JPS6046180B2 - 連続真空蒸着装置 - Google Patents
連続真空蒸着装置Info
- Publication number
- JPS6046180B2 JPS6046180B2 JP11842278A JP11842278A JPS6046180B2 JP S6046180 B2 JPS6046180 B2 JP S6046180B2 JP 11842278 A JP11842278 A JP 11842278A JP 11842278 A JP11842278 A JP 11842278A JP S6046180 B2 JPS6046180 B2 JP S6046180B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- crucible
- collector plate
- steel strip
- vacuum
- metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は長尺の金属材料、特に鋼帯にＺｎ、Ａｌ等の
金属を真空中で連続的に蒸着メッキするための装置に関
するものである。
金属を真空中で連続的に蒸着メッキするための装置に関
するものである。
この種装置は従来第１図に示すように、鋼帯２の全幅
にわたつて均一な蒸着膜厚を得るために、蒸発用ルツボ
３の幅は鋼帯２の全幅に比べて等しいか若干大きくなつ
ている。
にわたつて均一な蒸着膜厚を得るために、蒸発用ルツボ
３の幅は鋼帯２の全幅に比べて等しいか若干大きくなつ
ている。
しかも、鋼帯のトラッキング上、高速の鋼帯（鋼帯の移
動方向は紙面に垂直方向である）がルツボに接触しない
ことが必要であるので、鋼帯２の幅方向の端部とルツボ
端部の間に必然的に間隙を形成せねばならない。従つて
、ルツボ３内の蒸発用溶融金属浴５の浴面より蒸発する
蒸発金属分子流６の一部は、この間 隙を通過して真空
蒸着室１の側壁に到達し、ここで金属固体として析出し
て塊状の析出物層２３として次第に成長し、ついには、
鋼帯２の側端部に接触するようになり、鋼帯の正常な運
動を妨げる。このような事態になれば、当然蒸着装置の
操業を中止して、真空室の真空を破り、この析出塊を除
去する必要があるので、著しく装置の稼動率が低下し、
生産性が低下する欠点があつた。 本発明は、従来装置
のこのような欠点を解決す”るために提供するもので、
鋼帯端部とルツボ端部で形成するクリアランスを覆うよ
うにルツボ全長にわたつて移動式の漏洩蒸発金属コレク
タ板を設け、かつ、このコレクタ板に付着した蒸着金属
を別室に導いて剥離除去する装置を設けるものであ、る
。 以下本発明について第２図により詳細に説明する。
動方向は紙面に垂直方向である）がルツボに接触しない
ことが必要であるので、鋼帯２の幅方向の端部とルツボ
端部の間に必然的に間隙を形成せねばならない。従つて
、ルツボ３内の蒸発用溶融金属浴５の浴面より蒸発する
蒸発金属分子流６の一部は、この間 隙を通過して真空
蒸着室１の側壁に到達し、ここで金属固体として析出し
て塊状の析出物層２３として次第に成長し、ついには、
鋼帯２の側端部に接触するようになり、鋼帯の正常な運
動を妨げる。このような事態になれば、当然蒸着装置の
操業を中止して、真空室の真空を破り、この析出塊を除
去する必要があるので、著しく装置の稼動率が低下し、
生産性が低下する欠点があつた。 本発明は、従来装置
のこのような欠点を解決す”るために提供するもので、
鋼帯端部とルツボ端部で形成するクリアランスを覆うよ
うにルツボ全長にわたつて移動式の漏洩蒸発金属コレク
タ板を設け、かつ、このコレクタ板に付着した蒸着金属
を別室に導いて剥離除去する装置を設けるものであ、る
。 以下本発明について第２図により詳細に説明する。
１は真空蒸着室、２は鋼帯（紙面に垂直に移動する）、
３は蒸発用ルツボ、４は蒸発金属加熱用ヒータ、５は蒸
発用金属浴、６は蒸発金属分子Ｊ流、７は漏洩蒸発金属
分子流をそれぞれ示す。
３は蒸発用ルツボ、４は蒸発金属加熱用ヒータ、５は蒸
発用金属浴、６は蒸発金属分子Ｊ流、７は漏洩蒸発金属
分子流をそれぞれ示す。
８は蒸着金属との剥離性のよい材質からなるコレクタで
ある。
ある。
この材質としては、ステンレス鋼などが適する。さらに
剥離性を向上させるために窒化ボロンなどの剥離剤を、
このステンレス鋼帯または普通鋼帯に塗布することも効
果がある。９，１０はコレクタ板８を駆動するためのロ
ールであり、冷却構造にするのが剥離性の点から望まし
い。
剥離性を向上させるために窒化ボロンなどの剥離剤を、
このステンレス鋼帯または普通鋼帯に塗布することも効
果がある。９，１０はコレクタ板８を駆動するためのロ
ールであり、冷却構造にするのが剥離性の点から望まし
い。
すなわち、ロールを冷却することによりコレクタ板を冷
却して低温状態に保持しておくと漏洩蒸発金属分子流７
がコレクタ板に飛来した際に、再蒸発しにくくなるので
、補集効率（付着効率）が大になる利点と付着層２２内
に熱応力が発生して付着層２２は剥離しやすくなる利点
がある。１４は剥理操作室て隔壁１３により真空蒸着室
１と分離している。
却して低温状態に保持しておくと漏洩蒸発金属分子流７
がコレクタ板に飛来した際に、再蒸発しにくくなるので
、補集効率（付着効率）が大になる利点と付着層２２内
に熱応力が発生して付着層２２は剥離しやすくなる利点
がある。１４は剥理操作室て隔壁１３により真空蒸着室
１と分離している。
１１，１２は隔壁１３に設けられたコレクタ板の通適用
スリットである。
スリットである。
このように隔壁１３を設けたのは剥離粉が真空蒸着室を
汚染しないためである。１５は剥離装置でワイヤブラシ
付きのロールなどが適する。
汚染しないためである。１５は剥離装置でワイヤブラシ
付きのロールなどが適する。
１６は剥離粉で、１７は剥離粉溜めの容器である。
