JPS602299B2 - ２，３―キシリジンの精製法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は硫酸を用いる２，３−キシリジンの精製法、更
に詳しくは、硫酸との反応により２，３ーキシリジン硫
酸塩の結晶を生成させ、これを母液から分離した後、続
いてこれににアルカリを作用させ、もとの２，３ーキシ
リジンを遊離させて分離回収する２，３−キシリジンの
精製法に関する。

２，３−キシリジンには、染料および医薬などの原料と
しての需要があるが、特に高純度品が要求される医薬の
場合には、２，３ーキシリジンに含有されるキシリジン
異性体（２，４−、２，５−、２，６−なるびに３，４
ーキシリジン）およびその他の不純物は致命的な欠陥と
なることがある。

従来の技術で製造される２，３ーキシリジンはｏーキシ
レンを硫酸一硝酸混合物でニトロ化し生成したニト。

キシレン類から分離した３−ニトロ−ｏ−キシレンを水
素化すると得られるが通常、かくして得られた２，３ー
キシリジン中にはキシリジン異性体類とその他の不明成
分の不純物が２〜３％含まれている。また高純度ｏ−キ
シレン（ｏ−キシレン含量９９．８％）を糠料として製
造された２，３ーキシリジンにも１．０〜２．５％程度
のキシリジン異性体類およびその他の不純物が含有され
ており、蒸留等の通常の操作では分離除去はできない。
又高度の精製蒸留或は晶折等の手段では工業的には経済
性が著しく不利となるため実施出来ない。一般に芳香族
アミン類の分離精製については制限量の酸で処理して分
別沈澱する方法（キシリジン類については１．０．Ｆａ
ｒｂｅｎ−ｃｈｅｍｉｅ−Ａ．Ｇ．，ドイツ特許舷．５
４７鱗６；カラー（石井麹司訳）、有機化学０、６１刀
頁；小竹無二雄編、有機化学９、芳香族化合物１、１６
２頁）、一般的な酸性物質で処理した後蒸留するアニリ
ンの精製法（三井化学工業■、椿公昭３６−１６７１７
）、棚酸系物質でｏ−ジァミンを除去する芳香族アミン
の精製法（イムベリアル・ケミカル・インダストリイス
・リミツテツド、椿公昭４０−１９３２６）、アルカリ
性化合物と接触下にまたは接触させた後、蒸留する芳香
族アミンの精製方法（住友化学工業■、特閥昭４９−３
５３４１）、酸性亜硫酸塩、亜硫酸塩次亜硫酸塩の水溶
液で処理した後蒸留するアニリンの精製法（三井化学工
業■、侍公昭３６一１６７１８）、長時間５０〜１９０
℃に加熱した後蒸留するアィリン脱色法（三井化学工業
■、樽公昭３６一１６７１９）、その他ｃｏｌｍｍｎｃ
ｒ＄ｔａｌｌｉｚａｔｉｏｎ或はｚｏ肥ｍｅｌｔｉ増に
よる精製法（Ｐｕｒ正にａｔｉｏ肌ｆｌ肌ｒ鰍ｎに ａ
ｎｄ ０鴇ａｎにＭａｔｅｒｉａｌｅ，１２１〜１２４
Ｐ，Ｄｅｋｋｅｒ Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９６９）など
があるが、未だ２，３ーキシリジンの効果的な工業的分
離精製法についての報告は見当らない。

本発明者らは上記特許あるいは文献類の方法を２，３−
キシリジンに適用して良好な精製効果があるかどうかに
ついて、経済性の点で明らかに不利なものを徐き、検討
したが効果的なものは見当らなかった。そこで、不純物
の中特に不都合と云われる不明成分の解明およびその除
去法の検討も含めて種々鋭意検討した結果、適当量の硫
酸を作用させて一旦硫酸塩結晶として分離し、あるいは
必要ならば更に精製した上で、アルカリでもとの２，．
３−キシリジンを遊離せしめる方法が他の方法では除去
が困難であった不純物、競中上記不明成分の除去に効果
的であることを見出し、最適条件を確め本発明を完成し
た。

この方法によれば、従来法に比して精製効果が格段に大
きい丈でなく、材料費も小さく、方法も簡単であるので
、工業的に非常に有利な精製法である。本発明の方法に
よれば、使用する硫酸量は、硫酸水溶液を用いる場合、
硫酸として２，３−キシリジンに対して０．３〜１．５
モル倍（０．６〜３．０当量倍）が適当であるが、更に
好ましくは、０．４〜０．８モル倍（０．８〜１．６当
量倍）が良好である。

