JPS60242582A - 半導体記憶装置のセンス増幅器 - Google Patents

半導体記憶装置のセンス増幅器

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JPS60242582A
JPS60242582A JP59097835A JP9783584A JPS60242582A JP S60242582 A JPS60242582 A JP S60242582A JP 59097835 A JP59097835 A JP 59097835A JP 9783584 A JP9783584 A JP 9783584A JP S60242582 A JPS60242582 A JP S60242582A
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sense
sense amplifier
bit lines
switching element
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Takayuki Otani
大谷 孝之
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    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、半導体記憶装置における情報読み出し用のセ
ンス増幅器に係シ、特にメモリセルアレイの各列の1本
のビット線を通じて情報を読み出すセンス増幅器に関す
る。
〔発明の技術的背景〕
第1図は、CMOS(相補性絶縁ダート型トランジスタ
)を用いた従来のスタティック型メモリの一部を示して
おp、BLおよびBLはメモリセルアレイにおける一列
分の相補的なビット線、10はゾリiヤージ用のMOS
 }ランジスタ、11は上記ビット線BL,BL対との
間でデータの授受を行なうスタティック型のメモリセル
、12は上記メモリセル1ノの選択を行なうための行選
択線(ワード線)、13は上記ビット線BL。
BL対に接続されてデータの読み出しを行なうためのセ
ンス増幅器である。
上記メモリの読み出し動作における各部信号のタイミン
グは第2図に示すようなものである〇即ち、時刻t1で
プリチャージ信号φ,をL″′(ロウ)レベルにしてプ
リチャージ用トランジスタ10をオンにし、ビット線B
L.BLをプリチャージする。仁のプリチャージの終了
後、時刻t2でワード線選択信号WLをH″(ハイ)レ
ベルにしてメモリセル11の選択を行なう。これに伴っ
て、選択されたメモリセル11内の記憶データがi ”
 (H)レベルまたは“0”(L)レベルに応じてビソ
}#BL,BLのいずれか一方の電圧がプリチャージ電
圧よシ低下し始める。そして、ビット線BL.BL間に
所定の電位差が生じた時刻t3でセンス増幅器13に′
H”レベルのセンスラッチ信号SLを印加する。これに
よシ、センス増幅器13は上記ビット線BL 、BL間
の電位差を増幅し、ビット線BL,BLの電圧を一方は
接地電位Vl]8(”L”レベル)、他方は電源電位V
DD (“H”レベル)にラッチする。
上記メモリは、メモリセル1ノおよびセンス増幅器13
がそれぞれ2本のビット線B L、BLに接続されてい
るので、高集積化が困難である。
そこで、本願出願人は、特願昭58−242622号に
よって、メモリセル、センス増幅器ともそれぞれ1本の
ビット線に接続するだけでよく、大幅な高集積化を可能
としたメモリを既に提案している。第3図は、上記メモ
リの一部を示しておシ、BLはメモリセルアレイにおけ
る1列分のビット線、20は上記ビット線BLに接続さ
れたプリチャージ用トランジスタ、2ノは上記ビット線
BLに接続されたメモリセル、22は上記メモリセル2
1に接続されたワード線、23は上記ビット線BLに接
続されたセンス増幅器である。上記メモリセル21は、
一端がビット線BLに接続されると共にダートがワード
線22に接続されたトランスファゲート24と、このト
ランスファゲート24の他端に入力端が接続されたイン
バータ25と、このインバータ25に対して互いの入力
端と出力端とが相互に接続されたインバータ26とから
なり、上記インバータ25.26はフリッゾフロップ回
路を形成している。また、前記センス増幅器23は、P
チャネルトランジスタP、およびNチャネルトランジス
タN1からなる第1のCMOSインバータエ、と、Pチ
