JPS60238500A - 表面処理方法 - Google Patents
表面処理方法Info
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- JPS60238500A JPS60238500A JP9219984A JP9219984A JPS60238500A JP S60238500 A JPS60238500 A JP S60238500A JP 9219984 A JP9219984 A JP 9219984A JP 9219984 A JP9219984 A JP 9219984A JP S60238500 A JPS60238500 A JP S60238500A
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- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は錫めっき被膜慢しくは錫合金めっき被膜に鉛金
属及び／又は水不溶性錯化７合物を共析分散又は融合す
る表面処理方法に関する。
属及び／又は水不溶性錯化７合物を共析分散又は融合す
る表面処理方法に関する。
従来、被処理物表面に錫−鉛合金被膜を形成する方法と
しては、溶融はんだを付着するか又は錫−鉛合金めっき
液を用いて電気めっきを行なう方法が知られている。
しては、溶融はんだを付着するか又は錫−鉛合金めっき
液を用いて電気めっきを行なう方法が知られている。
しかしながら、溶融はんだを付着づる場合には、熱を大
間に要し、またはんだの空気酸化物が表面に浮遊しては
んだ付けを妨害づると共に、はんだ付着物の膜厚を均一
にし難く、更にはんだ付は用の設備に多額の投資を必要
とづるなどの問題がある。
間に要し、またはんだの空気酸化物が表面に浮遊しては
んだ付けを妨害づると共に、はんだ付着物の膜厚を均一
にし難く、更にはんだ付は用の設備に多額の投資を必要
とづるなどの問題がある。
また、錫−鉛合金めっき液を用いた電気めっきによる場
合は、錫及び鉛の２１類の金属化合物を使用づるので、
めっぎ液中及びめっき被膜中のこれらの金属割合をコン
ト［１−ルすることが難かしく、従ってめっき液管理及
びめっき被膜管理が面倒ぐある１−１水溶性の鉛金属化
合物を含む排水が生じるので、排水処理の点でも問題が
ある。更に、錫−鉛合金めっき液としては、ホウフッ化
浴、ケイフッ化浴、−ノ１ノールスルホン耐浴、アルカ
ノールスルホン酸浴等が知られているが、これらの中で
はホウフッ化浴等のフッ他塔を使用する場合が多い。し
かし、フッ他桁を用いる場合には、排水処理上の問題が
あると共に、鉛ガラスを構成体としてなるＩＣのリード
に対してフッ他桁を用い（めっきを行なうと、鉛ガラス
を侵し、めっき液がＩＣ内部に浸透するため、フッ他桁
をＩＣのリードに対重るめっきに使用し得ない。
合は、錫及び鉛の２１類の金属化合物を使用づるので、
めっぎ液中及びめっき被膜中のこれらの金属割合をコン
ト［１−ルすることが難かしく、従ってめっき液管理及
びめっき被膜管理が面倒ぐある１−１水溶性の鉛金属化
合物を含む排水が生じるので、排水処理の点でも問題が
ある。更に、錫−鉛合金めっき液としては、ホウフッ化
浴、ケイフッ化浴、−ノ１ノールスルホン耐浴、アルカ
ノールスルホン酸浴等が知られているが、これらの中で
はホウフッ化浴等のフッ他塔を使用する場合が多い。し
かし、フッ他桁を用いる場合には、排水処理上の問題が
あると共に、鉛ガラスを構成体としてなるＩＣのリード
に対してフッ他桁を用い（めっきを行なうと、鉛ガラス
を侵し、めっき液がＩＣ内部に浸透するため、フッ他桁
をＩＣのリードに対重るめっきに使用し得ない。
本発明者は、上記事情に鑑み、錫−鉛合金被膜中の鉛含
有量を容易かつ確実にコントロールし得、かつ公害防止
上の問題の少ない表面処理方法につき種々検討を進めた
結果、錫めっき液もしくは錫合金め）ぎ液中に鉛金属及
び／又は水不溶性鉛化合物を懸濁分散させてなる複合め
っき液で被処理物をめっきして、この被処理物表面に錫
めっき被膜もしくは錫合金めっき被膜中に鉛金属及び／
又は水不溶性鉛化合物を共析分散させてｂる複合めっき
