JPS60239480A

JPS60239480A - 着色の少ないジフエニレンオキシドの製造方法

Info

Publication number: JPS60239480A
Application number: JP9558984A
Authority: JP
Inventors: Katsuhiko Shiotani; 塩谷　勝彦; Masaharu Inoue; 井上　政春; Katsuhiko Sakura; 佐倉　克彦
Original assignee: Shin Etsu Chemical Co Ltd; Nippon Steel Chemical Co Ltd
Current assignee: Shin Etsu Chemical Co Ltd; Nippon Steel Chemical and Materials Co Ltd
Priority date: 1984-05-15
Filing date: 1984-05-15
Publication date: 1985-11-28

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、種々の化学工業用原料あるいは防虫剤等とし
て有用な着色の少ないジフェニレンオキシドの製造方法
に関する。

〔従来の技術〕

ジフェニレンオキシドは、ジベンゾフランとも称される
ことがあるが、このものは沸点２８３℃、融点８３℃の
白色結晶で、コールタール中に含有されていることが知
られている。

コールタールは、一般に、先ず蒸溜により軽油、カルポ
ル油、ナフタレン油、洗浄油、アントラセン油等のター
ル油とピッチとに分離され、そして、これら各溜升は必
要に応じて蒸溜、晶析、抽出等の手段により処理され、
有用な各種の製品として利用されている。

上記ジフェニレンオキシドは、ナフタレン油からピッチ
までの溜升に含有されているが、洗浄油に約１５〜３０
重量％、アントラセン油に約１〜３０重量％含まれてお
り、ジフェニレンオキシド製造用原料としてはこれらの
留分が適当である。

また、これらの溜升の沸点範囲は２２０〜３００℃であ
るので、この範囲のタール油留分がジフェニレンオキシ
ド製造の原料として適当である。

これらの留分を精留すると、比較的容易にジフェニレン
オキシド含有量５０重量％以上の留分に濃縮することが
できる。しかし、これらの留分には、ジフェニレンオキ
シドと沸点が接近したアセナフテン、フルオレン、その
他多数の成分が同時に多量に含まれており、蒸溜法のみ
で高純度のジフェニレンオキシドを製造するのは非常に
困難である。

これを解決した方法として、特開昭５７’−５０９８４
号公報には蒸溜により濃縮されたジフェニレンオキシド
留分を融液状態で連続晶析してジフェニレンオキシドの
純度を高める方法が記載されている。すなわち、この方
法は、蒸溜により濃縮されたジフェニレンオキシド留分
を連続晶析装置に導入し、例えば竪型の晶析装置を使用
した場合には塔頂から母液を取り出すと共に塔底から結
晶の融液を取り出すことにより、効率よくジフェニレン
オキシドを得る方法である。

このような方法によって得られたジフェニレンオキシド
は比較的高純度であって、多くの化学１業用原料として
は十分な品質を有するものであるが、これをそのまま若
しくは他の成分と混合して製品とする場合には着色する
ことがあり、外観が損ねられてその商品価値が低下する
ことがある。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明は、着色の少ないジフェニレンオキシドを製造す
ること又は経時的に着色する度合の少ないジフェニレン
オキシドを製造する方法を提供することにあり、さらに
、本発明は高純度のジフェニレンオキシドを製造するた
めの方法を提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

従って、本発明は、ジフェニレンオキシドを含むコール
タール留分の融液を晶析することにより得られた含有率
９０重量％以上、好ましくは９５重量％以上の粗製ジフ
ェニレンオキシドを蒸溜−再結晶又は活性白土処理−再
結晶の手段により着色の少ないジフェニレンオキシドを
製造する方法である。

本発明で使用する原料は、コールタールを蒸溜して得ら
れるジフェニレンオキシド含有留分てあり、通常２２０
〜３００℃の留分である。この留分については必要に応
じて精密蒸溜し、そのジフェニレンオキシドを濃縮する
。好゛ましくは、ジフェニレンオキシド含有量３０重量
％以上、ジフェニレンオキシド／アセナフテンのモル比
１．３以上、フルオレン／ジフェニレンオキシドのモル
比０．０５以下となるように蒸溜して濃縮する。

このようなジフェニレンオキシド含有コールタール留分
は、その融液を晶析することにより含有率９０重最％以
上、好ましくは９５重量％以上の粗製ジフェニレンオキ
シドとする。原料としてのジフェニレンオキシド含有コ
ールタール留分のジフェニレンオキシド含有率が９０重
量％より低いと、次の再結晶時における溶剤使用量が多
くなり、また、ジフェニレンオキシドの回収率が低下し
て好ましくない。

