JPH10241134A - 情報記録媒体用ガラス基板及びこれを用いた磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 磁気ヘッド等の低浮上走行に支障がなく、比
弾性率が大きくて強度に優れ、高速回転しても反りやブ
レが生じにくく、かつ、基板の薄板化に十分対応でき、
失透がないという情報記録媒体用ガラス基板及びこれを
用いた磁気記録媒体を得る。 【解決手段】 基板を構成するガラスとして、ＺｒＯ_２
等のガラスの原料成分の未溶解物による表面の突起の高
さが７μｍ以下であるガラスを用いること、基板を構成
するガラスとして、ＺｒＯ_２とＬｉ_２Ｏとを含有するア
ルミノシリケートガラスであって、ＺｒＯ_２の含有量が
０．６〜１．９モル％、Ｌｉ_２Ｏの含有量が６〜１４モ
ル％であるガラスを用いること、さらには、基板を構成
するガラスとして、ＴｉＯ_２を含有するアルミノシリケ
ートガラスであって、ＴｉＯ_２の含有量が０．２〜３．
０モル％、ＺｒＯ_２Ｏの含有量が２．８モル％以下であ
り、かつ、Ｂ_２Ｏ_３の含有量が０．９モル％以下である
化学強化用ガラスを用いることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスクや磁気
ディスク等の情報記録媒体の基板に用いる情報記録媒体
用ガラス基板及びこれを用いた磁気記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、高強度を要求される磁気記録媒体
用ガラス基板として、特開昭６４ー４２０２５号公報に
は、重量％で、ＳｉＯ_２を６５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３を
４〜９％、Ｂ_２Ｏ_３を５〜１０％、Ｎａ_２Ｏを５〜９．
５％、Ｋ_２Ｏを０〜３％、Ｌｉ_２Ｏを０〜０．５％、Ｂ
ａＯを３〜６％、ＺｎＯを０．５〜３％含むガラスから
なる磁気記録媒体用ガラス基板が開示されている。

【０００３】また、特開平５ー３２４３１号公報には、
重量％で、ＳｉＯ_２を６２〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３を５〜
１５％、Ｎａ_２Ｏを４〜１２％、Ｌｉ_２Ｏを４〜１０
％、ＺｒＯ_２を５．５〜１５％含み、Ｎａ_２Ｏ／ＺｒＯ
_２の重量比が０．５〜２．０であり、さらに、Ａｌ_２Ｏ
_３／ＺｒＯ_２の重量比が０．４〜２．５である化学強化
用ガラスを用いた情報記録媒体用ガラス基板が開示され
ている。

【０００４】さらに、特開平８ー４８５３７号公報に
は、重量％で、ＳｉＯ_２を５８〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３を
１３〜２２％、Ｎａ_２Ｏを５〜１２％、ＺｒＯ_２を２〜
５％含有する化学強化用ガラスが開示されている。

【０００５】近年、ディスクの小型化、情報記録の高密
度化に伴って、ヘッドの低浮上化や、ディスクの高速回
転化が進み、そのため、ディスクの強度や、ディスク表
面の表面精度が一層厳しく要求されてきており、今後こ
の要求は一層厳しくなる情勢にある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】このような情勢下、上
述した従来技術には以下の問題があった。

【０００７】まず、特開昭６４ー４２０２５号公報記載
の磁気記録媒体用ガラス基板では、ＺｒＯ_２を含まない
ため、イオン交換処理した場合、イオン交換速度が遅
く、十分な深さのイオン交換層（圧縮応力層とも呼ばれ
る）が得られにくく、また、破壊に対する強度が十分大
きいとはいえない。

【０００８】また、特開平５ー３２４３１号公報記載の
ガラス基板では、イオン交換しやすく深い圧縮層を形成
しやすいという利点はあるが、ＺｒＯ_２を多く含むた
め、ＺｒＯ_２が溶融しづらくなり、得られたガラスを研
磨してもガラス表面に生じたＺｒＯ_２の未溶解物の突起
を取り除くことができず、ガラス基板の表面に突起が残
留することがある。したがって、現状の情報記録媒体用
ガラス基板としては実用できるものの、今後、情報記録
媒体の高密度化が進むと対応できなくなる可能性があ
る。

