JPS60242049A - 機能性積層体 - Google Patents
機能性積層体Info
- Publication number
- JPS60242049A JPS60242049A JP9751584A JP9751584A JPS60242049A JP S60242049 A JPS60242049 A JP S60242049A JP 9751584 A JP9751584 A JP 9751584A JP 9751584 A JP9751584 A JP 9751584A JP S60242049 A JPS60242049 A JP S60242049A
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- Japan
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- amorphous silicon
- silicon layer
- laminate
- functional laminate
- gas barrier
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［利用分野］
本発明はガスバリヤ−性及び／もしくは紫外線カット能
を有する機能性積層体に関づる。詳しくは、可視域に透
明な高分子樹脂の基体、具体的には成型体、シート、フ
ィルム等の少なくともその一方の面に機能性薄膜を積層
して、前記機能性を付与した機能性積層体に関する。
を有する機能性積層体に関づる。詳しくは、可視域に透
明な高分子樹脂の基体、具体的には成型体、シート、フ
ィルム等の少なくともその一方の面に機能性薄膜を積層
して、前記機能性を付与した機能性積層体に関する。
［従来技術］
近年、高分子樹脂基体は、ボトル、容器等の成型体、あ
るいは、シート、フィルム等の薄膜としてその用途の拡
大につれ、水蒸気、炭酸ガスなどに対するガスバリヤ−
性や紫外線カット能などの機能性を有する事がめられ、
又機能竹林斜として注目されている。
るいは、シート、フィルム等の薄膜としてその用途の拡
大につれ、水蒸気、炭酸ガスなどに対するガスバリヤ−
性や紫外線カット能などの機能性を有する事がめられ、
又機能竹林斜として注目されている。
ところで、かかる高分子樹脂基体にガスバリＶ−能を付
与する方法としては、従来より高分子樹脂基体上にフッ
素系化合物あるいはシリコーン系化合物等の有機物質、
有機金属化合物をコーティングづる方法が知られている
が、ボトル等の成型体上に均一に塗布する事が難しく、
又、塗りむら。
与する方法としては、従来より高分子樹脂基体上にフッ
素系化合物あるいはシリコーン系化合物等の有機物質、
有機金属化合物をコーティングづる方法が知られている
が、ボトル等の成型体上に均一に塗布する事が難しく、
又、塗りむら。
ピンホールの発生などによって十分なガスバリヤ−性を
発揮し得る緻密な層を得る事が難しい問題がある。
発揮し得る緻密な層を得る事が難しい問題がある。
また、蒸着やスパッタリング法などの物理的方法、メッ
キ等の化学的方法によって高分子樹脂基体上に金属酸化
物層や金属薄層を設けてガスバリヤ−性を付与する方法
も知られているが、透明性を十分前る為には膜を薄くす
る必要が有り、そのため十分なガスバリヤ−性が得られ
なかったり、金属層の腐食やピンホールの発生といった
問題が有る。
キ等の化学的方法によって高分子樹脂基体上に金属酸化
物層や金属薄層を設けてガスバリヤ−性を付与する方法
も知られているが、透明性を十分前る為には膜を薄くす
る必要が有り、そのため十分なガスバリヤ−性が得られ
なかったり、金属層の腐食やピンホールの発生といった
問題が有る。
一方、紫外線カット能を付与する方法どしては、紫外線
吸収剤をあらかじめ高分子樹脂中に混ぜ合わせたり、塗
布したりする方法が知られているが、この高分子樹脂を
用いた成型体及び薄膜ではその使用用途によっては紫外
線吸収剤の溶出か生じる欠点が有る。
吸収剤をあらかじめ高分子樹脂中に混ぜ合わせたり、塗
布したりする方法が知られているが、この高分子樹脂を
用いた成型体及び薄膜ではその使用用途によっては紫外
線吸収剤の溶出か生じる欠点が有る。
［発明の目的コ
本発明はかかる問題点に鑑みなされたもので、ガスバリ
ヤ−性及び／もしくは紫外線カット能を有し、成型物等
にも容易に適用できる高分子樹脂を基体とする機能性積
層体を提供する−６のである。
ヤ−性及び／もしくは紫外線カット能を有し、成型物等
にも容易に適用できる高分子樹脂を基体とする機能性積
