JPS60229234A - 磁気ディスク用基板の製造方法 - Google Patents
磁気ディスク用基板の製造方法Info
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- JPS60229234A JPS60229234A JP8565684A JP8565684A JPS60229234A JP S60229234 A JPS60229234 A JP S60229234A JP 8565684 A JP8565684 A JP 8565684A JP 8565684 A JP8565684 A JP 8565684A JP S60229234 A JPS60229234 A JP S60229234A
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- Japan
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- polishing
- crystallized glass
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- magnetic disk
- polished
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は磁気ディスク用・結晶化ガラス基板表面を精密
研摩仕上げして成る磁気ディスク用基板とその製造方法
に関する。
研摩仕上げして成る磁気ディスク用基板とその製造方法
に関する。
一般に磁気ディスク用基板としては、次の様な特性が要
求される。
求される。
（１） ０．３ ＰＬ層以下の低ヘッド浮上高さに伴い
磁気−、ラドの安定な浮上と記録特性の安定性を得るた
め研摩後の表面粗度が良好なこと。
磁気−、ラドの安定な浮上と記録特性の安定性を得るた
め研摩後の表面粗度が良好なこと。
（２）基板表面に形成される磁性薄膜の欠陥の要因とな
る突起や礼状へごみがないこと。
る突起や礼状へごみがないこと。
（３）機械加工、研摩、或いは使用時の高速回転に十分
耐える機械的強度を有すること。
耐える機械的強度を有すること。
（４）耐食性、耐候性、且つ耐熱性を有すること。
従来磁気ディスク用基板にはＡ１合金が使用されている
が、 Ａ１合金基板では材料の結晶異方性、材料欠陥及
び材料中に存在する非金属介材物等のため機械加工や研
摩１稈において、これらが基板表面に突起として残存し
たり或いは、結晶化された部分がスポット状に脱落して
凹みを生じ十分な研摩を行なっても表面粗度は、せいぜ
い２００Ａ程度であり、突起や凹み、うねりのある表面
状態で高密度磁気記録用ディスク用基板材としては十分
でない。
が、 Ａ１合金基板では材料の結晶異方性、材料欠陥及
び材料中に存在する非金属介材物等のため機械加工や研
摩１稈において、これらが基板表面に突起として残存し
たり或いは、結晶化された部分がスポット状に脱落して
凹みを生じ十分な研摩を行なっても表面粗度は、せいぜ
い２００Ａ程度であり、突起や凹み、うねりのある表面
状態で高密度磁気記録用ディスク用基板材としては十分
でない。
現在スパッタディスク用基板材の表面状態を改善する目
的として、Ａ１合金表面にアルマイト層を形成し硬度を
増加して研摩加工性を向上するための方法がとられてい
るが、アルマイト形成中にＡ１合金中のＩｔｋｊｌ不純
物（Ｆｅ、 Ｍｎ、 Ｓｉ）が金属間化合物として析出
するため、アルマ・イト処理後その部分が凹みの欠陥の
発生要因となる。母材合金の高純度化を図ることは製造
プロセス上至難に近く、さらにＡ１合金の場合耐食性清