【０００９】さらに、特開平８ー４８５３７号公報記載
のガラス基板では、ガラスの液相温度が高いばかりでな
く、液相温度での粘性が低いため、ダウンドロー成形や
プレス成形により溶融ガラスを板状に成形する際、失透
しやすいという問題がある。

【００１０】本発明は、上述の背景のもとでなされたも
のであり、ガラス原料成分の未溶解物による突起の高さ
を７μｍ以下にし、ガラスの組成中のＺｒＯ_２やＬｉＯ
２等の成分の含有量を選定することによって、優れたイ
オン交換性を有し、イオン交換によって得られた化学強
化ガラスに深い圧縮応力層を府よできると共に、強度に
優れ、さらに、表面に突起が形成されず、表面が平坦
で、しかも、液相温度でのガラスの粘性が高く、成形の
際、失透しにくい化学強化用ガラスからなる情報記録媒
体用ガラス基板及びこのガラス基板を用いた磁気記録媒
体を提供することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めの手段として、請求項１に記載の発明は、表面を含む
いずれかの部位に情報記録のための構造物または装置ま
たは物体を形成して情報記録媒体を構成するために用い
る情報記録媒体用ガラス基板において、該情報記録媒体
用ガラス基板を構成するガラスの原料成分の未溶解物に
よってガラスの表面に形成された突起物の高さが７μｍ
以下であることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板
である。

【００１２】請求項２記載の発明は、請求項１に記載の
情報記録媒体用ガラス基板において、前記ガラスの原料
成分の未溶解物がＺｒＯ_２であることを特徴とする情報
記録媒体用ガラス基板である。

【００１３】請求項３の発明は、請求項２に記載の情報
記録媒体用ガラス基板において、前記情報記録媒体用ガ
ラス基板に含有するＺｒＯ_２が２．８モル％以下である
ことを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板である。

【００１４】請求項４の発明は、表面を含むいずれかの
部位に情報記録のための構造物または装置または物体を
形成して情報記録媒体を構成するために用いる情報記録
媒体用ガラス基板において、該情報記録媒体用ガラス基
板を構成するガラスが、ＺｒＯ_２とＬｉ_２Ｏとを含有す
るアルミノシリケートガラスであって、ＺｒＯ_２の含有
量が０．６〜１．９モル％、Ｌｉ_２Ｏの含有量が６〜１
４モル％であるガラスからなることを特徴とする情報記
録媒体用ガラス基板である。

【００１５】請求項５の発明は、請求項４に記載の情報
記録媒体用ガラス基板において、該情報記録媒体用ガラ
ス基板を構成するガラスの液相温度が９２０℃以下であ
ることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板である。

【００１６】請求項６の発明は、請求項４に記載の情報
記録媒体用ガラス基板において、前記情報記録媒体用ガ
ラス基板を構成するガラスが、ＴｉＯ_２を含有するガラ
スであることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板で
ある。

【００１７】請求項７の発明は、表面を含むいずれかの
部位に情報記録のための構造物または装置または物体を
形成して情報記録媒体を構成するために用いる情報記録
媒体用ガラス基板において、該情報記録媒体用ガラス基
板を構成するガラスが、ＺｒＯ_２とＬｉ_２Ｏとを含有す
るアルミノシリケートガラスであって、ＺｒＯ_２を０．
６〜１．９モル％、含有し、Ｌｉ_２Ｏを液相温度での粘
性が２００００ポアズ以上になる量だけ含有するガラス
からなることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板で
ある。

【００１８】請求項８の発明は、表面を含むいずれかの
部位に情報記録のための構造物または装置または物体を
形成して情報記録媒体を構成するために用いる情報記録
媒体用ガラス基板において、該情報記録媒体用ガラス基
板を構成するガラスがＴｉＯ_２を含有するアルミノシリ
ケートガラスであって、ＴｉＯ_２の含有量が０．２〜
３．０モル％、ＺｒＯ_２Ｏの含有量が２．８モル％以下
であり、かつ、Ｂ_２Ｏ_３の含有量が０．９モル％以下で
ある化学強化用ガラスからなることを特徴とする情報記
録媒体用ガラス基板である。