ャネルトランジスタP2およびNチャネルトランジスタ
N2からなる第2のCMOSインバータ11と、この2
個のインバータx、、I、のNチャネルトランジスタN
□ 、N2の各ソースと所定電源(たとえばV8S電位
)との間に共通に挿入接続されると共にダートにセンス
ラッチ信号SLが与えられるセンスラッチ用のNチャネ
ルトラン・ゾスタN3と、前記2個のインパータエ□ 
II2の各出力端間に挿入接続されると共にダートにイ
コライズ信号EQが与えられるイコライズ用のPチャネ
ルトランジスタP3と、前記第2のインバータI2の出
力端と前記ビット線B’Lとの間に挿入接続されると共
にデートにセンスダート信号SGが与えられる七ンスr
−ト用のPチャネルトランジスタP4とを具備し、上記
2個のインバータ11 、I2は互いに一方の入力端と
他方の出力端とが接続されてフリッデフロッゾ回路を形
成している。
次に、上記メモリの読み出し動作について第4図を参照
して説明する。行アドレスが定まった後の時刻t1で、
たとえば内部(あるいは外部)クロックに同期してプリ
チャージ信号φP1ワード線選択信号WL、イコライズ
信号EQ。
センスラッチ信号SLおよびセンスダート信号SGをそ
れぞれ@ L IIレベルにする。これにより、プリチ
ャージ用トランジスタ20がオンになり、ビット線BL
はVDD電源電圧(“H”レベル)にプリチャージされ
、これと共にセンスダート用トランジスタP4およびイ
コライズ用トランジスタP3もそれぞれオンになるので
2個のインバータ11 、I、の各出力端(センスノー
ドSD、SD)もそれぞれプリチャージされる。このと
き、センスラッチ用トランゾスタN3はオフであシ、イ
ンバータI、、I、はそれぞれ不活性状態となっている
。次に、時刻t、でプリチャージ信号石、ワード線選択
信号WLおよびイコライズ信号EQをn HNレベルに
して、プリチャージ用トランジスタ2σおよびイコライ
ズ用トランジスタP3をそれぞれオフにする。この場合
、選択されたメモリセル2ノの記憶ノード27のデータ
が1■”レベルであったならば、トランスファj” −
ト24はオフでお9、ビット線BLおよび前記センスノ
ードSD、SDはそれぞれプリチャージ電位VDDに保
持される。これに対して、選択されたメモリセル21の
記憶ノード27のデータが′L”レベルであったならば
、トランスファゲート24がオンになシ、ビット線BL
の電位が上記メモリセル2ノによって引き下げられる。
これに追随して、センスダート用トランジスタP4がオ
ンになり、センスノードSDの電位が低下し始め、オン
状態にあるNチャネルトランジスタN1.N2f介して
センスノードSDの電位も低下し始めるが、この間は常
にSD電位〈面電位の関係が成り立っている。次に、上
記時刻t2から一定時間td経過後の時刻t3でセンス
ラッチ信号SLおよびセンスノート信号SGをそれぞれ
HIIレベルにする。これによシ、センスラッチ用トラ
ンジスタN3はオン、センスダート用トランジスタP4
はオフになり、2個のインバータ11 、I2は活性化
状態となる。
したがって、センスノードSD、SDに前述した関係で
電位差が発生している場合(記憶データがL”レベルで
あった場合)には、センスノードSD 、SDは各対応
して第4図中実線で示すように″L#レベル、“Hjj
レベルとなるようにラッチされ、″′0″データが正し
く読み出されたことになる。これに対して、選択メモリ
セルの記憶データが“H”レベルであった場合には、イ
コライズ時からセンスラッチまでの期間はセンスノード
SD 、SDは同じVDD電圧レベルであるが、センス
ノードSD、SDの負荷容量COD + C3DがC5
D) C8Dの如く容量差を有しているので、センスラ
ッチ動作によシセンスノードSD 、SDは各対応して
第4図中点線で示すように” H”レベル @ L j
lレベルとなるようにラッチされ @ 1 prデータ
が正しく読み出されたことになる。
上記センス増幅器によれば、センスラッチ動作時にセン
スダート用トランジスタP4はセンスラッチ用トランジ
スタN3のオン動作に同期してオフになるのでビット線
BLの大きな容量を駆動する必要がなくなり、センスラ
ッチ動作は非常に高速になる。さらに、センスラッチ動
作終了後、センスダート用トランジスタP4はオフのま
まであシ、センスノー1’sD、SDはVDD電位又は
V8B電位にラッチされているので、センス増幅器23
での電力消費は全くなく、低消費電力化に著しく有効で
ある。