また、硫酸水溶液の濃度は５〜３肌ｔ％が適当であり、
更に好ましくは、７〜１５ｗｔ％が良好な結果を与える
。硫酸濃度が３肌ｔ％を超えると、中和塩の結晶生成の
際の発熱が大きく、鷹梓も困難となり、結晶中に不純物
が混入し易く、工業的な精製法として実施し難くなる。
その他、硫酸以外の種々の酸水溶液を用いて精製の効果
をみた結果を次表に示す。

驚くべきことには、酸との塩生成を利用する本発明の精
製法において、どの無機酸でも類似の結果が得られるわ
けでなく、硝酸およびリン酸ではほとんど精製効果はな
い。塩酸では精製効果はあるが収率が余りに低いので工
業的精製法としては不十分と考えられる。表：種々の酸
との塩生成を利用した方法による精製２，３−キシリジ
ンの純度（各成分組成多）と収率（努） ※ ：硫酸による精製操作を２回行なった場合※※：内
訳：２，４一体０．９７多、２，５一体０．５２紫、２
，６一体０．５７多、３，４一体溶媒の存在は精製の効
果に若干良い影響があるが溶媒回収の装置の必要と回収
ロスの問題があるので優劣はつけ難い。

硫酸水溶液を使用する場合は溶媒使用の際に硫酸濃度を
僅か高めにするか硫酸溶液量を若干多目‘こする方が良
い。また、溶媒の種類は塩基性溶媒以外ならば構わない
が、経済的見地からは、メタノール、アセトン、ベンゼ
ン、トルェン等の安価で比較的軽沸点のもので而も芳香
族アミン類と少くとも親和性のあるものが用いられる。
量としては、水と混和しうる溶媒は上記の硫酸水溶液の
水と互換性があり、如何なる割合の混合物でもよい。水
に不溶性ないし藤簿性の溶媒の場合は、不純物の量およ
び硫酸との相対量、芳香族アミンとの親和性にもよるが
硫酸水溶液の量までが適当でそれ以上では不経済である
。精製原料中の不純物は表に示した如き含量であるが、
２，３ーキシリジンの医薬品用途の場合単なる純度向上
のみならず、上述の不明成分が０．０１％あるいはそれ
以下が要求される場合がある。この様な厳しい要求に対
して本発明方法では溶媒非存在下では２回の繰返し精製
で容易に７７％の収率で蓮せられ、溶媒存在下では１回
の精製でほゞ達せられるに反し、従来法では工業的に高
価な低温晶祈法（回収率５５％）以外に効果的な方法が
ない。以下、実施例、比較例を以て本発明を具体的に説
明する。

実施例 １ 水６００のこ９６％硫酸５１夕を溶解し、これを縄拝し
乍ら、２，３ーキシリジン（純度９７．６％、不明成分
０．２５％）１２１夕をこの中に除々に滴下した。

溶液の温度は２５〜３５００を維持した。生成した２，
３−キシリジン硫酸塩の結晶を炉昇りし、少量の水で水
洗後少量のアセトンで２回洗浄した。次に水４００の‘
にこの硫酸塩を投入し、燈拝し乍らが−苛性ソーダを滴
下しｐＨ７．０〜７．５に調節して２，３−キシリジン
を遊離させた。油層を分液し、１回水洗し、分離した油
相を無水硫酸ソーダで脱水して精製２，３−キシリジン
を得た。純度９８７％、収率８７％不明成分０．０３％
であった。実施例 ２ 実施例１と同機に、水６００のこ９６％硫酸５１夕を溶
解させ、これを蝿拝し乍ら、２，３−キシリジン（純度
９７．６％、不明成分０．２５％）１２１夕を滴下させ
た。