【００１９】請求項９の発明は、請求項８に記載の情報
記録媒体用ガラス基板において、前記情報記録媒体用ガ
ラス基板を構成するガラスが、４００℃に保ったＫＮＯ
_３を６０重量％とＮａＮＯ_３を４０重量％とを含む混塩
の化学強化処理浴中に４時間浸漬したときに１００μｍ
を超える厚さの圧縮応力層を形成する化学強化用ガラス
からなることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板で
ある。

【００２０】請求項１０の発明は、請求項８に記載の情
報記録媒体用ガラス基板において、該情報記録媒体用ガ
ラス基板は、比弾性率が３２．０×１０^６Ｎｍ／ｋｇ以
上であるガラスからなることを特徴とする情報記録媒体
用ガラス基板である。

【００２１】請求項１１の発明は、請求項１、４、５、
８のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板におい
て、該情報記録媒体用ガラス基板を構成するガラスが、
ＳｉＯ_２を５７〜７４モル％、Ａｌ_２Ｏ_３を３〜１５モ
ル％、Ｎａ_２Ｏを４〜１４モル％含有するガラスからな
ることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板である。

【００２２】請求項１２の発明は、請求項１、４、５、
８のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板におい
て、該情報記録媒体用ガラス基板を構成するガラスが、
ＳｉＯ_２／ＺｒＯ_２のモル比が３５〜１３０であるガラ
スからなることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板
である。

【００２３】請求項１３の発明は請求項１〜１２のいず
れかに記載の情報記録媒体用ガラス基板の表面に磁性層
を含む磁気記録層を形成してなる磁気記録媒体である。

【００２４】請求項１の発明において、ガラス表面の突
起高さを７μｍ以下としたが、これは、７μｍを超える
と、例えば、このガラス基板を磁気記録媒体の基板とし
て用いた場合、磁気ヘッドと磁気記録媒体とのスペーシ
ングロスが大きくなり、磁気記録密度を大きくできなく
なるためである。同様の観点から、突起高さは、好まし
くは５μｍ以下、さらに好ましくは３μｍ以下とするの
がよい。

【００２５】本発明では、ガラスの表面粗さ（Ｒｍａ
ｘ）は、１０．０オングストローム以下が好ましい。よ
り好ましくは、８．０オングストローム以下、さらに好
ましくは６．０オングストロームとするのがよい。

【００２６】請求項２，３の発明において、ＺｒＯ_２は
特に突起高さと関係がある。ＺｒＯ_２の含有量は、突起
高さが７μｍ以下、好ましくは５μｍ以下、さらに好ま
しくは３μｍ以下となるような含有量にする。ＺｒＯ_２
の含有量が２．８モル％を超えると、ＺｒＯ_２による未
溶解物の突起が形成され、研磨してもこれを取り除くこ
とが難しいために、ガラス基板表面緒突起高さを適正値
に収められなくなるおそれがある。したがって、ＺｒＯ
_２の含有量は２．８モル％以下が好ましい。同様の理由
から、２．４モル％以下、さらには１．９モル％以下が
望ましい。

【００２７】請求項４，５，６，７の発明において、主
としてＺｒＯ_２、ＬｉＯ_２の含有量等を所定範囲にする
ことにより、ＺｒＯ_２の未溶解物の突起がガラス基板緒
表面に形成されず、平坦な表面のガラス基板が得られ
る。しかもイオン交換性も十分確保されるからイオン交
換よって得られた化学強化ガラスに深い圧縮応力層を付
与できると共に、高い強度が得られ、また、液相温度で
の粘性も低くできる。ＺｒＯ_２の含有量が１．９モル％
を超えると、ＺｒＯ_２が完全には溶融しずらくなり、得
られたガラスを研磨してもガラス表面のＺｒＯ_２の未溶
解物の突起が残留することがあり、情報記録媒体用ガラ
ス基板として十分な平坦性が得られにくくなる。したが
って、ＺｒＯ_２の含有量は１．９モル％以下が好まし
い。同様の理由から、１．７モル％以下、さらには１．
５モル％以下が望ましい。一方、ＺｒＯ_２は、イオン交
換性を高める効果があるため、圧縮応力層が厚くなり、
抗折強度が向上し、さらにヌープ硬さも大きくなるた
め、０．６モル％以上含有させる必要がある。同様の理
由から、ＺｒＯ_２の含有量の下限は０．８モル％、より
好ましくは１．０モル％である。