浄度の面でも取りあつがいが問題となっている。またス
パッタリングウメツキによ°る薄膜磁気記録媒体形成の
場合、Ａ１合金と磁性膜の化学反応や拡散の問題が生じ
、さらに磁性膜の熱処理により基板の変形を伴い面振れ
加速度は４に昇する。
的として、Ａ１合金表面にアルマイト層を形成し硬度を
増加して研摩加工性を向上するための方法がとられてい
るが、アルマイト形成中にＡ１合金中のＩｔｋｊｌ不純
物（Ｆｅ、 Ｍｎ、 Ｓｉ）が金属間化合物として析出
するため、アルマ・イト処理後その部分が凹みの欠陥の
発生要因となる。母材合金の高純度化を図ることは製造
プロセス上至難に近く、さらにＡ１合金の場合耐食性清
浄度の面でも取りあつがいが問題となっている。またス
パッタリングウメツキによ°る薄膜磁気記録媒体形成の
場合、Ａ１合金と磁性膜の化学反応や拡散の問題が生じ
、さらに磁性膜の熱処理により基板の変形を伴い面振れ
加速度は４に昇する。
なお、Ａ１基板ＦにＳ ｉＯ７、Ａ Ｉ２０３等の酸化
物をスパッタリングにより形成する方法もあるが、Ａ１
７！ｉ板とスパッタ形成後の密着力が弱いという欠点が
ある。
物をスパッタリングにより形成する方法もあるが、Ａ１
７！ｉ板とスパッタ形成後の密着力が弱いという欠点が
ある。
般に磁気ディスク基板の加工の食合は、そのまま、磁気
ディスクのランアウト、加速度成分、磁気記録媒体の信
号エラー等に依存する。ところでＡ１合金の場合はメタ
ル材の為ビアカース硬度も１００程度（セラミックの場
合６００以上）であり、曲げ強度も１０００ｋｇ／ｃｒ
ｎ’ （セラミンクの場合４０００ｋｇ／ｃｒｎ’以」
−）であって、高密度記録になるに従−）てスクラッチ
、キズ、平坦度、うねりなどの形状精度もきびしくなっ
てきており加工は 層困難となってきている。砥粒加工
の際も砥粒がつめ込まれやすく欠陥となる。
ディスクのランアウト、加速度成分、磁気記録媒体の信
号エラー等に依存する。ところでＡ１合金の場合はメタ
ル材の為ビアカース硬度も１００程度（セラミックの場
合６００以上）であり、曲げ強度も１０００ｋｇ／ｃｒ
ｎ’ （セラミンクの場合４０００ｋｇ／ｃｒｎ’以」
−）であって、高密度記録になるに従−）てスクラッチ
、キズ、平坦度、うねりなどの形状精度もきびしくなっ
てきており加工は 層困難となってきている。砥粒加工
の際も砥粒がつめ込まれやすく欠陥となる。
またＡ１合金基板の場合、表面の耐食性、耐候性、汚染
を防ぐこと、旋削工程、ポリッシング−Ｃ程、保管の際
、清浄度、防錆、汚れ等、製造モ程上充分な配慮が必要
となっている。
を防ぐこと、旋削工程、ポリッシング−Ｃ程、保管の際
、清浄度、防錆、汚れ等、製造モ程上充分な配慮が必要
となっている。
本発明は、Ｌ述の諸欠点、問題を解消する新規な磁気デ
ィスク用基板（材料）を提供することを基本目的とし、
特に、従来高精度前］−の困難さのために用いることが
出来なかった結晶化ガラスを磁気ディスク用基板材料と
して有効に用いることを課題とする。
ィスク用基板（材料）を提供することを基本目的とし、
特に、従来高精度前］−の困難さのために用いることが
出来なかった結晶化ガラスを磁気ディスク用基板材料と
して有効に用いることを課題とする。
本発明は起重化カラス基板表面−Ｌに形成する被着磁性
膜の特性向上、信頼性を保障するために表面粗度を８Ｏ
Ａ以下に精密研摩什」、げをした磁気テ１７り用基板決
びその装造方法を特徴とする。
膜の特性向上、信頼性を保障するために表面粗度を８Ｏ
Ａ以下に精密研摩什」、げをした磁気テ１７り用基板決
びその装造方法を特徴とする。
すなわち、この発明によれば、単位体積当りの表面積が
１３０ ｍ’／ｇ以下で、形状が実質的に球状の粒径３
２０Ａ以下の無水アルミナ微粉末を純水中に懸濁させた
