JPS60239445A - ジシクロヘキシルアミンの製造法 - Google Patents
ジシクロヘキシルアミンの製造法Info
- Publication number
- JPS60239445A JPS60239445A JP59096796A JP9679684A JPS60239445A JP S60239445 A JPS60239445 A JP S60239445A JP 59096796 A JP59096796 A JP 59096796A JP 9679684 A JP9679684 A JP 9679684A JP S60239445 A JPS60239445 A JP S60239445A
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- JP
- Japan
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- phenol
- hydrogen
- ammonia
- reaction
- catalyst
- Prior art date
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はフェノールを水素及びアンモニアと共にガス状
でニッケル系成型触媒上に通して反応を行い、得られた
反応液を分留してジシクロヘキシルアミンを取得するこ
とを特徴とする製造法に係るものである。
でニッケル系成型触媒上に通して反応を行い、得られた
反応液を分留してジシクロヘキシルアミンを取得するこ
とを特徴とする製造法に係るものである。
従来ジシクロヘキシルアミンの製造法としてはアニリン
の水素添加による方法(USP28221192 、C
z@ch、101477)、シクoヘキサノールのアミ
ン化による方法(USP2636902 、Fr、14
9209B)等があシ工業的にもこれらの方法で企業化
されている。これに対してフェノールを原料として還元
アミノ化法により製造する方法としてはたとえばU8P
3351661がある。これはPd/Cのような貴金属
触媒を用いて加圧反応によシジシクロヘキシルアミンを
製造する一方法である。
の水素添加による方法(USP28221192 、C
z@ch、101477)、シクoヘキサノールのアミ
ン化による方法(USP2636902 、Fr、14
9209B)等があシ工業的にもこれらの方法で企業化
されている。これに対してフェノールを原料として還元
アミノ化法により製造する方法としてはたとえばU8P
3351661がある。これはPd/Cのような貴金属
触媒を用いて加圧反応によシジシクロヘキシルアミンを
製造する一方法である。
本発明者等はフェノールの還元アミノ化法について鋭意
研究を行った結果、高価な貴金属触媒を用いることなく
安価なニッケル系成型触媒を用いて然もガス状で7エノ
ールを水素及びアンモニアと反応させることにより容易
にジシクロヘキシルアミンを製造し得ることを発明し本
発明に到達した。この反応に於てはシクロヘキシルアミ
ンが、一部副生ずるので分留によってこれを留取しフェ
ノールに加えて還元アミノ化反応を行うことによりフェ
ノールとシクロヘキシルアミンとよりジシクロヘキシル
アミンを合成し得ることをも発見した。従って副生シク
ロヘキシルアミンをくり返し反応系へ仕込み、得られた
反応液を分留することにより最終的にジシクロヘキシル
アミンのみを製造することが出来る。これら2つの反応
形式は今までに開示せられていない全く新しいものであ
って本発明の骨子となるものである。
研究を行った結果、高価な貴金属触媒を用いることなく
安価なニッケル系成型触媒を用いて然もガス状で7エノ
ールを水素及びアンモニアと反応させることにより容易
にジシクロヘキシルアミンを製造し得ることを発明し本
発明に到達した。この反応に於てはシクロヘキシルアミ
ンが、一部副生ずるので分留によってこれを留取しフェ
ノールに加えて還元アミノ化反応を行うことによりフェ
ノールとシクロヘキシルアミンとよりジシクロヘキシル
アミンを合成し得ることをも発見した。従って副生シク
ロヘキシルアミンをくり返し反応系へ仕込み、得られた
反応液を分留することにより最終的にジシクロヘキシル
アミンのみを製造することが出来る。これら2つの反応
形式は今までに開示せられていない全く新しいものであ