溶液の温度は２５〜３５℃を維持した。生成した２，３
−キシリジン硫酸塩の結晶を炉別し、少量の水で水洗後
少量のアセトンで２回洗浄した。次に水４００の‘にこ
の硫酸塩を投入し、燈拝し乍らが‐苛性ソーダ水溶液を
滴下し、ｐＨ７．０〜７．５に調節して２，３ーキシリ
ジンを遊離させた。油層を分液し、１回水洗した。第２
回目として、水５００の‘に９６％硫酸４２夕を溶解し
た水溶液に、上記分離精製した２，３−キシリジン（油
相）を縄投下徐々に加えた。生成した２，３ーキシリジ
ン硫酸塩の結昌を第１回目と同様に炉別、水洗ならびに
アセトン洗浄した。水３００の‘にこの硫酸塩を投入し
、同様にして苛性ソーダ水溶液で２，３−キシリジンを
遊離し、分液水洗後無水硫酸ソーダで脱水した。得られ
た２，３−キシリジンは純度９９．４％、収率７７％、
不明成分０．０１％以下であった。実施例 ３ 水６００のこ９６％硫酸５２夕を溶解し、これを激しく
縄拝し乍ら２，３ーキシリジン（純度９７．６％、不明
成分０．２５％）１２１夕とベンゼン２００泌との混合
物を徐々に滴下した。

溶液の温度は２５〜３５ｑＣを維持した。生成した２，
３−キシリジン硫酸塩の結晶を炉別し、少量の水で水洗
し、次いで少量のベンゼンで二回洗浄し乾燥した。次に
、水４００奴にこの硫酸塩結晶を投入し、が一帯性ソー
ダを櫨梓下滴し、ｐＨ７．０〜７．５に調節した。遊離
する２，３−キシリジンの油相を分液し、一回水洗後無
水硫酸ソーダで脱水し、得られた２，３−キシリジンは
純度９９．１％、収率８５％、不明成分０．０２％であ
った。溶媒存在下の方法では純度は１回精製で更によく
なるが、収率が若干低下する。

実施例 ４ 水４００のこ９６％硫酸５１夕を溶解し、これにメタノ
ール２００の‘を加え、磯拝下、２，３−キシリジン（
純度９７．６％、不明成分０．２５％）１２１夕を徐々
に滴下した。

溶液の温度は２５〜３５午０を維持した。生成した２，
３ーキシリジン硫酸塩の結晶を炉別し、少量の水で水洗
後少量のメタノールで２回洗浄し乾燥した。次に水４０
０のにこの硫酸塩結晶を投入し、が一帯性ソーダを濃投
下滴下し、ｐＨ７．０〜７．５に調節した。遊離する２
，３ーキシリジンの油層を分液し、水洗後無水流酸ソー
ダで脱水し、得られた２，３ーキシリジンは純度９９．
２％、収率８４％、不明成分０．０１％であった。溶媒
存在下の方法では純度は１回精製で更によくなるが収率
は若干低下する。比較例 １ 水３００のこ９８％硝酸６３夕を溶解し、これを蝿拝し
乍ら２，３−キシリジン（純度９７．６％不明成分０．
２５％）１２０夕を徐々に滴下した。

溶液の温度は２５〜３５ｑｏを維持した。生成した２，
３ーキシリジン硝酸塩の結晶を炉別し、実施例１と同様
に水洗した。次に水３００の‘にこの硝酸塩を投入し、
洲−苛性ソーダ水溶液を蝿梓下に滴下し、ｐＨを７．０
〜７．５に調節した。遊離した２，３ーキシリジンを分
液し、１回水洗後無水硫酸ソーダで脱水して２，３−キ
シリジン９０夕を得た。純度９７．９％、収率７５％、
不明成分０．２１％であった。比較例 ２ 水３００のこ８５％リン酸３３夕を溶解し、これを縄拝
し乍ら２，３−キシリジン（純度９７．６％、不明成分
０．２５％）１２０夕を徐々に滴下した。

溶液の温度は２５〜３５ｑｏを維持した。生成した２，
３ーキシリジンの燐酸塩は比較例１と同様に処理して２
，３ーキシリジン１０３夕を得た。純度９７．６％、収
率８６％、不明成分０．２１％であった。比較例 ３ 水３００の上に３６％塩酸１０１夕を溶解し、これを魔
拝し乍ら２，３ーキシリジン（純度９７．６％、不明成
分０．２５％）１２０夕を徐々に滴下した。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 溶媒の存在または非存在下、２，３−キシリジンに
   硫酸を作用させ、生成する２，３−キシリジン硫酸塩を
   分離した後、これにアルカリを作用させて２，３−キシ
   リジンを遊離させることを特徴とする２，３−キシリジ
   ンの精製法。