液を研摩液とし、該研摩液中で被研摩結晶化カラスとラ
ップ盤を対向させて、ラップ荷ＩＴ（０、１〜２ ｋｇ
／ｃｍ″を加えながら精密研摩することにより表面粗度
８０Ａ以下かつ無歪の表面層を有する磁気ディスク用結
晶化ガラス製基板が提供される。
１３０ ｍ’／ｇ以下で、形状が実質的に球状の粒径３
２０Ａ以下の無水アルミナ微粉末を純水中に懸濁させた
液を研摩液とし、該研摩液中で被研摩結晶化カラスとラ
ップ盤を対向させて、ラップ荷ＩＴ（０、１〜２ ｋｇ
／ｃｍ″を加えながら精密研摩することにより表面粗度
８０Ａ以下かつ無歪の表面層を有する磁気ディスク用結
晶化ガラス製基板が提供される。
結晶化ガラスＴＳ＆の場合は、Ａ１合金に比べ機械的強
度も強く砥粒加工での形状精度の管理も比較的容易とな
る。さらに耐食性、耐候性に特別配慮する必要もなく、
表面の汚染も絶縁薄膜をスパッタリングにより形成する
際スパッタクリーニングにより表面の清浄化を行うこと
ができる。
度も強く砥粒加工での形状精度の管理も比較的容易とな
る。さらに耐食性、耐候性に特別配慮する必要もなく、
表面の汚染も絶縁薄膜をスパッタリングにより形成する
際スパッタクリーニングにより表面の清浄化を行うこと
ができる。
またＡ１合金を旋削加工した際、表面には加工変質層が
残留しているのに対して結晶化ガラスの場合はメカノケ
ミカルポリッンゴ仕りげにより表面がバルクでの応力歪
の差異はなく５基板にコーティングされる媒体への歪の
転写はない今日結晶化ガラスが、Ａ１合金基板に比べ耐
熱性、耐ＪＩ！耗性、耐候性、絶縁性及び機械的強度の
すぐれていることより各種分野に広範囲の用途に使用さ
れるようになったが、基板表面に薄膜媒体処理の施され
る磁気ディスク用基板では、媒体の高密度化に伴って基
板表面の平滑性、無歪基板の必要性に迫まられている。
残留しているのに対して結晶化ガラスの場合はメカノケ
ミカルポリッンゴ仕りげにより表面がバルクでの応力歪
の差異はなく５基板にコーティングされる媒体への歪の
転写はない今日結晶化ガラスが、Ａ１合金基板に比べ耐
熱性、耐ＪＩ！耗性、耐候性、絶縁性及び機械的強度の
すぐれていることより各種分野に広範囲の用途に使用さ
れるようになったが、基板表面に薄膜媒体処理の施され
る磁気ディスク用基板では、媒体の高密度化に伴って基
板表面の平滑性、無歪基板の必要性に迫まられている。
磁気ディスク用基板に使用する場合は表面微細欠陥によ
るドロップアウトの発生や、ヘッドクラッシュ等、信頼
性を損うという問題があり、結晶化ガラスを磁気ディス
ク用基板として用いることには従来なお多くの克服すべ
き困難があった。
るドロップアウトの発生や、ヘッドクラッシュ等、信頼
性を損うという問題があり、結晶化ガラスを磁気ディス
ク用基板として用いることには従来なお多くの克服すべ
き困難があった。
従来、結晶化ガラスの精密研摩方法として、フォトマス
ク、レンズ等に適用されていた溶融型非晶質ガラス研摩
法が採用されていた。この研摩方法は、醸化セリウｌ、
やベンガラを砥粒とし、レンズ等の表面を５ｕＡ以下の
粗度に仕上げることができる。ところが、結晶化ガラス
に適用しても、材質が実質的に結晶化されているため、
研摩面に微細突起や四部が生威し、２５０Ａ程度の表面
粗度しか得られない問題があった。
ク、レンズ等に適用されていた溶融型非晶質ガラス研摩
法が採用されていた。この研摩方法は、醸化セリウｌ、
やベンガラを砥粒とし、レンズ等の表面を５ｕＡ以下の
粗度に仕上げることができる。ところが、結晶化ガラス
に適用しても、材質が実質的に結晶化されているため、
研摩面に微細突起や四部が生威し、２５０Ａ程度の表面
粗度しか得られない問題があった。