層体を提供する−６のである。
［発明の構成及び作用］
即ち本発明は、可視光に透明な高分子樹脂基体と、少な
くともその一方の面に積層されたガスバリヤ−性及び／
もしくは紫外線カット能を付与（る非晶質シリコン層と
からなることを特徴とする機能性積層体である。
くともその一方の面に積層されたガスバリヤ−性及び／
もしくは紫外線カット能を付与（る非晶質シリコン層と
からなることを特徴とする機能性積層体である。
上述の本発明は、種々の検討の結果、驚くべきことに非
晶質シリコン薄膜がガスバリＶ−性、特に水蒸気及び炭
酸ガスに対づるガスバリヤ−性に優れると共に紫外線カ
ット能を有することを見出しなされたものである。
晶質シリコン薄膜がガスバリＶ−性、特に水蒸気及び炭
酸ガスに対づるガスバリヤ−性に優れると共に紫外線カ
ット能を有することを見出しなされたものである。
ところで、本発明の高分子樹脂基体に適用Ｃきる高分子
樹脂としては、ポリエチレンテレフクレート、ポリブチ
レンテレフタレート、ポリ］−チレンナフタレート等の
各種ポリエステル系樹脂、ポリアミド、ポリイミド系樹
脂、ボリアリレート。
樹脂としては、ポリエチレンテレフクレート、ポリブチ
レンテレフタレート、ポリ］−チレンナフタレート等の
各種ポリエステル系樹脂、ポリアミド、ポリイミド系樹
脂、ボリアリレート。
ポリエーテルケトン、ポリカーボネー１〜等が挙げられ
る。このうち特に好ましくは、ポリエステル系樹脂及び
ポリアミド、ポリイミド系樹脂が挙げられる。又、基体
の形状としては、フィルム、シートは勿論、ボトル、容
器等の成型体も挙げられる。
る。このうち特に好ましくは、ポリエステル系樹脂及び
ポリアミド、ポリイミド系樹脂が挙げられる。又、基体
の形状としては、フィルム、シートは勿論、ボトル、容
器等の成型体も挙げられる。
高分子樹脂基板上に設ける非晶質シリコン層はシリコン
原子を主成分とし、水素、ハロゲン、炭素、窒素、酸素
から選ばれた単一あるいは複数の原子を副成分どして含
有する層であり、他にリン。
原子を主成分とし、水素、ハロゲン、炭素、窒素、酸素
から選ばれた単一あるいは複数の原子を副成分どして含
有する層であり、他にリン。
ホウ素の微倒成分を含む場合もある。この非晶質シリコ
ン層を設ける方法としては、シランガスあるいは高次シ
ランガスを主成分とする雰囲気中での公知のプラズマＣ
ＶＤ法若しくは光ＣＶＤ法。
ン層を設ける方法としては、シランガスあるいは高次シ
ランガスを主成分とする雰囲気中での公知のプラズマＣ
ＶＤ法若しくは光ＣＶＤ法。
又は水素原子、ハロゲン原子を含んだ雰囲気中でのスパ
ッタリング法、イオンブレーティング法等があげられる
。これらの中でもプラズマＣＶＤ法。
ッタリング法、イオンブレーティング法等があげられる
。これらの中でもプラズマＣＶＤ法。
光ＣＶＤ法は欠陥のない均一な非晶質シリコン層を得る
のに特に好ましい。又、これらＣＶＤ法によれば、ボト
ル等の成型体基体にも欠陥のない均一な非晶質シリコン
岐が形成できる。
のに特に好ましい。又、これらＣＶＤ法によれば、ボト
ル等の成型体基体にも欠陥のない均一な非晶質シリコン
岐が形成できる。
この非晶質シリコン層は、驚くべきことに後の実施例に
示す通り、紫外線カッｌ−能を有し、又優れたガスバリ
ヤ−性、特に水蒸気、炭酸ガスに対する優れたガスバリ
ヤ−性を有するのである。
示す通り、紫外線カッｌ−能を有し、又優れたガスバリ
ヤ−性、特に水蒸気、炭酸ガスに対する優れたガスバリ
ヤ−性を有するのである。
なお、この非晶質シリコン層の膜厚は、紫外線カット能
の面からは数１００Å以上、特に４５０Å以上が好まし
く、ガスバリヤ−性の面からは１０００Å以上、特に２
０００Å以上が好ましく、可視域での透明性の面からは
５μｍ以下が１２１ましい。又、ガスバリヤ−性、紫外
線カット能及び透明性の三機能を同時に満足させる膜厚
どして１０００Å以上３μｍ以下が特にりＹましい。
の面からは数１００Å以上、特に４５０Å以上が好まし
く、ガスバリヤ−性の面からは１０００Å以上、特に２
０００Å以上が好ましく、可視域での透明性の面からは
５μｍ以下が１２１ましい。又、ガスバリヤ−性、紫外
線カット能及び透明性の三機能を同時に満足させる膜厚
どして１０００Å以上３μｍ以下が特にりＹましい。
以下に実施例及び比較例をあげて本発明を具体的に説明
する。
する。
［実施例１，２及び比較例１］
厚さ７５μｍのポリエチレンテレツタレートフィルム＜
ＰＥＴフィルム）をプラズマＣＶＤ用の平行平板型グロ
ー放電反応装置内のアノード電極上にセットした。基板
温度を２００℃に設定し、到達真空度が１０″Ｇｔｏｒ