〔背景技術の問題点〕
しかし、上述した第3図のメモリに使用されているセン
ス増幅器は、メモリセルアレイの各列に対して1個づつ
設けるような構成であシ、高集積化に伴なってメモリセ
ルサイズが縮少されて列ピツチが短かくなると、メモリ
のパターンレイアウト上、センス増幅器の配置が非常に
制約される。換言すれば、上記センス増幅器の素子サイ
ズおよびノ臂ターンレイアウト上の自由度が非常に小さ
く、回路設計が困難になる。
〔発明の目的〕
本発明は上記の事情に鑑みてなされたもので、半導体記
憶装置におけるツクターンレイアウト上の制約が著しく
緩和され、回路設計が容易になる半導体記憶装置のセン
ス増幅器を提供するものである。
〔発明の概要〕
即ち、本発明は、メモリセルアレイにおける各列の1本
のビット線を通じて各列のメモリセルの記憶データを読
み出す半導体記憶装置のセンス増幅器において、複数列
のビット線のうち半分のビット線をそれぞれセンスダー
ト用スイッチング素子を通じて1個のセンス増幅器内の
一方のセンスノードに共通に接続し、同様に残シ半分の
ビット線をそれぞれセンスダート用スイッチング素子を
通じて上記センス増幅器内の他方のセンスノードに共通
に接続し、上記複数のセンスダート用スイッチング素子
のうち選択されるビット線に接続されているもののみを
センス増幅器動作時に開くように制御するようにしたこ
とを特徴とするものである。
したがって、センス増幅器の高速性、低消費電力特性を
全く損なうことなく、1個のセンス増幅器に接続される
カラムの個数のピッチ内に1個のセンス増幅器をパター
ン化して実現でき、パターンレイアウト上の制約が著し
く緩和される。
〔発明の実施例〕
以下、図面を参照して本発明の一実施例を詳細に説明す
る。第5図は半導体メモリの一部を示すもので、メモリ
セルアレイにおける各メモリセル51・・・は第3図を
参照して前述したメモリセル21と同様に構成されてお
り、それぞれ単一のビット線BLi〜BLj 、 BL
k−BLtに接続されている。50・・・は上記各ビッ
ト線BL1〜BLnに接続されたプリチャージ用のPチ
ャネルトランジスタ、52・・・は上記各メモリセル5
1・・・に接続されたワーP線であって行デコーダ(図
示せず)により択一的に選択駆動されるものである。5
3はメモリセルアレイにおける複数列(カラム)分のビ
ット線、たとえばBL、〜BLtの情報読み出し用に共
用されるセンス増幅器であって、第3図を参照して前述
したセンス増幅器23に比べて後述する点が異なり、そ
の他は同じであるので同一符号を付している。上記セン
ス増幅器53が前記センス増幅器23と異なる点は次の
通シである。(イ)一方のセンスノードSDLと前記複
数列のビット線BLi −BLAのうちの片側半分(第
1群)のn本(nは正の整数)のビット線BLi〜BL
jとの間に各対応してセンスデ−ト信号Pチャネルトラ
ンジスタPi〜Pjが挿入接続され、他方のヒンスノー
ドSDRと上記複数列のビット線BLI −BL7.の
うちの残シの片側半分(第2群)のn本のビット線BL
k〜BLtとの間に各対応してセンスr−)用のPチャ
ネルトランジスタPk ”’−” PLが挿入接続され
、このトランジスタP1〜Pj 、 Pk ”’−Pt
は情報読み出しのために選択されるカラムのビット線に
接続されている1個だけ所定の期間開き、選択されない
カラムのビット線に接続されている残りのものは閉じて
いるようにセンスデート信号SGI 〜S(g 、蓋j
−守ηによシf−)制御される。(ロ)センスノードS
DL r SDBに各対応して容量付加用のPチャネル
トランジスタPL * PRの各一端が接続され、この
トランジスタPL+ Pnは第1群のビット線BL1−
 BLJおよび第2群のビット線BLI(−BL/=の
うち情報読み出しのために選択されるビット線の属する
群に対応する一方が少なくともセンスラッチ動作時を含
む一定期間オン状態になり、そうでない他方はオフ状態
の1まであるように容量差形成用信号CDL +CDR
によシグート制御される。上記オン状態のトランジスタ
はダート電極下の基板表面に反転層が形成されることに
よってMOSキャノ2シタとして機能するので、このオ
ン状態のトランジスタが接続されている一方のセンスノ
ードは上記MOSキャi4シタが付加されることによっ
て他方のセンスノードに比べて負荷容量が大きくなる。
上記メモリにおけるセンス増幅器にあっては、センスゲ
ート用トランジスタP1 = Pj、 Pk〜pzが選