被膜を形成するか、又は複合めっき被膜形成後、この複
合めっき被膜を加熱し−（、鉛金属及び／又は水不溶性
鉛化合物と錫めっき被膜−ｂしくは錫合金めっき被膜と
を融合し、錫−鉛合金層を形成ｊることにより、上記目
的を達成したものである。
有量を容易かつ確実にコントロールし得、かつ公害防止
上の問題の少ない表面処理方法につき種々検討を進めた
結果、錫めっき液もしくは錫合金め）ぎ液中に鉛金属及
び／又は水不溶性鉛化合物を懸濁分散させてなる複合め
っき液で被処理物をめっきして、この被処理物表面に錫
めっき被膜もしくは錫合金めっき被膜中に鉛金属及び／
又は水不溶性鉛化合物を共析分散させてｂる複合めっき
被膜を形成するか、又は複合めっき被膜形成後、この複
合めっき被膜を加熱し−（、鉛金属及び／又は水不溶性
鉛化合物と錫めっき被膜−ｂしくは錫合金めっき被膜と
を融合し、錫−鉛合金層を形成ｊることにより、上記目
的を達成したものである。
本発明によれば、鉛金属或いは鉛化合物の共析量をコン
ト［」−ルすることによって簡単かつ確実に被膜中の鉛
含有量をコントロールづることができ、またその被膜は
はんだ付は性、はんだ密着性に優れており、しかもウィ
スカーの発生が有効に防止されるものであると共に、排
水処理においては、有害な鉛分はめつぎ液中に不溶物と
して懸濁しているものであるから、単に濾過を行なうだ
けで鉛分を分離除去づることができ、従つ−（排水処理
操作が簡略化される。
ト［」−ルすることによって簡単かつ確実に被膜中の鉛
含有量をコントロールづることができ、またその被膜は
はんだ付は性、はんだ密着性に優れており、しかもウィ
スカーの発生が有効に防止されるものであると共に、排
水処理においては、有害な鉛分はめつぎ液中に不溶物と
して懸濁しているものであるから、単に濾過を行なうだ
けで鉛分を分離除去づることができ、従つ−（排水処理
操作が簡略化される。
以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明の表面処理方法は、まず錫めっき液すしくは錫合
金めっき液中に鉛金属及び／又は水不溶性鉛化合物を懸
濁分散させてなる複合めっき液で被処理物をめっきして
、この被処理物表面に錫めつぎ被膜もしくは錫合金めっ
き被膜中に鉛金属及び／又は水不溶性鉛化合物を共析分
散させてなる複合めっき被膜を形成づるものである。
金めっき液中に鉛金属及び／又は水不溶性鉛化合物を懸
濁分散させてなる複合めっき液で被処理物をめっきして
、この被処理物表面に錫めつぎ被膜もしくは錫合金めっ
き被膜中に鉛金属及び／又は水不溶性鉛化合物を共析分
散させてなる複合めっき被膜を形成づるものである。
本発明において（よ、錫めっき液もしくは錫合金めっき
液中に鉛金属及び／又は水不溶性鉛化合物を分散させた
複合めっき液を用いたことにより、良好な複合めっき被
膜が得られる。即ち、従来より金属粉末をめっき被膜中
に共析させることは知られているが、実際上金属粉末を
めっき液に分散ｉ］、複合めっきを行なって金属粉末を
めっき被膜に共析させると、この粉末が導電性粒子であ
るためざらついためっきになり易いという欠点がある。
液中に鉛金属及び／又は水不溶性鉛化合物を分散させた
複合めっき液を用いたことにより、良好な複合めっき被
膜が得られる。即ち、従来より金属粉末をめっき被膜中
に共析させることは知られているが、実際上金属粉末を
めっき液に分散ｉ］、複合めっきを行なって金属粉末を
めっき被膜に共析させると、この粉末が導電性粒子であ
るためざらついためっきになり易いという欠点がある。
しかしながら、本発明者の検討の結果では、鉛金属や鉛
化合物を用いた場合、これらの表面が不活性化又は不動
態化していることにより、均一で良好な複合めっき被膜
が形成されるものである。
化合物を用いた場合、これらの表面が不活性化又は不動
態化していることにより、均一で良好な複合めっき被膜
が形成されるものである。
Ｖこｒ５水ａｒｌｌ夷面帆押“ｈ沖Ｈ論…六わス油帆理
物は電気めっき可能なものであればいずれのものでもよ
く、スチール、銅、銅合金等の金属素材、無電解めっき
法その他の適宜な方法で表面が導電化されたプラスチッ
ク、セラミックなどが挙げられる。また、これらの被処