ｒ台になった俊、Ａｒガスを導入し４ ｔｏｒｒの圧ツ
ノ下で１０分間、その後Ｈ２ガスを導入し１ｔｏｒｒで
５分間、それぞれグロ放散電を発生させＰＥｌ−フィル
ムの表面を清浄化した。その後、ｔ」２希釈シランガス
（１０容闇％）を導入し０．３ｔｏｒｒの圧力下、２０
Ｖｔ／の＾周波電力を投入しグロー敢電分解し非晶質シ
リコン層を１「積した。非晶質シリコン層の膜厚をグロ
ー放電の詩間によって調整し、厚み２０００人と４００
０人の膜厚の実施例１．２の積層体を得た。このＰＥＴ
／非晶買非晶−シリからなる実施例１．２の積層体の２
４時間及び７２時間の水蒸気透過量（ｇ／Ｔｄ）をカッ
プ法によって測定した。条件は５５℃、９２％ＲＨどし
た。比較の為に比較例１として非晶質シリコン層を設け
ない７５μｍＰＥＴフィルムのみの値も測定し表１に示
した。
ＰＥＴフィルム）をプラズマＣＶＤ用の平行平板型グロ
ー放電反応装置内のアノード電極上にセットした。基板
温度を２００℃に設定し、到達真空度が１０″Ｇｔｏｒ
ｒ台になった俊、Ａｒガスを導入し４ ｔｏｒｒの圧ツ
ノ下で１０分間、その後Ｈ２ガスを導入し１ｔｏｒｒで
５分間、それぞれグロ放散電を発生させＰＥｌ−フィル
ムの表面を清浄化した。その後、ｔ」２希釈シランガス
（１０容闇％）を導入し０．３ｔｏｒｒの圧力下、２０
Ｖｔ／の＾周波電力を投入しグロー敢電分解し非晶質シ
リコン層を１「積した。非晶質シリコン層の膜厚をグロ
ー放電の詩間によって調整し、厚み２０００人と４００
０人の膜厚の実施例１．２の積層体を得た。このＰＥＴ
／非晶買非晶−シリからなる実施例１．２の積層体の２
４時間及び７２時間の水蒸気透過量（ｇ／Ｔｄ）をカッ
プ法によって測定した。条件は５５℃、９２％ＲＨどし
た。比較の為に比較例１として非晶質シリコン層を設け
ない７５μｍＰＥＴフィルムのみの値も測定し表１に示
した。
表１から、実施例１．実施例２共にＩ） Ｅ Ｔフィル
ムに対して箸しく水蒸気にヌ・１づるバリヤーＰ［が向
上していることが理解でさる。
ムに対して箸しく水蒸気にヌ・１づるバリヤーＰ［が向
上していることが理解でさる。
表 １
［実施例３．比較例２］
７５μｍ厚のＰＥＴフィルム上に非晶質シリコン層を前
記実施例１と同じくプラズマＣＶＤ法によって３５００
人厚に堆積して実施例３の積層体を形成し、酸素ガス及
び炭酸ガスのガス透過係数を測定した。その結果を、比
較例２として３０μｒｎ厚のＰＥＴフィルムのみの結果
も含め、表２に示した。
記実施例１と同じくプラズマＣＶＤ法によって３５００
人厚に堆積して実施例３の積層体を形成し、酸素ガス及
び炭酸ガスのガス透過係数を測定した。その結果を、比
較例２として３０μｒｎ厚のＰＥＴフィルムのみの結果
も含め、表２に示した。
表２より、ＰＥＴ／非晶質シリコン層からなる本光明の
積層体は特に炭酸ガスに対してすぐれたガスバリヤ−性
を示−寸ことが理解できる。
積層体は特に炭酸ガスに対してすぐれたガスバリヤ−性
を示−寸ことが理解できる。
（以下余白）
表 ２
（以下余白）
［実施例４，５及び比較例３］
７５μｍ厚のＰＥＴフィルム上に非晶質シリコンｗＪ膜
を前記実施例１と同様のプラズマＣＶＤｆｆ１によって
堆積し、膜厚４５０人（実施例４）と２０００人（実施
例５）の積層体を形成し、４００ｎｍ以下の紫外光域で
の透過率ど可視域での曇度を測定した。
を前記実施例１と同様のプラズマＣＶＤｆｆ１によって
堆積し、膜厚４５０人（実施例４）と２０００人（実施
例５）の積層体を形成し、４００ｎｍ以下の紫外光域で
の透過率ど可視域での曇度を測定した。
結果を表３に、ＰＥＴフィルムのみ（比較例３）の値と
一緒に示した。
一緒に示した。
表３より、本発明の積層体は、優れた紫外線カット能を
有し、非晶質シリコン層が薄い場合には曇度もそれ程低
下しないことが理解できる。
有し、非晶質シリコン層が薄い場合には曇度もそれ程低
下しないことが理解できる。
（以下余白）
表 ３
特許出願人 帝 人 株 式 会 社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ガスバリヤ−性及び／もしくは紫外線ノＪット能を
有する機能性積層体において、可視光に透明な高分子樹
脂基体と、少なくともその一方の面に積層された前記機
能を付与する非晶質シリコン層とからなることを特徴と
する機能性積層体。 ２、非晶質シリコン層がシリコン原子を主成分とし、水
素、ハロゲン、炭素、窒素、酸素から選ばれた単一ある
いは複数の原子を副成分として含有する特許請求の範囲
第１項記載の機能性積層体。 ３、非晶質シリコン層がシランガスあるいは高次シラン