【００２８】また、ＬｉＯ_２は、ガラス表層部でイオン
交換処理浴中の主としてＮａイオンとイオン交換される
ことによってガラスを化学強化するための必須成分であ
るが、６モル％未満ではこのイオン交換性能が低下し、
１６モル％を超えると耐失透性と化学的耐久性が共に悪
化すると共に、液相温度が上昇する。したがって、Ｌｉ
Ｏ２の含有量は、６〜１６モル％とする必要がある。好
ましくは８〜１５モル％、より好ましくは９〜１４モル
％がよい。

【００２９】さらに、請求項６の発明のように、ＴｉＯ
_２を含有させると、比重を極度に大きくさせずに、ヤン
グ率を大きくすることができ、その結果、比弾性率の値
を大きくすることができる。さらに、溶融粘度を低く
し、溶融温度を下げ、また、イオン交換速度を高めイオ
ン交換しやすくするといった作用もある。

【００３０】請求項８の発明においては、ＴｉＯ_２の含
有量を０．２〜３．０モル％とする。ＴｉＯ_２は、比重
を極度に大きくさせずに、ヤング率を大きくすることが
でき、その結果、比弾性率の値を大きくすることができ
る。さらに、溶融粘度を低くし、溶融温度を下げ、ま
た、イオン交換速度を高めイオン交換しやすくするとい
った作用もある。

【００３１】しかし、ＴｉＯ_２の含有量が０．２モル％
未満ではこれらの効果が小さくなるためＴｉＯ_２の含有
量の下限は０．２モル％に限定される。好ましい下限は
０．３モル％、さらに好ましい下限は０．４モル％であ
る。一方、ＴｉＯ_２の含有量が３．０モル％を超える
と、失透しやすくなる。したがって、ＴｉＯ_２の含有量
の上限は３．０モル％に限定される。好ましい上限は
２．８モル％、さらに好ましい上限は２．６モル％であ
る。

【００３２】また、請求項８の発明において、Ｂ_２Ｏ_３
は、粘性を下げ、溶融性を向上させるなどの効果がある
が、イオン交換を妨げ、形成される圧縮応力層が深くな
るのを妨げるため、有意量含有させないことが好まし
い。したがって、Ｂ_２Ｏ_３の含有量は、０．９、モル％
以下、好ましくは０．７モル％以下、さらに好ましくは
０．５モル％以下がよい。

【００３３】さらに、Ｂ_２Ｏ_３の含有量は、４００℃に
保ったＫＮＯ_３を６０％とＮａＮＯ３を４０％とを含む
混塩の化学強化処理浴中に４時間浸漬したときに１００
μｍを超える厚さの圧縮応力層を形成する量に限定でき
る。

【００３４】本発明の情報記録媒体用ガラス基板にあっ
ては、ＳｉＯ_２は、ガラスの骨格を形成する主成分であ
り、５７モル％未満であると、化学的耐久性が悪化し、
７４モル％を超えると、溶融温度が高くなりすぎる。し
たがって、ＳｉＯ_２の含有量は、５７〜７４モル％が好
ましく、より好ましくは６０〜７２モル％、さらに好ま
しくは６３〜７０モル％がよい（請求項１１の発明）。

【００３５】また、Ａｌ_２Ｏ_３は、ガラス表面のイオン
交換性能を向上させるために含有させるが、３モル％未
満であるとこの効果が低下すると共に、化学的耐久性が
悪化し１５モル％を超えると耐失透性が悪化する。した
がって、Ａｌ_２Ｏ_３の含有量は、３〜１５モル％、特に
好ましくは５〜１４モル％、より好ましくは７〜１３モ
ル％がよい。

