JPS60239445A - ジシクロヘキシルアミンの製造法 - Google Patents

ジシクロヘキシルアミンの製造法

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JPS60239445A
JPS60239445A JP59096796A JP9679684A JPS60239445A JP S60239445 A JPS60239445 A JP S60239445A JP 59096796 A JP59096796 A JP 59096796A JP 9679684 A JP9679684 A JP 9679684A JP S60239445 A JPS60239445 A JP S60239445A
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Japan
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phenol
hydrogen
ammonia
reaction
catalyst
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JP59096796A
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JPS643863B2 (ja
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Hidekazu Matsumoto
松本 英計
Koya Hirasaka
平坂 康哉
Masao Hashiguchi
橋口 正夫
Hirobumi Arimatsu
有松 博文
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HONSYU KAGAKU KOGYO KK
Honshu Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
HONSYU KAGAKU KOGYO KK
Honshu Chemical Industry Co Ltd
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はフェノールを水素及びアンモニアと共にガス状
でニッケル系成型触媒上に通して反応を行い、得られた
反応液を分留してジシクロヘキシルアミンを取得するこ
とを特徴とする製造法に係るものである。
従来ジシクロヘキシルアミンの製造法としてはアニリン
の水素添加による方法(USP28221192 、C
z@ch、101477)、シクoヘキサノールのアミ
ン化による方法(USP2636902 、Fr、14
9209B)等があシ工業的にもこれらの方法で企業化
されている。これに対してフェノールを原料として還元
アミノ化法により製造する方法としてはたとえばU8P
3351661がある。これはPd/Cのような貴金属
触媒を用いて加圧反応によシジシクロヘキシルアミンを
製造する一方法である。
本発明者等はフェノールの還元アミノ化法について鋭意
研究を行った結果、高価な貴金属触媒を用いることなく
安価なニッケル系成型触媒を用いて然もガス状で7エノ
ールを水素及びアンモニアと反応させることにより容易
にジシクロヘキシルアミンを製造し得ることを発明し本
発明に到達した。この反応に於てはシクロヘキシルアミ
ンが、一部副生ずるので分留によってこれを留取しフェ
ノールに加えて還元アミノ化反応を行うことによりフェ
ノールとシクロヘキシルアミンとよりジシクロヘキシル
アミンを合成し得ることをも発見した。従って副生シク
ロヘキシルアミンをくり返し反応系へ仕込み、得られた
反応液を分留することにより最終的にジシクロヘキシル
アミンのみを製造することが出来る。これら2つの反応
形式は今までに開示せられていない全く新しいものであ
って本発明の骨子となるものである。
又条件を選ぶととKよシ2つの反応形式を別々の反応塔
で行うのではなく、反応塔−基で運転を行つ七ジシクロ
ヘキシルアミンのみを製造することも出来る。
以上の説明で明かなように本発明の特徴とする所は第一
に触媒として低床なニッケル系成型触媒を使用し、第二
に気相反応であるから高価なオートクレブを必要とせず
、従って場合によっては分留をも含めて全く連続方式に
よりジシクロヘキシルアミンを製造することが出来ると
いう点であって、従来技術に比し設備コストが廉価とな
シ工業的に極めて価値あるジシクロヘキシルアミンの製
造法ということが出来る。
本発明に使用されるニッケル系成型触媒は担体として珪
藻土、軽石、アルミナ、シリカ等が用いられニッケルに
は場合により助触媒として少量の他の金属たとえば銅な
どを加えることもある。然し製造の容易さ、取扱及び価
格等の点より珪藻土担体のニッケル系成型触媒が最も適
している。よってこの触媒を用いて本発明の方法を詳細
に述べる。
一般にこのような触媒のニッケルは安定化されており取
扱うときは珪藻土担体安定化ニッケル成型触媒の形で用
いる。この触媒を加熱冷却の可能な反応管に充填し、2
00℃で水素を通しながら数時間処理して活性化し還元
ニッケル成型触媒とする。これにフェノ−、x’:水素
:アンモニアのモル比1:(5〜30):(1〜10)
、好ましくは1:(8〜2G):(1〜6)の混合ガス
管フェノールLsvo、os〜0.2好ましくは0.0
7〜0.15、反応温度100〜250℃好ましくは1
30〜180℃で通し反応を行う。得られた反応液の組
成はシクロヘキシ、ルアミツ30〜フ0 シクロヘキサノール15〜5チで条件を選ぶことにより
未反応フェノールは全く検出されない。