理物に本発明方法を適用する場合の前処理には制限はな
く、その目的に応じて適宜選定される。
物は電気めっき可能なものであればいずれのものでもよ
く、スチール、銅、銅合金等の金属素材、無電解めっき
法その他の適宜な方法で表面が導電化されたプラスチッ
ク、セラミックなどが挙げられる。また、これらの被処
理物に本発明方法を適用する場合の前処理には制限はな
く、その目的に応じて適宜選定される。
本発明は、ト述したように錫又は錫合金めっき液に鉛金
属及び／又は水不溶性鉛化合物を分散した複合めっき液
を用いて、ト記被処理物をめっきりるものであるが、こ
の場合錫めっき液、錫合金めっき液としてに艮特に制限
はなく、公知のめつき液が使用できる。例えば、１ｉｌ
ｌｌＦｉｊｌ浴、ホウフッ化浴のような酸性浴を用いる
ことができ、またアルカリ性めっき浴も有効に使用し得
るが、ＩＣのリードのめつぎなどの場合には硫酸浴が好
ましい。なお、錫合金めっき液としては、錫とアンチモ
ン、銅、ニッケル、亜鉛、鉛、鉄、コバルト、金、銀、
ビスマス、インジウム、カドミウム等の金属の１ｓ又は
２種以上との合金めっき液が用いられる。このＭＡ合、
この合金めつぎ液から得られる合金めっき被膜中の錫含
有ｉｔは１０〜９９．９９９％、特に６０−９９．９％
とすることが低融点を維持し得る点、はんだ付は性が良
好である点、摺動部の潤滑性が良好である点等のことか
ら好ましい。
属及び／又は水不溶性鉛化合物を分散した複合めっき液
を用いて、ト記被処理物をめっきりるものであるが、こ
の場合錫めっき液、錫合金めっき液としてに艮特に制限
はなく、公知のめつき液が使用できる。例えば、１ｉｌ
ｌｌＦｉｊｌ浴、ホウフッ化浴のような酸性浴を用いる
ことができ、またアルカリ性めっき浴も有効に使用し得
るが、ＩＣのリードのめつぎなどの場合には硫酸浴が好
ましい。なお、錫合金めっき液としては、錫とアンチモ
ン、銅、ニッケル、亜鉛、鉛、鉄、コバルト、金、銀、
ビスマス、インジウム、カドミウム等の金属の１ｓ又は
２種以上との合金めっき液が用いられる。このＭＡ合、
この合金めつぎ液から得られる合金めっき被膜中の錫含
有ｉｔは１０〜９９．９９９％、特に６０−９９．９％
とすることが低融点を維持し得る点、はんだ付は性が良
好である点、摺動部の潤滑性が良好である点等のことか
ら好ましい。
錫Ｍつき液、錫合金めっき液中に分散され、めっき被膜
に共析される鉛金属、鉛化合物は、水くめっき液）に不
要な−ｂのであればいずれのものでも使用でき、特に制
限されないが、鉛金属のほか、亜酸化鉛（ＰＩ）２０）
、酸化鉛（ＰｂＯ）。
に共析される鉛金属、鉛化合物は、水くめっき液）に不
要な−ｂのであればいずれのものでも使用でき、特に制
限されないが、鉛金属のほか、亜酸化鉛（ＰＩ）２０）
、酸化鉛（ＰｂＯ）。
三二酸化鉛（Ｐｂ２０３）、鉛丹（ｐｔ＋ ３０４ ＞
。
。
硫酸鉛（ＰｂＳＯ４）、リン酸鉛（Ｐｂ （ＰＯ４）２
）、硫化鉛１ｂｓ）等が好適に用いられる。
）、硫化鉛１ｂｓ）等が好適に用いられる。
なＬｌ夕、本発明においては、これら鉛金属、水不溶性
鉛化合物の１秤を単独で使用１ノ（もＪ：り、２種部十
を４１１用するようにしてもよい。また、これら鉛金属
、水不溶性鉛化合物は、必ずしも限定され４ｖいが、平
均粒子径０．１ ｕｒｎ 〜１ ｍｍ、特に０．２〜５
ｆｌＷｌのものを用いることが好ましく、これらの錫め
つさ液又は錫合金めっき液への懸濁型は１へ−３（＞’
ｏｇ／ＪとＪることが好ましい。
鉛化合物の１秤を単独で使用１ノ（もＪ：り、２種部十
を４１１用するようにしてもよい。また、これら鉛金属
、水不溶性鉛化合物は、必ずしも限定され４ｖいが、平
均粒子径０．１ ｕｒｎ 〜１ ｍｍ、特に０．２〜５
ｆｌＷｌのものを用いることが好ましく、これらの錫め
つさ液又は錫合金めっき液への懸濁型は１へ−３（＞’
ｏｇ／ＪとＪることが好ましい。
錫めっき液又は錫合金めっき液に鉛金属及び／又は水不
溶性鉛化合物を懸濁させ−Ｃなる複合めつき液中には必
要により添加剤が加えられる。このような添加剤として
は、錫めっき液、錫合金めっき液に通常添加される公知
の添加剤が挙げられ、また非イオン界面活性剤、カチオ
ン界面活竹剤、アニオン界面活性剤などの１種又は２秤
以−にを添加することもできる。ここで、これらの界面
活性剤の種類、添加量は制限されないが、非イオン界面
活性剤としては例えばノニルノエノール、Ａクチルフェ
ノール、β−ナフトールにエチレン７１−１−シトを８
〜１５ｔル付加させたものなどが使用し得、その添加量
は１〜３０ ’１ ／ 、１とづることができる１、な
お、非イオン界面活性剤は水不溶性の鉛金属及び鉛化合
物粒子の分散剤として有効である。
溶性鉛化合物を懸濁させ−Ｃなる複合めつき液中には必
要により添加剤が加えられる。このような添加剤として
は、錫めっき液、錫合金めっき液に通常添加される公知
の添加剤が挙げられ、また非イオン界面活性剤、カチオ
ン界面活竹剤、アニオン界面活性剤などの１種又は２秤
以−にを添加することもできる。ここで、これらの界面
活性剤の種類、添加量は制限されないが、非イオン界面
活性剤としては例えばノニルノエノール、Ａクチルフェ
ノール、β−ナフトールにエチレン７１−１−シトを８
〜１５ｔル付加させたものなどが使用し得、その添加量
は１〜３０ ’１ ／ 、１とづることができる１、な
お、非イオン界面活性剤は水不溶性の鉛金属及び鉛化合
物粒子の分散剤として有効である。
また、カブメン界面活性剤の添加は鉛金属、鉛化合物の
共ｉ蟻を増大させるのに効果があり、カチオン界面活着
剤としては例えばアルキルアミンへのポリオキシエチレ
ンの付加物、アルキルカルボン酸アミドへのポリオキシ
エチレンの付加物むとが使用し得、０．０１〜１０１／
Ｊの添加量とＪることができる。更に、アニオン界面活
性剤と１゜（はポリ′Ａ４−シＪチレンノ！ルキル−１
−フルの硫酸塩などを例えば０．０１〜′１０牙／メ添
加し得る。
共ｉ蟻を増大させるのに効果があり、カチオン界面活着
剤としては例えばアルキルアミンへのポリオキシエチレ
ンの付加物、アルキルカルボン酸アミドへのポリオキシ
エチレンの付加物むとが使用し得、０．０１〜１０１／
Ｊの添加量とＪることができる。更に、アニオン界面活
性剤と１゜（はポリ′Ａ４−シＪチレンノ！ルキル−１
−フルの硫酸塩などを例えば０．０１〜′１０牙／メ添
加し得る。
また、本発明の複合めっき液には光沢剤を添加すること
ができる。この場合、光沢剤としては通常の錫めっき液
や錫合金めっき液の光沢剤が使用し１り、例えばβ−ナ
ノトール、ホルンリン、ベンシリｊ゛ンアセトン、シン
ナムアルデヒド、アセトノ′ルノパじドと０−トルイジ
ンとの反応物などの１（・Ｉｉ ’５＜ ｌｅｔ ２秤
以、］を添加Ｊることができる。
ができる。この場合、光沢剤としては通常の錫めっき液
や錫合金めっき液の光沢剤が使用し１り、例えばβ−ナ
ノトール、ホルンリン、ベンシリｊ゛ンアセトン、シン
ナムアルデヒド、アセトノ′ルノパじドと０−トルイジ
ンとの反応物などの１（・Ｉｉ ’５＜ ｌｅｔ ２秤
以、］を添加Ｊることができる。
本発明の複合めっき液を用いＣ複合めっきを行なう場合
の条１′１は鉛金属や鉛化合物が分散されていない錫又
は錫合金めっき液と同じであり、例えば陰極電流密度０
．１〜１００Ａ／ｄｍ２、めっき液温５−６０℃の条件
を採用することができる。
の条１′１は鉛金属や鉛化合物が分散されていない錫又
は錫合金めっき液と同じであり、例えば陰極電流密度０
．１〜１００Ａ／ｄｍ２、めっき液温５−６０℃の条件
を採用することができる。
この場合、鉛金属、鉛化合物をめっき液中に均一に分散
懸濁させることが好ましく、このため空気撹拌、ポンプ
によるめっき液の流動、スターラーによる撹拌など、適
宜な方θ、を採用して撹拌を行なうことが好ましい。
懸濁させることが好ましく、このため空気撹拌、ポンプ
によるめっき液の流動、スターラーによる撹拌など、適
宜な方θ、を採用して撹拌を行なうことが好ましい。
本発明においＣ１めっき被膜中の船倉右岸（鉛共析耐）
は鉛金属、鉛化合物とし゛（約１〜７５容昂％であるが
、その共析量はめつき液中の鉛金属、鉛化合物の添加濃
度を代える゛ことによってコントロールし１りる。この
場合、共析量ｉは陰極電流密度及び液漏にはあまり彰胃
されないが、分散剤の種類、めっき液の撹拌により若干
影響される。
は鉛金属、鉛化合物とし゛（約１〜７５容昂％であるが
、その共析量はめつき液中の鉛金属、鉛化合物の添加濃
度を代える゛ことによってコントロールし１りる。この
場合、共析量ｉは陰極電流密度及び液漏にはあまり彰胃
されないが、分散剤の種類、めっき液の撹拌により若干
影響される。
即ち、非イオン界面活性剤及びカチオン界面活性剤の添
加℃共析量は若干増加Ｊる３、なお、非イオン界面活性
剤を約３７／Ｊ以上添加し゛（も共析ｍは大ぎく変化ゼ
ず、はぼ一定になって安定化丈る。また、非イオン界面
活性剤を約３７／以、１−１例えば９？／Ｊ添加した十
に、カチオン界面活竹剤を約０．５’ｊ／、１添加する
と共析量は約３０％増加し、アニオン界面活性剤を約０
．５８／Ｊ添加づると共析＠は約２０％減少Ｊる。更に
、適麿の液撹拌によって共析量は増大Ｊる。
加℃共析量は若干増加Ｊる３、なお、非イオン界面活性
剤を約３７／Ｊ以上添加し゛（も共析ｍは大ぎく変化ゼ
ず、はぼ一定になって安定化丈る。また、非イオン界面
活性剤を約３７／以、１−１例えば９？／Ｊ添加した十
に、カチオン界面活竹剤を約０．５’ｊ／、１添加する
と共析量は約３０％増加し、アニオン界面活性剤を約０
．５８／Ｊ添加づると共析＠は約２０％減少Ｊる。更に
、適麿の液撹拌によって共析量は増大Ｊる。
本発明における表面処理方法においては、被処理物Ｋｍ
、、ｌ−記複合めっきを施し、鉛金属及び／又は水不
溶性鉛化合物を分散共析させた錫もしくは錫合金めっき
被膜を形成した後、更に必要によってはこの複合めっさ
被膜を加熱して、船台Ｆｆ５及び／Ｘｔま水不溶性鉛化
合物と錫めつぎ被膜もしくは錫合金めっき被膜とを融合
し、錫−鉛合金層を形成する。
、、ｌ−記複合めっきを施し、鉛金属及び／又は水不
溶性鉛化合物を分散共析させた錫もしくは錫合金めっき
被膜を形成した後、更に必要によってはこの複合めっさ
被膜を加熱して、船台Ｆｆ５及び／Ｘｔま水不溶性鉛化
合物と錫めつぎ被膜もしくは錫合金めっき被膜とを融合
し、錫−鉛合金層を形成する。
ここぐ、複合めっき被膜の加熱、融合条件としては、複
合めっき被膜を融解せずに錫めっき被膜中に鉛を熱拡散
させるベーキング法か、又は複合めっき被膜を融解して
錫と鉛を溶融一体化する融解法が採用される。この場合
、ベーキングは１００℃以トで行なわれ、例えば１５０
°Ｃで３時間、１８０℃？−１時間、２５０℃で１０分
間の条件を採用することができる。また、融解はめつき
被膜を溶融し１りる温度で行なわれ、例えば３５０℃で
５分間程度の条件を採用１Ｊることができる。
合めっき被膜を融解せずに錫めっき被膜中に鉛を熱拡散
させるベーキング法か、又は複合めっき被膜を融解して
錫と鉛を溶融一体化する融解法が採用される。この場合
、ベーキングは１００℃以トで行なわれ、例えば１５０
°Ｃで３時間、１８０℃？−１時間、２５０℃で１０分
間の条件を採用することができる。また、融解はめつき
被膜を溶融し１りる温度で行なわれ、例えば３５０℃で
５分間程度の条件を採用１Ｊることができる。
本発明の表面処理方法によれば、１達したよう１−１錫
又は錫合金めっき被膜に鉛金属及び／又は水不溶性鉛化
合物を共析分散させるＪ：うにしたので、鉛含有量のＴ
１ントロールが容易かつ確実に行なわれ、所望の組成の
錫−鉛合金層を確実に形成−シ得ると共に、はんだ付は
性が良好であり、かつはんだの密着性が優れたものであ
る。また、錫又は錫合金めっき被膜に鉛が分散共析又は
融合されるので、ウィスカーの発生が良好に防止される
ものである。即ち、錫又は錫合金めつぎ被膜に鉛が分散
共析された複合めっき被膜におい′ＣＧ；ｉ室渇下で室
温又は錫合金めっき被膜中へ鉛が拡散−するのでウィス
カーの発生は防止され、また勿論、ベーキングによ・り
鉛の拡散を促進したり、融解にＪ、り錫と鉛を一体化し
た場合には、ウィスカーの発生はより確実に防止される
ものである。従って、本発明方法はリードル−ム、プリ
ント基板等の電子部品の表面処理方法として好適に採用
され、また耐食、防食用、摺動、耐摩耗用の表面処理イ
の他はんだめっきに代わる表面処理どして〜ｂ右効に採
用される。
又は錫合金めっき被膜に鉛金属及び／又は水不溶性鉛化
合物を共析分散させるＪ：うにしたので、鉛含有量のＴ
１ントロールが容易かつ確実に行なわれ、所望の組成の
錫−鉛合金層を確実に形成−シ得ると共に、はんだ付は
性が良好であり、かつはんだの密着性が優れたものであ
る。また、錫又は錫合金めっき被膜に鉛が分散共析又は
融合されるので、ウィスカーの発生が良好に防止される
ものである。即ち、錫又は錫合金めつぎ被膜に鉛が分散
共析された複合めっき被膜におい′ＣＧ；ｉ室渇下で室
温又は錫合金めっき被膜中へ鉛が拡散−するのでウィス
カーの発生は防止され、また勿論、ベーキングによ・り
鉛の拡散を促進したり、融解にＪ、り錫と鉛を一体化し
た場合には、ウィスカーの発生はより確実に防止される
ものである。従って、本発明方法はリードル−ム、プリ
ント基板等の電子部品の表面処理方法として好適に採用
され、また耐食、防食用、摺動、耐摩耗用の表面処理イ
の他はんだめっきに代わる表面処理どして〜ｂ右効に採
用される。
以下、実施例を示し、本発明を昼休的にＪ１明ηるが、
本発明は下記の実施例に制限されるものではｔ【い。
本発明は下記の実施例に制限されるものではｔ【い。
［実施例１１
硫酸第１錫 ５０？／Ｊ
硫 醇 １２０ ｌＩ
２−ナフリールのエチレン ３ ｒｒ
Ａキシド付加物（１０モル）
ベンザルアセ１〜ン ｏ、ｉｒｌ
ｍ−クレゾールスルホンＭ ２”
鉛金属粉末 １０ 〃
（平均粒径０．５μｌｌ１）
」二記めっき液２０ｊを使用し、液をプＬ１ペラで撹拌
することによって鉛金属粉末をめっき液中に均一に懸濁
させ１こ。
することによって鉛金属粉末をめっき液中に均一に懸濁
させ１こ。
このめつぎ液中に表面積１６ｍ２の真鍮板を入れ、陰極
電流密度３Ａ／ｄｍ２において室温で５分間めっきを行
なった。
電流密度３Ａ／ｄｍ２において室温で５分間めっきを行
なった。
得ｊ）れた複合めつき被膜中には鉛が千ｍで１０％共析
していた。
していた。
この複含めつき被膜を￥淘−トに２Ｉｆｌｌ？ｌＩ放置
しても錫ウィスカーは発生しなかった。
しても錫ウィスカーは発生しなかった。
［実施例２１
＠酸第１錫 ４０８／Ｊ
硫 酸 １００ ！！
鉛金属粉末 ５ ’
（平均粒径０．２μｍ）
ノニルフェノールのエチレン ９ 〃
オキシド付加物（１２モル）
上記めっき液１０Ｊを使用し、ポンプ循環により液流を
起すことによって撹拌を行ない、鉛金１萬粉末をめっき
液中に均一に懸濁さゼた。１このめっき液中に表面ＶＡ
１ｄｍ２の銅板を入れ、陰極電流密度４△／ ６ｍ２に
おいて室温で３分間めっきを行なった。
起すことによって撹拌を行ない、鉛金１萬粉末をめっき
液中に均一に懸濁さゼた。１このめっき液中に表面ＶＡ
１ｄｍ２の銅板を入れ、陰極電流密度４△／ ６ｍ２に
おいて室温で３分間めっきを行なった。
得られた複合めっき被膜中には鉛が重量で５・〜７％共
析（）ていたく低電流密度部の共析量７％。
析（）ていたく低電流密度部の共析量７％。
高電流密度部の共析量５％）１゜
この複合めっき被膜を３５０℃の電気か中で５分間放置
して加熱１Ｊることににす、錫と鉛は完全に溶融一体化
（）、合金化しでいた。
して加熱１Ｊることににす、錫と鉛は完全に溶融一体化
（）、合金化しでいた。
［実施例３］
鉛金属粉末の添加量を２０１ ／ 、ｆとした以外は実
施例２と同様にして複合めっきを行なった。
施例２と同様にして複合めっきを行なった。
その結果、鉛の共析量はΦｍで４５〜５５％であった（
低電流密度部５５％、高市流密麿部４５％）。
低電流密度部５５％、高市流密麿部４５％）。
、１；だ、実施例１と同様にして複合めっき被膜を加熱
すると、錫と鉛は完全に溶融一体化し、合金化し−（い
た。
すると、錫と鉛は完全に溶融一体化し、合金化し−（い
た。
［実施例４］
鉛金属粉末の代りに一酸化鉛を３０９／Ｊ添加した以外
は実施例２と同様にして複合めっきを行４Ｋ つ Ｉこ
。
は実施例２と同様にして複合めっきを行４Ｋ つ Ｉこ
。
イの結果、銅めっぎ被膜中に一酸化鉛が容量化で約／Ｉ
０％１１−析された複合めっき被膜が得られた。
０％１１−析された複合めっき被膜が得られた。
この被膜を水素雰囲気中で３５０℃におい゛Ｃ１０分間
加熱覆ることにより、錫と鉛が均一に一体化１．ノた錫
−ε１）合金層が１１られた。
加熱覆ることにより、錫と鉛が均一に一体化１．ノた錫
−ε１）合金層が１１られた。
１実施例５１
小つノッ化第１錫 ２０Ｏ５？／Ｊ
ホ ｒシ ノ ”／！’Ｉｆｆ １００ 〃ホ ウ 酸
２５ 〃 ノニルノｊノールの、１ニブレン ９ ＩＴオ主シト付
加物（１２ｔル） 鉛金属粉末（平均粒ｔ５１１μｍ） ２Ｏｎ上記めっき
液を使用し、実施例２と同様にしでめっきを行なった結
果、鉛が重量で４０〜６０％共析されためっき被膜が得
られた。
２５ 〃 ノニルノｊノールの、１ニブレン ９ ＩＴオ主シト付
加物（１２ｔル） 鉛金属粉末（平均粒ｔ５１１μｍ） ２Ｏｎ上記めっき
液を使用し、実施例２と同様にしでめっきを行なった結
果、鉛が重量で４０〜６０％共析されためっき被膜が得
られた。
このめっき被膜を２５０ Ｔ；で３Ｏ分１１加熱４ると
錫と鉛【よ完全に混合し、合金化した。
錫と鉛【よ完全に混合し、合金化した。
［実施例６］
ホウフッ化第１＠ ’１００’ｌｔ／Ｊホウフッ化アン
チモン ２０ 〃 小 ウ 駿 ２５ 〃 ２−ナフトールのエチレン １ 〃 Ａキシド付加物（１０セル） 鉛金属粉末（平均粒仔１μＩＩＩ）５０７Ｚ上記めっき
液を使用し、実施例２と同様にし−Ｃめつさを行なった
結果、＠吊で錫が７０％、アンチモンが３０％からなる
合金めっき被膜中に鉛が８０％共析された複合めっき被
膜が得られた。
チモン ２０ 〃 小 ウ 駿 ２５ 〃 ２−ナフトールのエチレン １ 〃 Ａキシド付加物（１０セル） 鉛金属粉末（平均粒仔１μＩＩＩ）５０７Ｚ上記めっき
液を使用し、実施例２と同様にし−Ｃめつさを行なった
結果、＠吊で錫が７０％、アンチモンが３０％からなる
合金めっき被膜中に鉛が８０％共析された複合めっき被
膜が得られた。
このｌＫｐ合め−）、Ｎ被膜ｔ、（、−τのままで或い
は：’ｒ り ＯＴ； ’Ｃづ０分間加熱して各金属を
固溶化した０のについて、従来の鉛−スズ−アンチモン
合金めっ込被ＩＩＱど］１１じｑの軸受性能を示１ノだ
。
は：’ｒ り ＯＴ； ’Ｃづ０分間加熱して各金属を
固溶化した０のについて、従来の鉛−スズ−アンチモン
合金めっ込被ＩＩＱど］１１じｑの軸受性能を示１ノだ
。
出願人 ト 村 工 業 株式会ネ１
代理人 弁狸士 小 島 降 司
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、錫めっき液もしくは錫合金めっき液中に鉛金属及び
／又は水不溶性鉛化合物を懸濁分散させてなる複合めつ
ぎ液で被処理物をめっきして、この被処理物表面に錫め
っき被膜もしくは錫合金めつ８被膜中に鉛金属及び／又
は水不溶性鉛化合物４其析分散させ（なる複合めつき被
膜を形成することを特徴とづる表面処理方法。 ２、錫めっき液もしくは錫合金めっき液中に鉛金属及び
／又は水不溶性鉛化合物を懸濁分散させ（なる複合めっ
き液で被処理物をめっきして、この被処理物表面に錫め
つさ被膜もしくは錫合金めっき被膜中に鉛金属及び／又
は水不溶性鉛化合物を共析分散させてなる複合めっき被
膜を形成した後、この複合めつぎ被膜を加熱して、鉛金
属及び／又は水不溶性鉛化合物と鑞めっ夫姑ｌネ％ １
ｄは錫合金めっき被膜とを融合し、錫−鉛合金層を形成
Ｊることを特徴とする表面処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9219984A JPS60238500A (ja) | 1984-05-09 | 1984-05-09 | 表面処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9219984A JPS60238500A (ja) | 1984-05-09 | 1984-05-09 | 表面処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60238500A true JPS60238500A (ja) | 1985-11-27 |
| JPS6316477B2 JPS6316477B2 (ja) | 1988-04-08 |
Family
ID=14047773
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9219984A Granted JPS60238500A (ja) | 1984-05-09 | 1984-05-09 | 表面処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60238500A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5453293A (en) * | 1991-07-17 | 1995-09-26 | Beane; Alan F. | Methods of manufacturing coated particles having desired values of intrinsic properties and methods of applying the coated particles to objects |
| US5614320A (en) * | 1991-07-17 | 1997-03-25 | Beane; Alan F. | Particles having engineered properties |
| JP2006051514A (ja) * | 2004-08-10 | 2006-02-23 | Shinshu Univ | 銅部材のろう材被膜形成方法及びブレージングシート並びに銅部材の接合方法 |
| JP2007092144A (ja) * | 2005-09-29 | 2007-04-12 | Dowa Metaltech Kk | 複合めっき材およびその製造方法 |
-
1984
- 1984-05-09 JP JP9219984A patent/JPS60238500A/ja active Granted
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5453293A (en) * | 1991-07-17 | 1995-09-26 | Beane; Alan F. | Methods of manufacturing coated particles having desired values of intrinsic properties and methods of applying the coated particles to objects |
| US5601924A (en) * | 1991-07-17 | 1997-02-11 | Materials Innovation Inc. | Manufacturing particles and articles having engineered properties |
| US5614320A (en) * | 1991-07-17 | 1997-03-25 | Beane; Alan F. | Particles having engineered properties |
| US5820721A (en) * | 1991-07-17 | 1998-10-13 | Beane; Alan F. | Manufacturing particles and articles having engineered properties |
| US6162497A (en) * | 1991-07-17 | 2000-12-19 | Materials Innovation, Inc. | Manufacturing particles and articles having engineered properties |
| JP2006051514A (ja) * | 2004-08-10 | 2006-02-23 | Shinshu Univ | 銅部材のろう材被膜形成方法及びブレージングシート並びに銅部材の接合方法 |
| JP2007092144A (ja) * | 2005-09-29 | 2007-04-12 | Dowa Metaltech Kk | 複合めっき材およびその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6316477B2 (ja) | 1988-04-08 |
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