【００３６】さらに、Ｎａ_２Ｏは、溶融温度を下げる成
分であり、また、ガラス表層部でイオン交換処理浴中の
イオンとイオン交換されることによって、ガラスを化学
強化するための必須の成分であるが、４モル％未満では
このイオン交換速度が遅くなり、深い圧縮応力層が得に
くくなると共に、耐失透性が悪化し、１４モル％を超え
ると化学的耐久性が悪化すると共に、ヌープ硬さが小さ
くなる。したがって、Ｎａ２Ｏの含有量は４〜１４モル
％であり、好ましくは５〜１３モル％、さらに好ましく
は、６〜１２モル％がよい。

【００３７】また、本発明の情報記録媒体用ガラス基板
にあっては、ＳｉＯ_２／ＺｒＯ_２のモル比は、３５〜１
３０であることが好ましい。その理由は、モル比が３５
未満であると、ガラスが不安定になると共に、得られた
ガラスを研磨しても情報記録媒体用ガラス基板としての
十分な平坦性が得にくくなる傾向があり、一方、１３０
を超えると、ヌープ硬さが低くなり、強度が低下する傾
向があるためである。同様の理由からＳｉＯ_２／ＺｒＯ
_２のモル比の特に好ましい範囲は、４０〜１１５、より
好ましくは、５０〜１０５である。（請求項１２の発
明）。

【００３８】なお、上述の化学強化用ガラスは、以上説
明した成分の他に、ガラスの特性を損なわない範囲で、
ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯ、Ｌａ
_２Ｏ_３、Ａｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３、ＣｏＯ、Ｆｅ
_２Ｏ_３、Ｃｒ_２Ｏ_３、ＮｉＯ、Ｓｅ、Ｆ、Ｃｌ等を含有
させることができる。

【００３９】本発明の情報記録媒体用ガラス基板の製造
方法は特に制限されないが、例えば、、ガラスの組成が
上述した範囲に入るように調合したガラス原料を、１４
００〜１５００℃で、５〜８時間加熱溶融し、この溶融
ガラスを清澄後、周知のプレス成形やダウンドロー成
形、フロート成形などの方法によって板状に成形し、そ
の後、研削、研磨等の加工を施すことによって、所望の
形状の情報記録媒体用ガラス基板を製造できる。

【００４０】なお、研削、研磨の工程は、通常、大きく
分けて、（１）荒ずり（粗研削）、（２）砂掛け（精研
削、ラッピング）、（３）第一研磨（ポリッシュ）、
（４）第二研磨（ファイナル研磨、ポリッシュ）の各工
程からなる。これらの精密研磨工程とガラス組成との相
乗効果によって、ガラス表面の突起の高さが７μｍ以下
である情報記録媒体用ガラス基板を得ることが可能とな
る。

【００４１】本発明の好ましい組成範囲の情報記録媒体
用ガラス基板は、８０ＧＰａ以上のヤング率、３２×１
０^６Ｎｍ／ｋｇ以上の比弾性率、５．５ＧＰａ以上のヌ
ープ硬さを有する。このような高い強度のため、基板を
高速回転しても基板に反りやブレが生じにくく、より基
板の薄膜化に対応できる。

【００４２】また、本発明の情報記録媒体用ガラス基板
は、４７０〜５３０℃のガラス転移点を有する。この特
性は、次の点で有利である。すなわち、情報記録媒体用
ガラス基板上に磁性膜を形成した場合に、保持力等の特
性を向上させるために熱処理を行なうことがあるが、ガ
ラス転移点が４７０℃未満ではこの熱処理に耐え難く、
また、イオン交換処理浴に浸漬した際にガラスが変形し
やすくなる。逆にガラス転移点が５３０℃を超えた場合
には、イオン交換に時間がかかりすぎ、実用的でない。

【００４３】また、本発明の情報記録媒体用ガラス基板
は、ｐＨ６．５〜７．５であって、約１００℃の純水に
６０分間浸漬したときの重量減量率が０．１ｗｔ％以下
であり、０．０１Ｎの濃度で約１００℃の硝酸水溶液に
６０分間浸漬したときの重量減量率が０．１ｗｔ％以下
である。したがって、耐水性や耐酸性等の化学的耐久性
に優れる。