この反応液を集めて分留し高純度のジシクロヘキシルア
ミンを取得することが出来る。分留によって得られる副
生シクロヘキシルアミンは若干のシクロヘキサノールを
含んでいるがそのままフェシールド混合し、フェノール
:シクロヘキシルアミン:水素:アンモニアのモル比を
 :1:(0.5〜2):(5〜20):(1〜3)と
し100〜250℃好ましくは130〜180℃で再び
珪藻土担体還元ニッケル成型触媒上に通して反応させる
ことによりシクロヘキシルアミンのかなシの部分がジシ
クロヘキシルアミンに転化しジシクロヘキシルアミンと
して50〜60%の反応液を得る。これを分留して高純
度のジシクロヘキシルアミンが得られる。上記の反応に
際してのモル比のうちでアンモニアはなるべく少ない方
が望ましい。
以上両反応を組合せてフェノールよりジシクロヘキシル
アミンのみを取得することが出来、又その収率は97〜
98%に達する。
次に実施例により本発明の詳細な説明するが、これらの
実施例によシ本発明の主旨が限定されるものではないこ
とを付記する。
実施例l 5UB 3 o 4の2吋管に珪藻土担体安定化ニツケ
ル成型触媒350F(容積330 cc )を充填する
。こ、の外側はオイルパスにより触媒層の加熱冷却が出
来るようになっている。この触媒層に水素を通しつつ2
00℃に加熱して3時間処理し活性化を行う。この場合
1時間で生成水の留出は終り実質的な活性化は殆ど終っ
ている。
此処で温度を165℃に下げフェノール:水素:アンモ
ニアのそル比yt:s;zとしフェノ−/kLsV0.
1.反応温度175℃で10時間反応を行った。得られ
た反応液を分留してガスクロマトグラフによる分析を行
った結果、シクロヘキシルアミン53.5%、ジシクロ
ヘキシルアミン41.7%、シクロヘキサノール4.3
%でシクロヘキシルアニリンの生成は微量であった。
これを分留して得られたジシクロヘキシルアミンの純度
は99.5 %であった。
I 実施例2〜6 実施例1の触媒反応管を用い各種条件で反応を行った結
果を下表に示した。
実施例7 実施例1の触媒反応管を用い、実施例1で得られたシク
ロヘキシルアミン留分(シクロヘキサノール7、296
を含む)をフェノールと混合しフェノール:CHA:水
素:アンモニア=1:0、!l:10:1のモル比、L
SVo、07,170℃で10時間反応を行った結果、
反応液の組成はシフ鴛ヘキシルアミン38.7%、ジシ
クロヘキシルアミン54%、シクロヘキサノール5.2
チ、高沸魚介2.1%であった。これを分留して純度9
8、5 %のジシクロヘキシルアミンが得られた。
手続補正書 昭和59年6月24日 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 2、発明の名称 ジシクロヘキシルアミンの製造法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 東京都中央区八重洲1丁目5番3号 本州化学工業株式会社 代表者末弘 賀壽彦 4、代理人 6、 補正の内容 (1) 特許請求の範囲を別紙の通り補正する。
(2)第4頁第8行の「オートクレブJの記載を「オー
トクレーブ」と補正する。
7、WA付書類の目録 別 紙 1通 則 紙 特許請求の範囲 ■、 フェノールを水素及びアンモニアと共にガス状で
ニッケル系成型触媒上に通して還元アミノ化反応を行い
、得られた反応液を分留することを特徴とするジシクロ
ヘキシルアミンの製造法。
2、 フェノール:水素:アンモニアのモル比を1:(
5〜30):(1〜10)好ましくは1:(8〜20)
 : (1〜6)とし、反応温度100〜250℃好ま
しくは130〜180℃で反応させる特許請求の範囲第
1項に記載のジシクロヘキシルアミンの製造法。
3、 フェノールを水素及びアンモニアと共にガス状で
ニッケル系成型触媒上に通し還元アミノ化反応を行って
得られた反応液を分留し、その際副生するシクロヘキシ
ルアミンを主成分とする留分を留取し、これをフェノー
ルと混合して水素及びアンモニアと共にガス状でニッケ
ル系成型触媒上に通して還元アミノ化反応を行い、得ら
れた反応液を分留することを特徴とするジシクロヘキシ
ルアミンの製造法。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、フェノールを水素及びアンモニアと共にガス状でニ
    ッケル系成型触媒上に通して還元アミノ化反応を行い、
    得られた反応液を分留することを特徴とするジシクロヘ
    キシルアミンの製造法。 2.7エノール: 水素:アンモニアのモル比ヲ1:(
    5〜30):(1〜10)好ましくは1:(8〜20)
    :(1〜6)とし、反応温度100〜250℃好ましく
    は130〜180℃で反応させる特許請求の範囲第1項
    に記載のジシクロヘキシルアミンの製造法。 3.7エノールを水素及びアンモニアと共にガス状でニ
    ッケル系成型触媒上に通し還元アミン化反応を行って得
    られた反応液を分留し、その際副生ずるシクロヘキシル
    アミンを主成分とする留分を留取し、これをフェノ−元
    と混合して水素及びアンモニアと共にガス状でニッケル
    でニッケル系成型触媒上に通して還元アミノ化反応を行
    い、得られた反応液を分留することを特徴とするジシク
    ロヘキシルアミンの製造法。
JP59096796A 1984-05-15 1984-05-15 ジシクロヘキシルアミンの製造法 Granted JPS60239445A (ja)

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