択的にオン制御されると共に、このオン制御されるトラ
ンジスタが接続されているセンスノードの負荷容量が増
大するように容量付加用のトランジスタPL + PB
が選択的にオン制御される点を除いて第4図を参照して
前述した動作と同様の動作が行なわれ、従来例と同様に
センスラッチ動作が高速に行なわれ、センスラッチ動作
終了後の電力消費が全くない。
また、前述したようにセンスノード5I)L、SDRの
負荷容量C3DL、C3DRに差を形成する機能を有す
る理由は、従来例の動作説明でも述べたように選択メモ
リセルからの61”データを正しく読み出すためであり
、たとえば第1群のビット線BLi −BLjのどれか
が選ばれて選択メモリセルから“1”データを読み出す
場合にはセンスノード5DLr SDRを各対応して“
H″、″′L″レベルに正しくラッチするため゛にC3
DL > C3DRの関係を実現し、逆に第2群のビッ
ト線BLk〜BLtのどれかが選ばれて選択メモリセル
から“1″データを読み出す場合にはセンスノードSD
Rr SDt、を各対応して′H”、L”レベルに正し
くラッチするためにC3DR> C3DLの関係を実現
する。なお、第6図は上記メモリの読み出し動作におけ
る各部信号のタイミングを示しておシ、ここではビット
線BLiに接続されているメモリセルが′H”レベルデ
ータを記憶している場合とビット線BLkに接続されて
いるメモリセルが″′L″レベルデータを記憶している
場合とを例示している。
なお、上記実施例では、選択されるビット線に対応する
側の一方のセンスノードの負荷容量を他方のセンスノー
ドのそれよりも増大させるようにしたが、これとは逆に
、選択されるビット線に対応する側の一方のセンスノー
ドの負荷容量よpも他方のセンスノードのそれを減少さ
せるようにしてもよい。そのための−例としては、第5
図における負荷容量用のPチャネルトランジスタPL 
+ PRに代えてそれぞれNチャネルトランジスタNt
、 + NR(図示せず)を用い、その各ダートに逆対
応して前記容量差形成用信号CDL + CDRを与え
るものである。そうすると、通常はCD L I CD
 n信号がHp+lレベルあって上記両トランジスタN
L 、 NRがオンであるが、センスノードSDL側の
ビット線を選択する場合には他方のセンスノードSDR
に接続されているトランジスタNRがオフになるので、
センスノードSDRの負荷容量がセンスノードSDLの
それよシも減少する。同様に、センスノードSDR側の
ビット線を選択する場合には他方のセンスノードSDL
に接続されているトランジスタNLがオフになるので、
センスノードSDLの負荷容量がセンスノードSDRの
それよpも減少する。
第7図は、本発明の他の実施例によるセンス増幅器を示
しておシ、第5図を参照して前述したセンス増幅器に比
べて、センスゲート用トランジスタPi〜P、4に各対
応してNチャネルトランジスタNi〜Ntを並列接続す
ると共にその各ダートに対応してセンスゲート信号SG
i −SG、/。
をインバータIi −ILにより反転して得た反転信号
を与えるものとし、同様にイコライズ用トランジスタP
1にNチャネルトランジスタN8′を並列接続すると共
にそのダートにイコライズ信号EQをインパータエ、に
より反転して得た反転信号を与えるものとし、さらに2
個のインバータ11+12のPチャネルトランジスタP
1+P2の各ソースとVDD電源との間に共通にセンス
ラッチ用のPチャネルトランクスタP5を挿入接続する
と共にそのダートにセンスラッチ信号SLをインバータ
I、により反転して得た反転信号を与えるものとした点
が異なり、その他は同じであるので第5図中と同一符号
を付している。
上記構成のセンス増幅器によれば、前述したようなセン
スラッチ動作の高速性、センスラッチ動作後の低消費電
力特性を有すると共に、センスデート用およびイコライ
ズゲート用の各スイッチング素子がそれぞれCMOSト
ランスミッションゲートとなっているので、ビット線プ
リチャーゾ電圧がH)lレベルの場合だけでなく” L
”レベルの場合でも上記CMO8) ランスミッション
ゲートが完全にオンになって所要の電位転送が行なわれ
る。したがって、プリチャージ電圧のレベル選択の自由
度が増す。また、イコライズゲートがオンのとき(イコ
ライズ動作時)には、センスラッチ用の各スイッチング
素子(トランジスタNB 、P 6 )がそれぞれオフ
であり、CMOSインバータI、、I2のNチャネルト