【００４４】本発明の情報記録媒体用ガラス基板は、優
れたイオン交換性を有し、イオン交換によって得られた
化学強化ガラスに深い圧縮応力層を付与できると共に、
この圧縮応力層に基づく高い抗折強度及び高いヌープ硬
さを付与できる。したがって、本発明の組成の情報記録
媒体用ガラス基板は、優れた耐破壊性を有する。

【００４５】具体的には、例えば、４００℃に保ったＫ
ＮＯ_３を６０％とＮａＮＯ_３を４０％含む混塩の処理浴
中に４時間浸漬したときに１００μｍを超える厚さの圧
縮応力層を得ることができる。

【００４６】化学強化は、例えば、化学強化用ガラス
を、Ｎａイオン及び／又はＫイオンを含有する処理浴で
イオン交換処理して行われる。ここで、Ｎａイオン及び
／又はＫイオンを含有する処理浴としては、硝酸ナトリ
ウム及び／又は硝酸カリウムを含有する処理浴を用いる
ことが好ましいが、硝酸塩に限定されるものではなく、
硫酸塩、重硫酸塩、重硝酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、ハロ
ゲン化物等を用いてもよい。

【００４７】処理浴がＮａイオンを含む場合には、この
Ｎａイオンがガラス中のＬｉイオンと交換する。また、
処理浴がＫイオンを含む場合には、このＫイオンがガラ
ス中のＮａイオンと交換する。さらに、処理浴がＮａイ
オン及びＫイオンを含有する場合には、これらのＮａイ
オン及びＫイオンをガラス中のＬｉイオン及びＮａイオ
ンとイオン交換する。このイオン交換により、ガラスの
表層部のアルカリ金属イオンが、よりイオン半径の大き
なアルカリ金属イオンに置き換わり、ガラス表層部に圧
縮応力層が形成されてガラスが化学強化される。

【００４８】本発明では、必要に応じてガラス基板主表
面にエッチング処理や成膜あるいはレーザ光の照射若し
くは紫外線照射などの手段で凹凸を付け、テクスチャリ
ング処理を施してもよい。具体的には、ガラス基板表面
をフッ化水素酸と硝酸との混合液よりなるエッチング液
で湿式エッチングしてガラス表面に凹凸を付け、テクス
チャリング処理を施すことができる。また、ガラス基板
の表面に、アルミニウム等の凹凸膜を設けることによっ
てガラス表面にテクスチャリング処理を施すことができ
る。

【００４９】次に、本発明の磁気記録媒体について説明
する。本発明の磁気記録媒体は、上述した本発明の情報
記録媒体用ガラス基板の主表面に、少なくとも磁性層を
形成したものである。ここで、主表面とは、磁気記録媒
体用ガラス基板の両面のうち磁性層が形成される面を指
し、片面あるいは両面を指す。

【００５０】磁性層以外の層としては、機能面から、下
地層、保護層、潤滑層、凹凸制御層などが挙げられ、必
要に応じて形成される。これらの各層の形成には各種の
薄膜形成技術が利用される。

【００５１】下地層としては、例えば、、Ｃｒ、Ｍｏ、
Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｖ、Ｂ、Ａｌなどの中から選ばれる少
なくとも一種以上の非磁性金属材料又はそれらの金属の
酸化物、窒化物、炭化物等からなる薄膜が用いられる。
下地層は、単層とは限らず、同一又は異種の層を積層し
た複数層構造とすることもできる。例えば、Ａｌ／Ｃｒ
／ＣｒＭｏ、Ａｌ／Ｃｒ／Ｃｒ等の多層下地層としても
よい。

【００５２】なお、磁気記録媒体における下地層は、磁
性層に応じて選択される。例えば、Ｃｏを主成分とする
磁性層の場合には、磁気特性向上の観点からＣｒ単体や
Ｃｒ合金の下地層を選択することが望ましい。

【００５３】本発明では、ガラス基板と磁性層との間又
は磁性層の上部に、磁気ヘッドと磁気記録媒体が吸着す
ることを防止するための凹凸制御層を設けてもよい。こ
の凹凸制御層を設けることによって、磁気記録媒体の表
面粗さは適度に調整されるので、磁気ヘッドと磁気記録
媒体が吸着することがなくなり、信頼性の高い磁気記録
媒体が得られる。