上記晶析方法としては、融液を除々に冷却して結晶を析
出させる方法を採用することができ、バッチ式あるいは
連続式等公知の方法を採用づることができる。連続晶析
法によれば効率良く高純度の粗製ジフェニレンオキシド
を得ることができる。

また、好適な連続晶析装置としては特公昭５５−１８５
２１号公報に記載されたような向流連続晶析装置を挙げ
ることができる。

第１番目の発明においては、含有率９０重量％以上にさ
れた粗製ジフェニレンオキシドを蒸溜し、少なくともそ
の高沸点溜升、好ましくは上記高沸点溜升と低沸点溜升
の両者を分離除去した後、溶剤を使用して再結晶する。

第１番目の発明における蒸溜条件は、粗製ジフェニレン
オキシド中の不純物の量及び要求される精製ジフェニレ
ンオキシドの品質によって異なるが、蒸溜によって低沸
点溜升をできるだけ除去しておくと、次の工程の再結晶
操作が容易になるほか、着色性も低くなり、高純度のジ
フェニレンオキシドを得ることができる。この低沸点溜
升の指標としては、不純物としてアセナフテンを１．０
重量％以上含む原料を使用する場合にはこの蒸溜で低沸
点溜升を除去することにより、アセナフテン含有率１．
０％未満にすることが望ましい。

また、高沸点溜升の指標としては釜残に原料の２〜２０
重量％、好ましくは３〜６重量％前後を残す。釜残に原
料の２０重■％以上を残すとジフェニレンオキシドの回
収率が低下し、また、２重量％以下にすると着色成分が
製品ジフェニレンオキシド中に残留して好ましくない。

この高沸点溜升は、通常ピッチ等であってジフェニレン
オキシドと沸点差が大きく、分離は容易である。

第１番目の発明にお（プる再結晶は、溶剤を使用して行
う。この目的で使用する再結晶溶剤としては、ｎ−ペン
タン、ｎ−ヘキサン等の炭素数５〜１０のパラフィン系
炭化水素、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の
炭素数５〜１０のナフテン系膨化水素及びメタノール、
エタノーメ、プロパツール等の炭素数１〜４のアルコー
ル類からなる一群の溶剤から選択された１種又は２種以
上の溶剤が好ましい。これらの溶剤のうち、特にメタノ
ール及びエタノール等のアルコール類は着色に関して良
い結果を与える。溶剤の使用量については、着色の点で
は多い方が良い結果を与えるが、回収率が低下するので
、通常１〜６倍量、好ましくは２〜４倍量程度使用する
のがよい。この再結晶は、通常の方法、すなわち、加温
溶解−冷却晶析の方法で行うことができる。

また、第２番目の発明においては、上記含有率９０重量
％以上の粗製ジフェニレンオキシドを溶剤に溶解して活
性白土と接触させた後、溶剤から晶析させる。

この第２番目の発明において使用される溶剤は、上記第
１番目の発明の場合と同じであり、また、好ましい溶剤
についても同様である。

また、粗製ジフェニレンオキシドを上記溶剤に加熱溶解
させた後活性白土と接触させるが、その方法としては、
活性白土の充填塔に粗製ジフェニレンオキシドの溶剤溶
液を流通させて接触させるようにしてもよいし、また、
溶液中に活性白土を投入して撹拌することにより接触さ
せてもよい。

なお、本発明におで、活性白土は酸性白土を含むもので
ある。この接触Ｖ＃間については０．５〜１０分程度で
よい。また、接触温度はジフェニレンオキシドが析出し
ない温度に保つ。

活性白土と接触させた後、冷却して精製ジフェニレンオ
キシドを析出させる。

第１番目あるいは第２番目の発明において、再結晶して
得られた精製ジフェニレンオキシドは通常の方法で固液
分離され、次いで乾燥されて製品となる。

〔実施例〕

実施例１沸点２２０〜３００℃のコールタール溜升を精密蒸溜塔
に装入し、アセナフテン１９，０重量％、ジフェニレン
オキシド５６．５重Ｍ％、フルオレン１．３重量％及び
その他の成分残余からなる成分を得た。この溜升を竪型
連続晶析装置に装入し、第１表に示す成分組成の粗製ジ
フェニレンオキシドを得た。