ランジスタN1 、N2の各ソースおよびPチャネルト
ランジスタP1+P2の各ソースはそれぞれ浮遊状態に
なっていてvss l vpn電源から分離されている
ので、センスノードSDL +SDRに対するイコライ
ズ動作に際して上記V8S+VDD電源単位による影響
を受けなくなっており、イコライズ動作が確実に行なわ
れる。
まブζ、さらに第8図に他の本発明による単一ビット線
用CMOSセン玉アンプの回路例を示す。
また、その読み出し動作における信号波形を第9図に示
す。この場合の読み出し動作は、まずプ1)チャージお
よびイコライズ動作でのビット線のプリチャージレベル
が1およびO読み時のビット線レベルの中間に設定され
る。その時、同時にセンスアンプのSおよび百ノード電
位は、ビット線プリチャーゾレベルにイコライズされる
。次に、セルが活性化され、セルデータに二ってビット
線電位はプリチャージレベル75為ら上昇または下降す
る。Sノード電位はビット線電位の変化に伴なって変化
するため、セルデータと同時にラッチ用スイッチトラン
ジスタをオンさせ、S、S間の電位差を増幅、ラッチす
る。
したがって、この第8図の回路によれば、818間C+
負荷容量のアン・9ランス(Δc)は必要なく、1読み
、O読み共にS−S間の電位差ΔVをセンス増幅するた
め動作マーシンカぶ太幅に向上する。
また、イコライズはBLと負荷容量の小さい丁ノードと
の間で行なうため、非常に高速なイコライズが可能であ
る。また、前述した様にBLプリチャージレベルは1.
0読み出し時BLレベルの間にあればよいため、さらに
プリチャージ時間の短縮も達成できる。
次に、第8図のセンスアンプをLSIメモリにて応用し
た場合の例を第10図に示す。センスゲートトランジス
タのダート信号にカラムデコード信号を含める事によっ
て、数カラムに1個のセンスアンプの配置が可能となり
、パターンレイアウト上の自由度が著しく向上する。第
10図の例では4カラムに1個のセンスアンプの配置の
例を示した。
なお、本発明はスタティック型メモリだけでなく、ダイ
ナミック型メモリ、プログラマブルメモリなどにも適用
可能でおる。
〔発明の効果〕
上述したように、本発明のセンス増幅器によれば、1個
のセンス増幅器に共通に接続される複数列のビット線分
のピッチ内に1個のセンス増幅器をパターン化して実現
すればよいので、パターンレイアウト上の制約が著しく
緩和される。したがって、センス増幅器の素子サイズお
よヒバターンレイアウト上の自由度が非常に大きくなり
、回路設計が容易になる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の半導体記憶装置のセンス増幅器を示す回
路図、第2図は第1図の動作説明のために示す信号クイ
ミング図、第3図は現在提案されている半導体記憶装置
のセンス増幅器を示す回路図、第4図は第3図の動作説
明のために示す信号タイミング図、第5図は本発明に係
る半導体記憶装置のセンス増幅器の一実施例を示す回路
図、第6図は第5図の動作説明のために示す信号タイミ
ング図、第7図、第8図、第10図は本発明の他の実施
例を示す回路図、第 □9図は第8図の動作説明のため
に示す信号タイミング図である。 BLi〜BLj 、 BLk−BLt・・・ビット線、
51・・・モリセル、53・・・センス増幅器、11 
、l2I3 、Is 、Ii〜Ij、Ik−It・・・
イン・々−N11N2・・・Nチャネルトランジスタ、
PIP2・・・Pチャネルトランジスタ% N3 + 
P Bセンスラッチ用トランジスタ、p3 、N3’・
・コライズ用トランジスタ、SDL + SDB・・・
センノード、PL r Pj・・・負荷容量用トランジ
スチ出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦メ 第1図
 第2図 り、 警 ・イ ス L + −w 第3図 第4図 第7図 第8囚 工 Q 第9図 第10図 De c ode 手続補正書(方側 、、 5Q、8,30 特許庁長官 志 賀 学 殿 1、事件の表示 特願昭59−97835号 2、発明の名称 半導体記憶装置のセンス増幅器 3、補正をする者 事件と。関係 特FF出M人 (307)株式会社 東芝 4、代理人 昭和59年7月31日 6、補正の対象 図面 7、補正の内容 図面の第10図を別紙の通り訂正する。 日

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) メモリセルアレイにおける各列の1本のビット