【００５４】凹凸制御層の材質及び形成方法は多種知ら
れており、特に制限されないが、上述した本発明の情報
記録媒体用ガラス基板の融点よりも高い融点等を有する
非磁性金属材料等を用いることが望ましい。このような
凹凸制御層の材質としては、例えば、Ａｌ、Ａｇ、Ｔ
ｉ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｂｉ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ａ
ｕ、Ｓｎ、Ｐｄ、Ｓｂ、Ｇｅ、Ｍｇなどから選ばれる少
なくとも一種以上の金属又はそれらの合金あるいはそれ
らの酸化物、窒化物、炭化物等が挙げられる。凹凸制御
層の材質としては、形成が容易で効果があがるという観
点からは、Ａｌ単体やＡｌ合金、又は、酸化Ａｌ、窒化
ＡｌといったＡｌを主成分とする金属であることが望ま
しい。

【００５５】また、ヘッドスティクションを考慮する
と、凹凸制御層の表面粗さは、Ｒｍａｘ＝５０〜３００
オングストロームであることが望ましい。より好ましい
範囲はＲｍａｘ＝１００〜２００オングストロームであ
る。Ｒｍａｘが５０オングストローム未満の場合、磁気
記録媒体表面が平坦に近いため、磁気ヘッドと磁気記録
媒体が吸着し、磁気ヘッドや磁気記録媒体が傷ついてし
まったり、吸着によるヘッドクラッシュを起こすので好
ましくない。また、Ｒｍａｘが３００オングストローム
を超える場合、グライド高さ（グライドハイト）が大き
くなり、記録密度の低下を招くので好ましくない。

【００５６】磁性層の材料は特に制限されない。磁性層
としては、例えば、Ｃｏ系の他、フェライト系、鉄ー希
土類系などが挙げられる。磁性層は、水平磁気記録、垂
直磁気記録のいずれの磁性層でもよい。

【００５７】Ｃｏ系磁性層としては、具体的には、例え
ば、ＣｏＰｔ、ＣｏＣｒ、ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＣｒ、Ｃ
ｏＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒや、ＣｏＮｉＣｒＰｔ、Ｃｏ
ＮｉＣｒＴａ、ＣｏＣｒＰｔＴａ、ＣｏＣｒＰｔＳｉＯ
などの磁性薄膜等が挙げられる。また、磁性層を非磁性
中間層で分離してノイズの低減を図った多層構成（例え
ば、ＣｏＰｔＣｒ／ＣｒＭｏ／ＣｏＰｔＣｒなど）とし
てもよい。

【００５８】なお、磁気記録媒体を製造する際に、ガラ
ス基板の主表面に磁性層を形成した後、磁性層をガラス
転移点より低い温度でか熱処理することができる。これ
は、磁性層の種類によっては、加熱処理することで磁気
特性の向上が図られるためである。この加熱処理は、磁
性層を形成する際又は磁性層形成以後であって、保護層
や潤滑層の特性に影響を与えない温度であれば、いずれ
の段階で加熱処理を行なってもよい。磁気特性を向上さ
せるために必要な加熱処理温度は磁性層によって異な
り、適宜選択される。

【００５９】保護層としては、例えば、Ｃｒ膜、Ｃｒ合
金膜、炭素膜、ジルコニア膜、シリカ膜等が挙げられ
る。これらの保護膜は、下地層、磁性層等と共にインラ
イン型スパッタ装置で連続して形成できる。また、これ
らの保護膜は、単層としてもよく、あるいは、同一又は
異種の膜からなる多層構成としてもよい。

【００６０】上記保護層上に、あるいは、上記保護層に
替えて他の保護層を形成してもよい。例えば、上記保護
層上にテトラアルコシキランをアルコール系の溶媒で希
釈した中に、コロイダルシリカ微粒子を分散して塗布
し、さらに、焼成して酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）膜を形成
してもよい。この場合は、保護層と凹凸制御層（コロイ
ダルシリカ微粒子による）の両方の機能を果たす。