って本発明の骨子となるものである。
又条件を選ぶととKよシ2つの反応形式を別々の反応塔
で行うのではなく、反応塔−基で運転を行つ七ジシクロ
ヘキシルアミンのみを製造することも出来る。
で行うのではなく、反応塔−基で運転を行つ七ジシクロ
ヘキシルアミンのみを製造することも出来る。
以上の説明で明かなように本発明の特徴とする所は第一
に触媒として低床なニッケル系成型触媒を使用し、第二
に気相反応であるから高価なオートクレブを必要とせず
、従って場合によっては分留をも含めて全く連続方式に
よりジシクロヘキシルアミンを製造することが出来ると
いう点であって、従来技術に比し設備コストが廉価とな
シ工業的に極めて価値あるジシクロヘキシルアミンの製
造法ということが出来る。
に触媒として低床なニッケル系成型触媒を使用し、第二
に気相反応であるから高価なオートクレブを必要とせず
、従って場合によっては分留をも含めて全く連続方式に
よりジシクロヘキシルアミンを製造することが出来ると
いう点であって、従来技術に比し設備コストが廉価とな
シ工業的に極めて価値あるジシクロヘキシルアミンの製
造法ということが出来る。
本発明に使用されるニッケル系成型触媒は担体として珪
藻土、軽石、アルミナ、シリカ等が用いられニッケルに
は場合により助触媒として少量の他の金属たとえば銅な
どを加えることもある。然し製造の容易さ、取扱及び価
格等の点より珪藻土担体のニッケル系成型触媒が最も適
している。よってこの触媒を用いて本発明の方法を詳細
に述べる。
藻土、軽石、アルミナ、シリカ等が用いられニッケルに
は場合により助触媒として少量の他の金属たとえば銅な
どを加えることもある。然し製造の容易さ、取扱及び価
格等の点より珪藻土担体のニッケル系成型触媒が最も適
している。よってこの触媒を用いて本発明の方法を詳細
に述べる。
一般にこのような触媒のニッケルは安定化されており取
扱うときは珪藻土担体安定化ニッケル成型触媒の形で用
いる。この触媒を加熱冷却の可能な反応管に充填し、2
00℃で水素を通しながら数時間処理して活性化し還元
ニッケル成型触媒とする。これにフェノ−、x’:水素
:アンモニアのモル比1:(5〜30):(1〜10)
、好ましくは1:(8〜2G):(1〜6)の混合ガス
管フェノールLsvo、os〜0.2好ましくは0.0
7〜0.15、反応温度100〜250℃好ましくは1
30〜180℃で通し反応を行う。得られた反応液の組
成はシクロヘキシ、ルアミツ30〜フ0 シクロヘキサノール15〜5チで条件を選ぶことにより
未反応フェノールは全く検出されない。
扱うときは珪藻土担体安定化ニッケル成型触媒の形で用
いる。この触媒を加熱冷却の可能な反応管に充填し、2
00℃で水素を通しながら数時間処理して活性化し還元
ニッケル成型触媒とする。これにフェノ−、x’:水素
:アンモニアのモル比1:(5〜30):(1〜10)
、好ましくは1:(8〜2G):(1〜6)の混合ガス
管フェノールLsvo、os〜0.2好ましくは0.0
7〜0.15、反応温度100〜250℃好ましくは1
30〜180℃で通し反応を行う。得られた反応液の組
成はシクロヘキシ、ルアミツ30〜フ0 シクロヘキサノール15〜5チで条件を選ぶことにより
未反応フェノールは全く検出されない。
この反応液を集めて分留し高純度のジシクロヘキシルア
ミンを取得することが出来る。分留によって得られる副
生シクロヘキシルアミンは若干のシクロヘキサノールを
含んでいるがそのままフェシールド混合し、フェノール
:シクロヘキシルアミン:水素:アンモニアのモル比を
:1:(0.5〜2):(5〜20):(1〜3)と
し100〜250℃好ましくは130〜180℃で再び
珪藻土担体還元ニッケル成型触媒上に通して反応させる
ことによりシクロヘキシルアミンのかなシの部分がジシ
クロヘキシルアミンに転化しジシクロヘキシルアミンと
して50〜60%の反応液を得る。これを分留して高純
度のジシクロヘキシルアミンが得られる。上記の反応に
際してのモル比のうちでアンモニアはなるべく少ない方
が望ましい。
ミンを取得することが出来る。分留によって得られる副
生シクロヘキシルアミンは若干のシクロヘキサノールを
含んでいるがそのままフェシールド混合し、フェノール
:シクロヘキシルアミン:水素:アンモニアのモル比を
:1:(0.5〜2):(5〜20):(1〜3)と