１８は均排圧室で、１９，２０はシール弁である。
容器１７に剥離粉が一定量溜まれば、予じめ真空に引い
ていた均排圧室１８内にあるシール弁１９を開けて容器
１７を均排圧室１８に取出したのち、シール弁１９を閉
じ、均排圧室１８を大気圧にする。しかるのちシール弁
２０を開けて容器１７を取出し、再度新しい容器を取出
し時と逆のやり方で剥離操作室１４内に設置する。なお
容器取替え中はコレクタ板の駆動は中止しておくが、短
時間の取替え作業であるので支障はない。もちろん、鋼
帯幅方向の両側に同一のコレクタ板を設ける。
ていた均排圧室１８内にあるシール弁１９を開けて容器
１７を均排圧室１８に取出したのち、シール弁１９を閉
じ、均排圧室１８を大気圧にする。しかるのちシール弁
２０を開けて容器１７を取出し、再度新しい容器を取出
し時と逆のやり方で剥離操作室１４内に設置する。なお
容器取替え中はコレクタ板の駆動は中止しておくが、短
時間の取替え作業であるので支障はない。もちろん、鋼
帯幅方向の両側に同一のコレクタ板を設ける。
以上のように本発明によれば、鋼帯端部とルツボ端部の
クリアランスから漏洩してくる蒸発金属分子を連続的に
補集して真空蒸着室の系外へ取出すことができるので、
従来装置のごとく漏洩蒸発金属分子が真空蒸着室の側壁
に析出し塊状に成長して鋼帯のトラッキングを妨げるよ
うな問題がないので、連続蒸着装置自体の稼動率を高く
維持てきるので、高い生産性が得られる。
クリアランスから漏洩してくる蒸発金属分子を連続的に
補集して真空蒸着室の系外へ取出すことができるので、
従来装置のごとく漏洩蒸発金属分子が真空蒸着室の側壁
に析出し塊状に成長して鋼帯のトラッキングを妨げるよ
うな問題がないので、連続蒸着装置自体の稼動率を高く
維持てきるので、高い生産性が得られる。
第１図は従来装置の概略構造を示す断面図、第２図は本
発明装置の一実施例の概略構造を示す断面図である。 １・・・・・・真空蒸着室、２・・・・・鋼帯、３・・
・・・・ルツボ、４・・・・・・ヒータ、５・・・・・
・蒸発用溶融金属浴、６・・・・蒸発金属分子流、７・
・・・・・漏洩金属分子流、８・・・・コレクタ板、９
，１０・・・・・・駆動ロール、１１，１２・・・・ス
リット、１３・・・・・・隔壁、１４・・剥離操作室、
１５・・・・・・剥離装置、１６・・・・・剥離粉、１
７・・・・・・剥離粉受容器、１８・・・・・・均排圧
室、１９，２０・・・・・・シール弁、２１・・・・・
排気口、２２・・・付着層、２３・・・・・・塊状の析
出物層。
発明装置の一実施例の概略構造を示す断面図である。 １・・・・・・真空蒸着室、２・・・・・鋼帯、３・・
・・・・ルツボ、４・・・・・・ヒータ、５・・・・・
・蒸発用溶融金属浴、６・・・・蒸発金属分子流、７・
・・・・・漏洩金属分子流、８・・・・コレクタ板、９
，１０・・・・・・駆動ロール、１１，１２・・・・ス
リット、１３・・・・・・隔壁、１４・・剥離操作室、
１５・・・・・・剥離装置、１６・・・・・剥離粉、１
７・・・・・・剥離粉受容器、１８・・・・・・均排圧
室、１９，２０・・・・・・シール弁、２１・・・・・
排気口、２２・・・付着層、２３・・・・・・塊状の析
出物層。
Claims (1)
- １ 鋼帯等の金属材料に真空中でＺｎ、Ａｌ等の金属を
連続的に蒸着メッキするための装置において、真空蒸着
室内のルツボの上端部とルツボ上を通過する鋼帯の端部
とで形成するクリアランスを覆うようにルツボ全長にわ
たつて移動式の漏洩蒸発金属のコレクタ板を設け、更に
、コレクタ板を別室に導き該コレクタ板に付着した蒸着
金属を剥離除去するための装置を設けたことを特徴とす
る連続真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11842278A JPS6046180B2 (ja) | 1978-09-26 | 1978-09-26 | 連続真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11842278A JPS6046180B2 (ja) | 1978-09-26 | 1978-09-26 | 連続真空蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5544579A JPS5544579A (en) | 1980-03-28 |
| JPS6046180B2 true JPS6046180B2 (ja) | 1985-10-15 |
Family
ID=14736240
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11842278A Expired JPS6046180B2 (ja) | 1978-09-26 | 1978-09-26 | 連続真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6046180B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62284074A (ja) * | 1985-12-27 | 1987-12-09 | Arubatsuku Seimaku Kk | 連続スパツタリング装置 |
| JPH072092B2 (ja) * | 1989-03-10 | 1995-01-18 | 株式会社幸和工業 | せんべい焼成方法及びその装置 |
-
1978
- 1978-09-26 JP JP11842278A patent/JPS6046180B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5544579A (en) | 1980-03-28 |
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