そのために、本発明溝等は、結晶化カラスの高精度人血
研摩の方法を開発し先に特許出願した（特願昭５８−１
５５１７６〜１５５１７８） 、本発明はさらにその方
法を磁気ディスク用基板の製造へ応用せんとするもので
ある。
研摩の方法を開発し先に特許出願した（特願昭５８−１
５５１７６〜１５５１７８） 、本発明はさらにその方
法を磁気ディスク用基板の製造へ応用せんとするもので
ある。
研摩対象の結晶化ガラスは、材質が実質的に（例えば２
０％以上）結晶化されたガラスで高強度、高硬度を有し
熱的、電気的に安定なものがよい。
０％以上）結晶化されたガラスで高強度、高硬度を有し
熱的、電気的に安定なものがよい。
このような条件を満たす結晶化ガラスは多数存在する。
析出結晶としては、β−ユークリプタイ）（Ｌｉ２０ｍ
Ａ１２０：ｌψ２ＳｉＯ，）、β−スポジウメン（Ｌｉ
、Ｏ”Ａｌ、Ｏ，書４Ｓｉ０、）、石英（Ｓｉ０２）、
メタ硅酸リチウム（Ｌｉｄ、 や５ｉＯ２）、Ｚ硅酸
リチウム（Ｌｉ２０・２３ｉＯ７）’、或いはこれらの
混合物を用いたものが最も一般的である。その他コージ
ェライト（２ＭｇＯ” ２Ａ ！、０３ ＠５Ｓ １ｏ
２）、ガーナイ） （ＺｎＯφＡ １２０３ ）、フッ
素金１母、アルカリケイ醸塩（Ｎａｎｏ・ＡＩ、Ｏ，・
２ＳｉＯ，等）がある。
Ａ１２０：ｌψ２ＳｉＯ，）、β−スポジウメン（Ｌｉ
、Ｏ”Ａｌ、Ｏ，書４Ｓｉ０、）、石英（Ｓｉ０２）、
メタ硅酸リチウム（Ｌｉｄ、 や５ｉＯ２）、Ｚ硅酸
リチウム（Ｌｉ２０・２３ｉＯ７）’、或いはこれらの
混合物を用いたものが最も一般的である。その他コージ
ェライト（２ＭｇＯ” ２Ａ ！、０３ ＠５Ｓ １ｏ
２）、ガーナイ） （ＺｎＯφＡ １２０３ ）、フッ
素金１母、アルカリケイ醸塩（Ｎａｎｏ・ＡＩ、Ｏ，・
２ＳｉＯ，等）がある。
結晶化のために核生成剤を用いるのが一般的であるが核
形成剤を用いないものもある。
形成剤を用いないものもある。
核生成剤としては、感光性金属（Ａｕ、Ａｇ。
Ｃｕ等）、貴金族（ＰＬ、Ｐｄ′Ｓ）、酸化、チタン、
酸化ジルコニウム、フッ化物（ＣａＦｅ等）、１移金属
化合物（０丁、Ｖ、Ｆｅ、Ｃｏ。
酸化ジルコニウム、フッ化物（ＣａＦｅ等）、１移金属
化合物（０丁、Ｖ、Ｆｅ、Ｃｏ。
Ｎｉ、Ｔｈ、Ｍｏ等の酸化物等）、燐酸化合物、ヒ素化
合物（Ｐ７０１．、Ａｓ２０ｊ等）、ｓｂ＃化物、Ｓｎ
酸化物等を用いたものがある。
合物（Ｐ７０１．、Ａｓ２０ｊ等）、ｓｂ＃化物、Ｓｎ
酸化物等を用いたものがある。
結晶化ガラスの熱膨張係数は凡そＯ〜１３０×１０’／
℃のものが得られるが、使用する磁性媒体とのマツチン
グを考慮して選択することがかなり広汎な範囲で可能で
あるという利点がある０例えばセンダストやパーマロイ
等の軟磁性薄膜には熱膨張係数の高いもの、セラミック
質の磁性媒体には対応して小さなもの、或いは温度変化
に伴なうディスクのトラック位置ズレを抑えるために低
膨張係数のものを選ぶ等の如く選択することが可能であ
る。
℃のものが得られるが、使用する磁性媒体とのマツチン
グを考慮して選択することがかなり広汎な範囲で可能で
あるという利点がある０例えばセンダストやパーマロイ
等の軟磁性薄膜には熱膨張係数の高いもの、セラミック
質の磁性媒体には対応して小さなもの、或いは温度変化
に伴なうディスクのトラック位置ズレを抑えるために低
膨張係数のものを選ぶ等の如く選択することが可能であ
る。
結晶化ガラスの好ましい例としては、５ｉ０２−Ｌｉ２
０（又はさらに−Ａ１２０３）系のもの（ざらにＣｅ、
Ａｇ等を含むもの）、Ｎａ、Ｏ系のもの等がある。結晶
粒度は微細なものがよく超精密研摩により無孔化できる
範囲に結晶化されたド）は好ましい、ディスクとしての
使用のためには、強陰は高い程よく、曲げ強度約１１］