し100〜250℃好ましくは130〜180℃で再び
珪藻土担体還元ニッケル成型触媒上に通して反応させる
ことによりシクロヘキシルアミンのかなシの部分がジシ
クロヘキシルアミンに転化しジシクロヘキシルアミンと
して50〜60%の反応液を得る。これを分留して高純
度のジシクロヘキシルアミンが得られる。上記の反応に
際してのモル比のうちでアンモニアはなるべく少ない方
が望ましい。
以上両反応を組合せてフェノールよりジシクロヘキシル
アミンのみを取得することが出来、又その収率は97〜
98%に達する。
アミンのみを取得することが出来、又その収率は97〜
98%に達する。
次に実施例により本発明の詳細な説明するが、これらの
実施例によシ本発明の主旨が限定されるものではないこ
とを付記する。
実施例によシ本発明の主旨が限定されるものではないこ
とを付記する。
実施例l
5UB 3 o 4の2吋管に珪藻土担体安定化ニツケ
ル成型触媒350F(容積330 cc )を充填する
。こ、の外側はオイルパスにより触媒層の加熱冷却が出
来るようになっている。この触媒層に水素を通しつつ2
00℃に加熱して3時間処理し活性化を行う。この場合
1時間で生成水の留出は終り実質的な活性化は殆ど終っ
ている。
ル成型触媒350F(容積330 cc )を充填する
。こ、の外側はオイルパスにより触媒層の加熱冷却が出
来るようになっている。この触媒層に水素を通しつつ2
00℃に加熱して3時間処理し活性化を行う。この場合
1時間で生成水の留出は終り実質的な活性化は殆ど終っ
ている。
此処で温度を165℃に下げフェノール:水素:アンモ
ニアのそル比yt:s;zとしフェノ−/kLsV0.
1.反応温度175℃で10時間反応を行った。得られ
た反応液を分留してガスクロマトグラフによる分析を行
った結果、シクロヘキシルアミン53.5%、ジシクロ
ヘキシルアミン41.7%、シクロヘキサノール4.3
%でシクロヘキシルアニリンの生成は微量であった。
ニアのそル比yt:s;zとしフェノ−/kLsV0.
1.反応温度175℃で10時間反応を行った。得られ
た反応液を分留してガスクロマトグラフによる分析を行
った結果、シクロヘキシルアミン53.5%、ジシクロ
ヘキシルアミン41.7%、シクロヘキサノール4.3
%でシクロヘキシルアニリンの生成は微量であった。
これを分留して得られたジシクロヘキシルアミンの純度
は99.5 %であった。
は99.5 %であった。
I 実施例2〜6
実施例1の触媒反応管を用い各種条件で反応を行った結
果を下表に示した。
果を下表に示した。
実施例7
実施例1の触媒反応管を用い、実施例1で得られたシク
ロヘキシルアミン留分(シクロヘキサノール7、296
を含む)をフェノールと混合しフェノール:CHA:水
素:アンモニア=1:0、!l:10:1のモル比、L
SVo、07,170℃で10時間反応を行った結果、
反応液の組成はシフ鴛ヘキシルアミン38.7%、ジシ
クロヘキシルアミン54%、シクロヘキサノール5.2
チ、高沸魚介2.1%であった。これを分留して純度9
8、5 %のジシクロヘキシルアミンが得られた。
ロヘキシルアミン留分(シクロヘキサノール7、296
を含む)をフェノールと混合しフェノール:CHA:水
素:アンモニア=1:0、!l:10:1のモル比、L
SVo、07,170℃で10時間反応を行った結果、
反応液の組成はシフ鴛ヘキシルアミン38.7%、ジシ
クロヘキシルアミン54%、シクロヘキサノール5.2
チ、高沸魚介2.1%であった。これを分留して純度9
8、5 %のジシクロヘキシルアミンが得られた。
手続補正書
昭和59年6月24日
特許庁長官 若 杉 和 夫 殿
2、発明の名称
ジシクロヘキシルアミンの製造法
3、補正をする者
事件との関係 特許出願人
東京都中央区八重洲1丁目5番3号
本州化学工業株式会社
代表者末弘 賀壽彦
4、代理人
6、 補正の内容
(1) 特許請求の範囲を別紙の通り補正する。
(2)第4頁第8行の「オートクレブJの記載を「オー
トクレーブ」と補正する。
トクレーブ」と補正する。
7、WA付書類の目録
別 紙 1通
則 紙
特許請求の範囲
■、 フェノールを水素及びアンモニアと共にガス状で
ニッケル系成型触媒上に通して還元アミノ化反応を行い
、得られた反応液を分留することを特徴とするジシクロ
ヘキシルアミンの製造法。