ガスを主成分とする雰囲気中でのプラズマＣＶＤ法ある
いは光ＣＶＤ法によって形成された特許請求の範囲第１
項若しくは第２項記載の機能性積層体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9751584A JPS60242049A (ja) | 1984-05-17 | 1984-05-17 | 機能性積層体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9751584A JPS60242049A (ja) | 1984-05-17 | 1984-05-17 | 機能性積層体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60242049A true JPS60242049A (ja) | 1985-12-02 |
Family
ID=14194390
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9751584A Pending JPS60242049A (ja) | 1984-05-17 | 1984-05-17 | 機能性積層体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60242049A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5042049A (en) * | 1989-01-10 | 1991-08-20 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor optical device |
| WO1998007566A1 (fr) * | 1996-08-21 | 1998-02-26 | Pernod Ricard | Conditionnement pour boisson a base d'anethole |
| US5800880A (en) * | 1997-03-26 | 1998-09-01 | Tetra Laval Holdings & Finance, S.A. | Process for coating the interior wall of a container with a SiOx barrier layer |
-
1984
- 1984-05-17 JP JP9751584A patent/JPS60242049A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5042049A (en) * | 1989-01-10 | 1991-08-20 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor optical device |
| WO1998007566A1 (fr) * | 1996-08-21 | 1998-02-26 | Pernod Ricard | Conditionnement pour boisson a base d'anethole |
| FR2752565A1 (fr) * | 1996-08-21 | 1998-02-27 | Pernod Ricard | Conditionnement pour boisson a base d'anethole constitue au moins en partie d'un polymere comprenant des motifs aromatiques condenses |
| US6045837A (en) * | 1996-08-21 | 2000-04-04 | Pernod Ricard | Packaging for anethole-based beverage, consisting at least partially of a polymer containing condensed aromatic units |
| US5800880A (en) * | 1997-03-26 | 1998-09-01 | Tetra Laval Holdings & Finance, S.A. | Process for coating the interior wall of a container with a SiOx barrier layer |
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