００ｋｇ／ｃｒｎ’以」−が好ましい。
０（又はさらに−Ａ１２０３）系のもの（ざらにＣｅ、
Ａｇ等を含むもの）、Ｎａ、Ｏ系のもの等がある。結晶
粒度は微細なものがよく超精密研摩により無孔化できる
範囲に結晶化されたド）は好ましい、ディスクとしての
使用のためには、強陰は高い程よく、曲げ強度約１１］
００ｋｇ／ｃｒｎ’以」−が好ましい。
純水中に懸濁させる無水アルミナ微粉末は、粒径が３２
０Ａ以下の略球状のものであり、乾式製法により得られ
るが、その単位体積当りの表面積が１３０ｍ’／ｇを越
える場合、粒形状が不規則形状となり、ラップ時に研摩
面に対する切削・引掻作用が強く、得られる表面粗度が
劣化し、研摩面に微細突起、四部が発生し易くなるので
、単位体積当りの表面積は１３０ ｄ１ｇ以下とする。
０Ａ以下の略球状のものであり、乾式製法により得られ
るが、その単位体積当りの表面積が１３０ｍ’／ｇを越
える場合、粒形状が不規則形状となり、ラップ時に研摩
面に対する切削・引掻作用が強く、得られる表面粗度が
劣化し、研摩面に微細突起、四部が発生し易くなるので
、単位体積当りの表面積は１３０ ｄ１ｇ以下とする。
この発明に用いる無水アルミナ微粉末乾式製法により得
られるため、湿式装状による含水アルミナに比べ、活性
面積が１００％と大きいため、反応性に富み、加工効率
を向上させるケミカル効果が得られ、また、純度は８９
．８％以上となり微粉末による表面への汚染が少なく研
摩加工が安定する。
られるため、湿式装状による含水アルミナに比べ、活性
面積が１００％と大きいため、反応性に富み、加工効率
を向上させるケミカル効果が得られ、また、純度は８９
．８％以上となり微粉末による表面への汚染が少なく研
摩加工が安定する。
水溶液はＰ）（４〜５でシラノール基を呈し、ケミカル
効果が得られる。また、粉末形状が実質的に球状である
ため、研摩表面に対する切削、引掻作用が少なく、研摩
表面品位向１−に有効である。結晶化カラスの主成分で
ある５１０２は負に帯電しており、微粉末自体は正に帯
電するため、５１０２ と無水アルミナ粉末の懸濁液は
電界効果により、加ｆ二作用砥粒数が増加することにな
り、加工能率の増大と共に凝集効果により、加工単位は
数１ＯＡとな（さらには２ＯＡ以下のオーダーにまで）
に精密研摩することができると考えられる。
効果が得られる。また、粉末形状が実質的に球状である
ため、研摩表面に対する切削、引掻作用が少なく、研摩
表面品位向１−に有効である。結晶化カラスの主成分で
ある５１０２は負に帯電しており、微粉末自体は正に帯
電するため、５１０２ と無水アルミナ粉末の懸濁液は
電界効果により、加ｆ二作用砥粒数が増加することにな
り、加工能率の増大と共に凝集効果により、加工単位は
数１ＯＡとな（さらには２ＯＡ以下のオーダーにまで）
に精密研摩することができると考えられる。
また、無水アルミナ微粉末の粒径が３２ＯＡを越えると
、被研摩表面に疵を形成し、表面粗度を劣化させるので
好ましくない。
、被研摩表面に疵を形成し、表面粗度を劣化させるので
好ましくない。
研摩条件として、ランプ前用は、０．］ｋｇ／ｃｒｎ’
未満では所要の表面粗度が得られず、かつ加−［−能率
が低く、また、２．０ ｋｇ／ｃｒｎ’を越えると加［
効率の白、では＆ｆましいが、ラップ装置の大規模化に
伴なうコスト高と、研摩精度が悪化するので好ましくな
い。
未満では所要の表面粗度が得られず、かつ加−［−能率
が低く、また、２．０ ｋｇ／ｃｒｎ’を越えると加［
効率の白、では＆ｆましいが、ラップ装置の大規模化に
伴なうコスト高と、研摩精度が悪化するので好ましくな
い。
また、ラップ盤としては、Ｓｎ、 Ｐｂ、はんだ合金等