    線を通じて各列のメモリセルの記憶データを読み出す半
    導体記憶装置のセンス増幅器において、互いの入力端と
    出力端とが交叉接続され奪2個のCMOSインバータと
    、これらのCMOSインバータの各出力端間に接続され
    て上記両端子のイコライズ動作時にオン状態に制御され
    るイコライズ用スイッチング素子と、前記2個のCMO
    SインバータにおけるPチャネルトランジスタの各ソー
    スと第1電源との間およびNチャネルトランジスタの各
    ソースと第2電源との間の少なくとも一方に接続され、
    前記イコライズ用スイッチング素子のオフ動作時から一
    定時間経過後にオン状態に制御されるセンスラッチ用ス
    イッチング素子と、前記2個のCMOSインバータの各
    出力端とそれぞれn(正の整数)列のビット線との間に
    各対応して接続され、選択されるビット線に接続されて
    いるものは所定タイミングでオン状態に制御されたのち
    前記センスラッチ用スイッチング素子のオン制御に同期
    してオフ状態に制御され、選択されないビット線に接続
    されている残りのものはオフ状態に制御される2n個の
    七ンスグート用スイッチング素子と前記2個のCMOS
    インバータの各出力端のうちどちらが選択されるビット
    線に接続されるかに応じて上記両出力端それぞれの負荷
    容量の大小関係が設定制御する容量差形成回路とを具備
    することを特徴とする半導体記憶装置のセンス増幅器。
  2. (2)前記容量差形成回路は、選択されるビット線に接
    続されている七ンスグート用スイッチング素子側のCM
    OSインバータの出力端の負荷容量をセンス増幅動作時
    に増大させるようにしてなることを特徴とする特許 項記載の半導体記憶装置のセンス増幅器。
  3. (3)前記容量差形成回路は、選択されるビット線に接
    続されているセンスゲート用スイッチング素子側とは逆
    側のCMOSインバータの出力端の負荷容量をセンス増
    幅動作時に減少させるようにしてなることを特徴とする
    特許 範囲第1項記載の半導体記憶装置のセンス増幅器。
  4. (4) 前記各スイッチング素子はDOS }ランジス
    タであることを特徴とする前記特許請求の範囲第1項乃
    至第3項のいずれかに記載の半導体記憶装置のセンス増
    幅器。
  5. (5)前記イコライズ用スイッチング素子およびセンス
    ブート用スイッチング素子は、PチャンネルMOSトラ
    ンジスタとNチャネルMOS }ランジスタとが並列接
    続されてなるCMOS }ランスミッションブートであ
    ることを特徴とする前記特許請求の範囲第1項乃至第3
    項記載の半導体記憶装置のセンス増幅器。
  6. (6) メモリセルアレイにおける各列の1本のビット
    線を通じて各列のメモリセルの記憶データを読み出す半
    導体記憶装置のセンス増幅器において、互いの入力端と
    出力端とが交叉接続された2個のCMO Sインバータ
    と、これらのCMOSインバータの各出力端間に接続さ
    れて上記両端子のイコライズ動作時にオン状態に制御さ
    れるイコライズ用スイッチング素子と、前記2個のCM
    OSインパ〜タにおけるPチャネルトランジスタの各ソ
    ースと第1電源との間およびNチャネルトランジスタの
    各ソースと第2電源との間の少なくとも一方に接続され
    、前記イコライズ用スイッチング素子のオフ動作時から
    一定時間経過後にオン状態に制御されるセンスラッチ用
    スイッチング素子と、前記2個のCMOSインバータの
    各出力端とそれぞれn(正の整数)列のビット線との間
    に各対応して接続され、選択されるビット線に接続され
    ているものは所定タイミングでオン状態に制御されたの
    ち前記センスラッチ用スイッチング素子のオン制御に同
    期してオフ状態に制御され、選択されないビット線に接
    続されている残pのものはオフ状態に制御される2n個
    のセンスブート用スイッチング素子とを具備することを
    特徴とする半導体記憶装置のセンス増幅器。
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