第１表この粗製ジフェニレンオキシドを精製蒸溜して第２表に
示す各溜升を得、次いでシクロヘキサンを使用して再結
晶を行い、精製ジフェニレンオキシドを得た。この時の
蒸溜条件は、充填塔式高温精密分溜装置を用いて圧力１
１００ａ＋Ｈｇ、還流比２０で行い、また、再結晶は、
８０℃に加温溶解後１５〜２０℃まで冷却し、次いで遠
心濾過することにより行った。さらに、１００Ｗの高圧
水銀灯で８時間照射し、精製ナフタレンと比較して着色
の程度を判定した。

結果を第２表に示す。

実施例２上記実施例１の溜出範囲４９．２〜６５．７重量％の溜
升を使用し、再結晶時の溶剤使用量を変えて実施例１と
同様に行った。

結果を第３表に示す。

実施例３上記実施例１の粗製ジフェニレンオキシドをを単蒸溜し
て０〜９６重量％の溜升を得た。この溜１　分について
、再結晶時の溶剤の種類を変えて実施例１と同様に行っ
た。

結果を第４表に示す。

実施例４上記実施例１の粗製ジフェニレンオキシドをシクロヘキ
サンに溶解させ、この溶液を潟痕６０℃、Ｓ■４５〜９
０Ｗ／Ｗ−ｈｒの早さで活性白土充填塔を通過させ、次
いで１５℃に冷却して析出してきた結晶を分離し、精製
ジフェニレンオキシドを得た。

結果を第５表に示す。

〔発明の効果〕

本発明の製造方法によれば、着色が少ないジフェニレン
オキシドを効率良く得ることができるほか、紫外線照射
による着色も少なく、経時的に着色することも少ないジ
フェニレンオキシドを得ることができる。従っ工、この
ようなジフェニレンオキシドは、そのままの形であるい
は他のものと混合した形で使用される製品に対してその
商品価値を低下させることがないという優れた効果を奏
する。

特許出願人　新日鐵化学株式会社代理人　弁理士　成　瀬　勝　夫代理人　弁理士　中　村　智　廣手続ネ甫正ｒ日（自発）昭和５９年　６ｎ１日特許庁長官　若　杉　和　夫　殿１、事件の表示昭和５９年特許願第０９５５８９号２、発明の名称着色の少ないジフェニレン第４−シトの製造方法３、補
正をする者事件との関係　特許出願人住所（居所）　東京都中央区銀座五丁目１３番１６号氏
名（名称）　（６６４）新日鐵化学株式会社４、代理人
　〒１０４　電話０３　（５４３）１６７５住所　東京
都中央区銀座７丁目１４Ｗｉ２号、荏原ビル３階６、補
正にＪ：り増加する発明の数　１７、補正の対象 ■願書の「特許法第３８条ただし古の規定による特許出
願−１の表示の欄 ■願書の「特許請求の範囲に記載された発明の数、１の
欄宇市正のｒ／９容（１）願書に「特許法第３８条ただし占の規定による特
ｒ［出願」との記載を加入する。

（２）願書の「発明の名称」の欄と「発明者」の欄どの
間に「特許請求の範囲に記載された発明の数　２」を加
入する。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）ジフェニレンオキシドを含むコールタール溜升の
融液を晶析することにより得られた含有率９０重量％以
上の粗製ジフェニレンオキシドを、蒸溜して少な３くと
もその高沸点分を除去した後、溶剤を使用して再結晶す
ることを特徴とする着色の少ないジフェニレンオキシド
の製造方法。
（２）再結晶溶剤が炭素数５〜１０のパラフィン系炭化
水素、炭素数５〜１０のナフテン系炭化水素及び炭素数
１〜４のアルコール類からなる一群の溶剤から選択され
た１種又は２種以上の溶剤である特許請求の範囲第１項
記載の着色の少ないジフエ・ニレンオキシドの製造方法
。
（３）ジフェニレンオキシドを含むコールタール溜升の
融液を晶析することにより得られた含有率９０重量％以
上の粗製ジフェニレンオキシドを、溶剤に溶解して活性
白土と接触させた後、溶剤から晶析させることを特徴と
する着色の少ないジフェニレンオキ、シトの製造方法。
（４）再結晶溶剤が炭素数５〜１０のパラフィン系炭化
水素、炭素数５〜１０のナフテン系炭化水素及び炭素数
１〜４のアルコール類からなる一群の溶剤から選択され
た１種又は２種以上の溶剤である特許請求の範囲第３項
記載の着色の少ないジフェニレンオキシドの製造方法。