の軟質金属あるいはクロス等が最適である。
の軟質金属あるいはクロス等が最適である。
ラップ盤と被研摩材とは好ましくは相対回転して研摩す
る。ここに用いる「純水」とは、有機物の汚れを含有し
ないものでゴミ等（通例３０００Ａ以上のす・イズを右
する）を含まない水を称し、イオン交検水、蒸留水等で
よい。
る。ここに用いる「純水」とは、有機物の汚れを含有し
ないものでゴミ等（通例３０００Ａ以上のす・イズを右
する）を含まない水を称し、イオン交検水、蒸留水等で
よい。
〔好適な実施の態様〕
以下に、実施例を説明する。
被研摩結晶化ガラスには、ガラス寅基地中に約３０％の
結晶が晶出したフォトセラム（商品名、コーこング社製
造）を使用し、その試料は直径８０■ｍＸ２ｍｍ厚さで
、被研摩面粗度３００Ａであった。
結晶が晶出したフォトセラム（商品名、コーこング社製
造）を使用し、その試料は直径８０■ｍＸ２ｍｍ厚さで
、被研摩面粗度３００Ａであった。
研摩液は、単位体積当り表面積９０ｋｇ／ｃｒｎ’〜
１２０ｋｇ／ｃｒｎ’、粒径３００Ａの非晶質無水アル
ミナ微粉末を、純水中に１ｗｔ％分散させたｐＨ４の懸
濁液を使用した。
１２０ｋｇ／ｃｒｎ’、粒径３００Ａの非晶質無水アル
ミナ微粉末を、純水中に１ｗｔ％分散させたｐＨ４の懸
濁液を使用した。
加１機は両面ポリッシュ盤を用い、ポリラシャ−には、
８００■履φのＳｎ盤を用い、このポリラシャ−表面に
７オトセラムの被研削面を当接させ、回転数８Ｏｒｐｍ
、う、プ荷ｋ Ｏ，５ｋｇ／ｃｒｎ’、２ｋｇ／ｃｒ
ｎ’の荷重負荷の加工条件で、両者を相対的に回転させ
、研摩加工中、１００ｃｃ／ｈの割合で研摩液を連続滴
下しながら、３０分間研摩を実施した。
８００■履φのＳｎ盤を用い、このポリラシャ−表面に
７オトセラムの被研削面を当接させ、回転数８Ｏｒｐｍ
、う、プ荷ｋ Ｏ，５ｋｇ／ｃｒｎ’、２ｋｇ／ｃｒ
ｎ’の荷重負荷の加工条件で、両者を相対的に回転させ
、研摩加工中、１００ｃｃ／ｈの割合で研摩液を連続滴
下しながら、３０分間研摩を実施した。
また、比較のため、砥粒にＣｅＯ２を使用した研摩液の
場合（比較例Ｃ）、含水アルミナ微粉末を使用した研摩
液の場合（比較例Ｄ）及び本発明と同一の無水アルミナ
微粉末を使用した研摩液を用いて本発明条件外のラップ
荷重の場合（比較例Ｅ）の各種加工条件で研摩した。こ
の際の研摩条件並びに被研摩材料の表面粗度を測定し、
本発明方法で得られた表面粗度測定結果と共に、第１表
にホす。
場合（比較例Ｃ）、含水アルミナ微粉末を使用した研摩
液の場合（比較例Ｄ）及び本発明と同一の無水アルミナ
微粉末を使用した研摩液を用いて本発明条件外のラップ
荷重の場合（比較例Ｅ）の各種加工条件で研摩した。こ
の際の研摩条件並びに被研摩材料の表面粗度を測定し、
本発明方法で得られた表面粗度測定結果と共に、第１表
にホす。
被研摩面の表面粗度は、表面段差測定器（Ｔａｂｙｓｔ
ｅｐ装置、スタイラス、９．５４ ｍ、針圧７ ｍｇ）
を使用して測定し、表面部の突起及び凹部状態はノマル
スキー微分干渉顕微鏡を使用して測定した。
ｅｐ装置、スタイラス、９．５４ ｍ、針圧７ ｍｇ）
を使用して測定し、表面部の突起及び凹部状態はノマル
スキー微分干渉顕微鏡を使用して測定した。
第１表から明らかな如く、従来のガラス研摩方法による
比較例Ｃの場合は、結晶化ガラスに対しては３００Ａの
表面粗度しか得られず、また、含水アルミナ微粉末を使
用した場合は、粒形状が不規則で球状でなく、表面積が
大きく、切削や引掻き作用が大で表面粗度が劣化してお
り、さらに、本発明方法の研摩液を使用しても、ラップ
荷重が条件外であると、表面粗度は２００Ａ Ｌか得ら
れず、いずれの場合も、結晶化ガラスの精密研摩には不
適であるのに対し、本発明方法の場合は、結晶化ｆｒラ
ス痴而面ｊｌ＋廖髭め開催の皐ルがか（，２０Ａのすぐ
れた表面粗度が得られたことが分る。
比較例Ｃの場合は、結晶化ガラスに対しては３００Ａの
表面粗度しか得られず、また、含水アルミナ微粉末を使
用した場合は、粒形状が不規則で球状でなく、表面積が
大きく、切削や引掻き作用が大で表面粗度が劣化してお
り、さらに、本発明方法の研摩液を使用しても、ラップ
荷重が条件外であると、表面粗度は２００Ａ Ｌか得ら
れず、いずれの場合も、結晶化ガラスの精密研摩には不
適であるのに対し、本発明方法の場合は、結晶化ｆｒラ
ス痴而面ｊｌ＋廖髭め開催の皐ルがか（，２０Ａのすぐ
れた表面粗度が得られたことが分る。
ちなみに、本発明Ａと比較例Ｃの各々の被研摩面表面粗
度を測定し、第１図、第２図の２種のスケールでグラフ
に表示する。第１図に示す本発明による被研摩面は、第
２図の従来方法による被研摩面に対して著しく精密平坦
面を得られることが明白である。
度を測定し、第１図、第２図の２種のスケールでグラフ
に表示する。第１図に示す本発明による被研摩面は、第
２図の従来方法による被研摩面に対して著しく精密平坦
面を得られることが明白である。
（以下余白）
また、結晶化カラスを用いた磁気ディスク基板の表面粗
度は、８０Ａ以下であると同時に表面欠陥もなく、半径
方向の真直性は０．５μ腸、平面度１．５ ＃Ｌｍ 、
端面ダレはなくＡ１合金旋削加工した基板に比べ磁気デ
ィスクの形状精度も優れている。
度は、８０Ａ以下であると同時に表面欠陥もなく、半径
方向の真直性は０．５μ腸、平面度１．５ ＃Ｌｍ 、
端面ダレはなくＡ１合金旋削加工した基板に比べ磁気デ
ィスクの形状精度も優れている。
すなわち、本発明は磁気ディスク基板に結晶化ガラスを
用いたこと、及び結晶化ガラスの精密研摩方法により、
磁気ディスクの信１’ｌｔ＋、電磁変換特性及び歩留の
向りに極めて有効なことが分る。
用いたこと、及び結晶化ガラスの精密研摩方法により、
磁気ディスクの信１’ｌｔ＋、電磁変換特性及び歩留の
向りに極めて有効なことが分る。
第１図、第２図は、大々本発明の実施例、比較例の被研
摩面表面粗度の測定結果を各（ａ） 、 （ｂ）異った
スケールで示すグラフである。 出願人 注文特殊金属株武会社 代理人 弁理士 加 藤 朝 道 第１図 第２図
摩面表面粗度の測定結果を各（ａ） 、 （ｂ）異った
スケールで示すグラフである。 出願人 注文特殊金属株武会社 代理人 弁理士 加 藤 朝 道 第１図 第２図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ｌ）表面粗度８０Ａ以下且つ無歪の表面層を有する結晶
化ガラスから成る磁気ディスク用基板。 ２）単位体積ちりの表面積が１３０ｒｎ’／ｇ以下で形
状が実質的に球状の粒径３２０Ａ以下の無水アルミナ微
粉末を純水中に懸濁させた液を研摩液とし該研摩液を用
い、被研摩結晶化ガラスとラップ定盤を対向させて、ラ
ップ荷重０．１〜２ ｋｇ／ｐｒｒｆを加えながら精密
研摩して成る表面粗度８０Ａ以下且つ無歪の表面層を形
成することを特徴とする結晶化ガラス製磁気ディスク用
基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8565684A JPS60229234A (ja) | 1984-04-27 | 1984-04-27 | 磁気ディスク用基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8565684A JPS60229234A (ja) | 1984-04-27 | 1984-04-27 | 磁気ディスク用基板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60229234A true JPS60229234A (ja) | 1985-11-14 |
| JPH044656B2 JPH044656B2 (ja) | 1992-01-29 |
Family
ID=13864863
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8565684A Granted JPS60229234A (ja) | 1984-04-27 | 1984-04-27 | 磁気ディスク用基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60229234A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62120629A (ja) * | 1985-11-20 | 1987-06-01 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 磁気ディスク及びその製造方法 |
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| EP0729924A2 (en) * | 1993-05-19 | 1996-09-04 | Kabushiki Kaisha Ohara | Glass-ceramic for a magnetic disk substrate |
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-
1984
- 1984-04-27 JP JP8565684A patent/JPS60229234A/ja active Granted
Patent Citations (1)
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| JPS49122306A (ja) * | 1973-03-24 | 1974-11-22 |
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| US6548139B2 (en) | 1998-08-19 | 2003-04-15 | Hoya Corporation | Glass substrate for magnetic recording medium, magnetic recording medium, and method of manufacturing the same |
| US7606721B1 (en) | 2003-01-31 | 2009-10-20 | CDR Associates, LLC | Patient credit balance account analysis, overpayment reporting and recovery tools |
| US7835921B1 (en) | 2003-01-31 | 2010-11-16 | ASC Commercial Solutions, Inc. | Patient credit balance account analysis, overpayment reporting and recovery tools |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH044656B2 (ja) | 1992-01-29 |
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