ニッケル系成型触媒上に通して還元アミノ化反応を行い
、得られた反応液を分留することを特徴とするジシクロ
ヘキシルアミンの製造法。
2、 フェノール:水素:アンモニアのモル比を1:(
5〜30):(1〜10)好ましくは1:(8〜20)
: (1〜6)とし、反応温度100〜250℃好ま
しくは130〜180℃で反応させる特許請求の範囲第
1項に記載のジシクロヘキシルアミンの製造法。
5〜30):(1〜10)好ましくは1:(8〜20)
: (1〜6)とし、反応温度100〜250℃好ま
しくは130〜180℃で反応させる特許請求の範囲第
1項に記載のジシクロヘキシルアミンの製造法。
3、 フェノールを水素及びアンモニアと共にガス状で
ニッケル系成型触媒上に通し還元アミノ化反応を行って
得られた反応液を分留し、その際副生するシクロヘキシ
ルアミンを主成分とする留分を留取し、これをフェノー
ルと混合して水素及びアンモニアと共にガス状でニッケ
ル系成型触媒上に通して還元アミノ化反応を行い、得ら
れた反応液を分留することを特徴とするジシクロヘキシ
ルアミンの製造法。
ニッケル系成型触媒上に通し還元アミノ化反応を行って
得られた反応液を分留し、その際副生するシクロヘキシ
ルアミンを主成分とする留分を留取し、これをフェノー
ルと混合して水素及びアンモニアと共にガス状でニッケ
ル系成型触媒上に通して還元アミノ化反応を行い、得ら
れた反応液を分留することを特徴とするジシクロヘキシ
ルアミンの製造法。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、フェノールを水素及びアンモニアと共にガス状でニ
ッケル系成型触媒上に通して還元アミノ化反応を行い、
得られた反応液を分留することを特徴とするジシクロヘ
キシルアミンの製造法。 2.7エノール: 水素:アンモニアのモル比ヲ1:(
5〜30):(1〜10)好ましくは1:(8〜20)
:(1〜6)とし、反応温度100〜250℃好ましく
は130〜180℃で反応させる特許請求の範囲第1項
に記載のジシクロヘキシルアミンの製造法。 3.7エノールを水素及びアンモニアと共にガス状でニ
ッケル系成型触媒上に通し還元アミン化反応を行って得
られた反応液を分留し、その際副生ずるシクロヘキシル
アミンを主成分とする留分を留取し、これをフェノ−元
と混合して水素及びアンモニアと共にガス状でニッケル
でニッケル系成型触媒上に通して還元アミノ化反応を行
い、得られた反応液を分留することを特徴とするジシク
ロヘキシルアミンの製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59096796A JPS60239445A (ja) | 1984-05-15 | 1984-05-15 | ジシクロヘキシルアミンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59096796A JPS60239445A (ja) | 1984-05-15 | 1984-05-15 | ジシクロヘキシルアミンの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60239445A true JPS60239445A (ja) | 1985-11-28 |
JPS643863B2 JPS643863B2 (ja) | 1989-01-23 |
Family
ID=14174587
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59096796A Granted JPS60239445A (ja) | 1984-05-15 | 1984-05-15 | ジシクロヘキシルアミンの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60239445A (ja) |
-
1984
- 1984-05-15 JP JP59096796A patent/JPS60239445A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS643863B2 (ja) | 1989-01-23 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |