JPS60234964A - 真空シ−ル装置 - Google Patents
真空シ−ル装置Info
- Publication number
- JPS60234964A JPS60234964A JP59086169A JP8616984A JPS60234964A JP S60234964 A JPS60234964 A JP S60234964A JP 59086169 A JP59086169 A JP 59086169A JP 8616984 A JP8616984 A JP 8616984A JP S60234964 A JPS60234964 A JP S60234964A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- roll
- rolls
- sealing device
- casing
- vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
のである。
帯鋼に真空蒸着メッキを施す場合、第１図、第２図に示
す真空シール装置が用いられる。第１図（ａ＋はピンチ
ロール型シール装置の破断側面図、第１図（ｂｌは同図
ｔａ＋のＡ−Ａ線断面図であり、ケーシング０６内には
帯鋼０５を挾持する如く上、下２本のロール０１が回転
自在に収納されている。そして、これらロール０１の両
端面は図示の如くケーシング０６の側壁に面しており、
該両端面とケーシング０６との間には僅かな隙間０２が
形成され、この隙間０２から気体が流れるが、この隙間
０２を極力小さくすることでケーシング０６内の真空度
を高めることができる。尚、図示しないが、ケーシング
０６内は排気ダクトを介して空気ポンプに連通している
。
す真空シール装置が用いられる。第１図（ａ＋はピンチ
ロール型シール装置の破断側面図、第１図（ｂｌは同図
ｔａ＋のＡ−Ａ線断面図であり、ケーシング０６内には
帯鋼０５を挾持する如く上、下２本のロール０１が回転
自在に収納されている。そして、これらロール０１の両
端面は図示の如くケーシング０６の側壁に面しており、
該両端面とケーシング０６との間には僅かな隙間０２が
形成され、この隙間０２から気体が流れるが、この隙間
０２を極力小さくすることでケーシング０６内の真空度
を高めることができる。尚、図示しないが、ケーシング
０６内は排気ダクトを介して空気ポンプに連通している
。
然るに、ロール０１及びケーシング０６の側壁が熱膨張
すると前記隙間０２が増大し、このため真空排気する真
空ポンプの容量を高める必要が生じる。そこで、一従来
はこれらロール０１及びケーシング０６を水冷却する乙
とで熱膨張を抑え、隙間０２の値を一定値に保つという
方法で対処してきた。
すると前記隙間０２が増大し、このため真空排気する真
空ポンプの容量を高める必要が生じる。そこで、一従来
はこれらロール０１及びケーシング０６を水冷却する乙
とで熱膨張を抑え、隙間０２の値を一定値に保つという
方法で対処してきた。
しかしながら、帯鋼０６に成る金属、例えば亜鉛を用い
て真空蒸着メッキする場合、帯鋼０５に一旦蒸着された
亜鉛が再蒸発し、蒸気となってその一部が温度の低いロ
ール０１等に付着し、該ロール０１とこれとの間に僅か
の隙間を設けて設定されるシールパー０３間に亜鉛が堆
積し、この堆積した亜鉛がロール０１の正常な回転を妨
げるとしう問題があった。更に、この堆積した亜鉛が帯
鋼０５の通過する際に剥れて該帯鋼０５に転写され、こ
れが金属の塊となって帯鋼０５によって運ばれ、次の真
空シール装置のロールへ押し付けられて該ロールに付着
し、その上を通過する帯鋼に押し傷を与えるという問題
も発生する。
て真空蒸着メッキする場合、帯鋼０５に一旦蒸着された
亜鉛が再蒸発し、蒸気となってその一部が温度の低いロ
ール０１等に付着し、該ロール０１とこれとの間に僅か
の隙間を設けて設定されるシールパー０３間に亜鉛が堆
積し、この堆積した亜鉛がロール０１の正常な回転を妨
げるとしう問題があった。更に、この堆積した亜鉛が帯
鋼０５の通過する際に剥れて該帯鋼０５に転写され、こ
れが金属の塊となって帯鋼０５によって運ばれ、次の真
空シール装置のロールへ押し付けられて該ロールに付着
し、その上を通過する帯鋼に押し傷を与えるという問題
も発生する。
第２図（ａｌはプライドル型シール装置の一部破断側面
図、第２図（ｂｌは同図（ａ）のＢ−Ｂ線断面図であり
、該プライドル型シール装置は図示の如く上、下のロー
ル０１に帯鋼０５を巻き付け、該ロール０１に弓状のカ
バー０４を組み合わせて構成されるが、この種シール装
置においても前記と同様の問題が発生する。
図、第２図（ｂｌは同図（ａ）のＢ−Ｂ線断面図であり
、該プライドル型シール装置は図示の如く上、下のロー
ル０１に帯鋼０５を巻き付け、該ロール０１に弓状のカ
バー０４を組み合わせて構成されるが、この種シール装
置においても前記と同様の問題が発生する。
本発明は上記問題を有効に解決すべく成されたもので、
その目的とする処は、真空度を高く保って真空ポンプの
小容量化を図ることができるとともに、再蒸発金属蒸気
のロール等への付着及びロールとカバ一部材間での堆積
を防いでロールの回転及び製品への悪影響を除くことが
できる真空シール装置を提供するにある。
その目的とする処は、真空度を高く保って真空ポンプの
小容量化を図ることができるとともに、再蒸発金属蒸気
のロール等への付着及びロールとカバ一部材間での堆積
を防いでロールの回転及び製品への悪影響を除くことが
できる真空シール装置を提供するにある。
上記目的を達成すべく本発明は、ケーシング内に回転自
在に収納されたロールと、該ロールとの間に僅かの隙間
を設けて設置されるカバ一部材とで構成される真空シ′
−ル装置において、前記ロールの両端面にこれの軸方向
に移動自在な側板を弾接せしめるとともに、ロール及び
カバ一部材にこれらを加熱するヒータを設けた。
在に収納されたロールと、該ロールとの間に僅かの隙間
を設けて設置されるカバ一部材とで構成される真空シ′
−ル装置において、前記ロールの両端面にこれの軸方向
に移動自在な側板を弾接せしめるとともに、ロール及び
カバ一部材にこれらを加熱するヒータを設けた。
以下に本発明の好適な一実施例を第３図及び第４図に基
づいて説明する。
づいて説明する。
第３図は本発明に係る真空シール装置の一部破断側面図
、第４図は第３図Ｃ−Ｃ線断面図である。
、第４図は第３図Ｃ−Ｃ線断面図である。
図示の真空シール装置はピンチロール型のものであり、
各ケーシング６内には帯鋼７を挾持する如くして上、下
２本のｐ−ル１が回転自在に収納されている。そして、
各四−ル１は中空状に成形され、内部にはこれを加熱す
るヒータ２が内装されている。又、各■−ル１の両端部
からは第４図に示す如く回転軸１ａがケーシング６の側
壁を貫通して外方へ延出しており、該回転軸１ａの外周
には軸シール１４が摺接している。尚、第４図中、１３
は蛇腹状のダストブーツである。
各ケーシング６内には帯鋼７を挾持する如くして上、下
２本のｐ−ル１が回転自在に収納されている。そして、
各四−ル１は中空状に成形され、内部にはこれを加熱す
るヒータ２が内装されている。又、各■−ル１の両端部
からは第４図に示す如く回転軸１ａがケーシング６の側
壁を貫通して外方へ延出しており、該回転軸１ａの外周
には軸シール１４が摺接している。尚、第４図中、１３
は蛇腹状のダストブーツである。
更に、ロール１の両側端面には第４図に示す如く耐焼付
性の高いカーボン、カーボン繊維う、イニングで成形さ
れた側板１１がスプリング１２にて弾接されている。尚
、上、下のロール１間、上記側板ＩＪ外局部とケーシン
グ６の内周部間にはそれぞれ隙間９．１０が形成されて
いる。
性の高いカーボン、カーボン繊維う、イニングで成形さ
れた側板１１がスプリング１２にて弾接されている。尚
、上、下のロール１間、上記側板ＩＪ外局部とケーシン
グ６の内周部間にはそれぞれ隙間９．１０が形成されて
いる。
一方、ロール１の近傍にはこれとの間に僅かな隙間４を
形成してシールパー３が設置されており、これは帯鋼７
の進行方向（第３図矢印方向）に移動自在に構成されて
おり、該シールパー３の移動で隙間４を調整することが
できるようになっている。そして、このシールパー３に
は図示の如くこれを加熱するためのヒータ５が設けられ
ている。尚、ケーシング６内は排気グクト８を介して図
示しない真空ポンプに連通している。
形成してシールパー３が設置されており、これは帯鋼７
の進行方向（第３図矢印方向）に移動自在に構成されて
おり、該シールパー３の移動で隙間４を調整することが
できるようになっている。そして、このシールパー３に
は図示の如くこれを加熱するためのヒータ５が設けられ
ている。尚、ケーシング６内は排気グクト８を介して図
示しない真空ポンプに連通している。
而して、シールロール１、シールパー３をそれぞれヒー
タ２．５にて帯鋼７に真空蒸着メッキを施す金属の再蒸
発温度以上に加熱すれば、シールロール１及びシールパ
ー３へのメッキ金属の付着及び隙間４でのメッキ金属の
堆積が防止され、この結果、ロール１の正常な回転が害
されず、又帯鋼７に押し傷が発生したすせず、製品欠陥
の発生が阻止される。
タ２．５にて帯鋼７に真空蒸着メッキを施す金属の再蒸
発温度以上に加熱すれば、シールロール１及びシールパ
ー３へのメッキ金属の付着及び隙間４でのメッキ金属の
堆積が防止され、この結果、ロール１の正常な回転が害
されず、又帯鋼７に押し傷が発生したすせず、製品欠陥
の発生が阻止される。
又。四−ル１には側板１１を常時弾接せしめたため、ロ
ール１及びケーシング６の熱膨張に無関係にシールロー
ル１とケーシング６との間の隙間を常に最小限に抑える
ことができ、この結果、真空ポンプはその容量が小さく
て済み、設備費及び排気動力を削減することができる。
ール１及びケーシング６の熱膨張に無関係にシールロー
ル１とケーシング６との間の隙間を常に最小限に抑える
ことができ、この結果、真空ポンプはその容量が小さく
て済み、設備費及び排気動力を削減することができる。
尚、具体的実験例を示すと、次の条件；帯鋼：０６■厚
さＸ ３００ ｍｍ巾の普通鋼通板速度：１５ｍ／組ｎ シールロールの表面温度： ３００℃ シールバーの表面温度： ３００℃ 高圧側シ〜ル装置の圧力ニ １． Ｏｔｏｒｒ低圧側シ
ール装置の圧力ニ ０．０７ ｔｏｒｒメッキ膜厚さ：
４０ｇ／ｍ′（亜鉛） 蒸着前の帯Ｗ４温度： ２５０℃ の下てメッキ作業を行った結果、シールロール表面及び
シールバー表面には亜鉛の付着は認められなかった。又
、シール性能はロールが水冷されていた場合のそれより
も高いことが確認された。
さＸ ３００ ｍｍ巾の普通鋼通板速度：１５ｍ／組ｎ シールロールの表面温度： ３００℃ シールバーの表面温度： ３００℃ 高圧側シ〜ル装置の圧力ニ １． Ｏｔｏｒｒ低圧側シ
ール装置の圧力ニ ０．０７ ｔｏｒｒメッキ膜厚さ：
４０ｇ／ｍ′（亜鉛） 蒸着前の帯Ｗ４温度： ２５０℃ の下てメッキ作業を行った結果、シールロール表面及び
シールバー表面には亜鉛の付着は認められなかった。又
、シール性能はロールが水冷されていた場合のそれより
も高いことが確認された。
以上の説明で明らかな如く本発明によれば、ロールの両
端面に２れの軸方向に移動自在な側板を弾接せしめると
ともに、ロール及びカバ一部材にヒータを設けてこれら
をメッキ金属の再蒸発温度以上に加熱したため、メッキ
金属のロールへの付着及びロールとカバ一部材間での堆
積を防いでロールの正常回転を確保し、製品への悪影響
を除くことができるとともに、高い真空度を保って真空
ポンプの小容量化を図る乙とができる。
端面に２れの軸方向に移動自在な側板を弾接せしめると
ともに、ロール及びカバ一部材にヒータを設けてこれら
をメッキ金属の再蒸発温度以上に加熱したため、メッキ
金属のロールへの付着及びロールとカバ一部材間での堆
積を防いでロールの正常回転を確保し、製品への悪影響
を除くことができるとともに、高い真空度を保って真空
ポンプの小容量化を図る乙とができる。
第１図（ａｌはピンチロール型シール装置の破断側面図
、第１図（ｂｌは同図（ａｌのＡ−Ａ線断面図、第２図
（ａ）はプライドル型シール装置の破断側面図、第２図
（ｂ）は同図［ａ）のＢ−Ｂ線断面図、第３図は本発明
に係る真空シール装置の一部破断側面図、第４図は第３
図Ｃ−Ｃ線断面図である。 図 面 中、 １はロール、 ２．５はヒータ、 ３はシール・バヤ、 ４．９、】０は隙間、 ６はケーシング、 ７は帯鋼、 １１は側板、 １２はスプリングである。 第１図 第２図 −〇
、第１図（ｂｌは同図（ａｌのＡ−Ａ線断面図、第２図
（ａ）はプライドル型シール装置の破断側面図、第２図
（ｂ）は同図［ａ）のＢ−Ｂ線断面図、第３図は本発明
に係る真空シール装置の一部破断側面図、第４図は第３
図Ｃ−Ｃ線断面図である。 図 面 中、 １はロール、 ２．５はヒータ、 ３はシール・バヤ、 ４．９、】０は隙間、 ６はケーシング、 ７は帯鋼、 １１は側板、 １２はスプリングである。 第１図 第２図 −〇
Claims (1)
- ケーシング内に回転自在に収納されｔこロールと、該ロ
ールとの間に僅かの隙間を設けて設置されるカバ一部材
とで構成される真空シール装置において、前記ロールの
両端面にこれの軸方向に移動自在な側板を弾接せしめる
とともに、ロール及びカバ一部材にこれらを加熱するヒ
ータを設けたことを特徴とする真空シール装置。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59086169A JPS60234964A (ja) | 1984-05-01 | 1984-05-01 | 真空シ−ル装置 |
| DE8585102965T DE3578437D1 (de) | 1984-03-19 | 1985-03-14 | Vorrichtung zur bedampfung. |
| DE198585102965T DE155643T1 (de) | 1984-03-19 | 1985-03-14 | Vorrichtung zur bedampfung. |
| EP85102965A EP0155643B1 (en) | 1984-03-19 | 1985-03-14 | Vacuum evaporation equipment |
| AU40012/85A AU553239B2 (en) | 1984-03-19 | 1985-03-15 | Preventing reevaporation and sealing strip in continuous metal vacuum evaporation |
| CA000476897A CA1233016A (en) | 1984-03-19 | 1985-03-19 | Vacuum evaporation equipment |
| US06/713,743 US4649860A (en) | 1984-03-19 | 1985-03-19 | Vacuum evaporation coating equipment |
| KR1019850001760A KR890004043B1 (ko) | 1984-03-19 | 1985-03-19 | 진공증착장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59086169A JPS60234964A (ja) | 1984-05-01 | 1984-05-01 | 真空シ−ル装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60234964A true JPS60234964A (ja) | 1985-11-21 |
| JPH0225429B2 JPH0225429B2 (ja) | 1990-06-04 |
Family
ID=13879250
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59086169A Granted JPS60234964A (ja) | 1984-03-19 | 1984-05-01 | 真空シ−ル装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60234964A (ja) |
-
1984
- 1984-05-01 JP JP59086169A patent/JPS60234964A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0225429B2 (ja) | 1990-06-04 |
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