【００６１】潤滑層としては、多種多様な提案がなされ
ているが、一般的には、液体潤滑剤であるパーフロロポ
リエーテル（ＰＦＰＥ）をフレオン系などの溶媒で希釈
し、媒体表面にディッピング法、スピンコート法、スプ
レイ法等によって塗布し、必要に応じて加熱処理を行な
って形成する。

【００６２】なお、本発明の情報記録媒体用ガラス基板
は、各種強度（機械的特性）、耐破壊性、平坦性、化学
的耐久性等に優れているので、磁気記録媒体用ガラス基
板、光磁気記録媒体用ガラス基板、光記録媒体用ガラス
基板などの情報記録媒体用ガラス基板や、電子光学用ガ
ラス基板、次世代ＬＣＤとして期待される低温多結晶シ
リコン液晶表示装置用のガラス基板、あるいは、電気・
電子部品用ガラス基板としても用いることができる。

【００６３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を具体
的に説明する。情報記録媒体用ガラス基板の製造 （実施例１〜１５）図１ないし図３の表に掲げた組成を
有する情報記録媒体用ガラス基板を製造し、これを実施
例１〜１５とした。なお、各実施例では、いずれも、原
料として通常使用される酸化物、窒化物、炭酸塩、硝酸
塩、水酸化物等を使用し、溶解徐冷後における組成が図
１〜３に示すガラス組成となるように各原料を各実施例
毎に秤量し、得られた原料混合物を１４００〜１５００
℃で５〜８時間加熱してガラス融液とし、攪拌して脱泡
及び均質化を行ない、清澄化し、しかる後にダウンドロ
ー成形又はプレス成形により板状に成形した。なお、そ
の際、失透等はなかった。

【００６４】次いで、上記得た板状のガラスの表面を水
洗浄し、以下の（１）荒ずり（粗研削）、（２）砂掛け
（精研削、ラッピング）、（３）第一研磨（ポリッシ
ュ）、（４）第二研磨（ファイナル研磨、ポリッシュ）
の各工程を行なった。

【００６５】（１）荒ずり工程 まず、上記で得た板状のガラスから研削砥石で円盤状に
切り出し、比較的粗いダイヤモンド砥石で研削加工し、
直径６７ｍｍ、厚さ１．５ｍｍのディスク状ガラス基板
を形成した。

【００６６】次に、上記砥石より粒度の細かいダイヤモ
ンド砥石で上記ガラス基板の両面を片面ずつ研削加工し
た。このときの荷重は１００ｋｇ程度とした。これによ
り、ガラス基板両面の表面粗さをＲｍａｘ（ＪＩＳＢ０
６０１で測定）で１０μｍ程度に仕上げた。

【００６７】次に、円盤状の砥石を用いてガラス基板の
中央部分に孔を開けると共に、外周端面も研削し、直径
を６６ｍｍとした後、外周端面及び内周面に所定の面取
り加工を施した。

【００６８】（２）砂掛け（ラピング）工程 次に、ガラス基板に砂掛け加工を施した。この砂掛け工
程は、寸法精度及び形状精度の向上を目的としている。
砂掛け加工は、ラッピング装置を用いて行ない、砥粒の
粒度を＃４００、＃１０００と替えて２回行なった。詳
しくは、はじめに粒度＃４００のアルミナ砥粒を用い、
荷重を１００ｋｇ程度に設定し、内転ギアと外転ギアと
を回転させることによって、キャリア内に収納したガラ
ス基板の両面を面精度０〜１μｍ、表面粗さ（Ｒｍａ
ｘ）６μｍ程度にラッピングした。次いで、アルミナ砥
粒の粒度を＃１０００に替えてラッピングを行い、表面
粗さ（Ｒｍａｘ）を２μｍ程度にした。こうして砂掛け
加工を終えたガラス基板を、中性洗剤及び水の各洗浄槽
に順次浸漬して洗浄を行なった。

【００６９】（３）第一研磨（ポリッシュ）工程 次に、第一研磨工程を施した。この第一研磨工程は、上
述した砂掛け工程で残留したキズや歪みの除去を目的と
するもので、研磨装置を用いて行なった。詳しくは、ポ
リシャ（研磨粉）として硬質ポリシャ（セリウムパッド
ＭＨＣ１５；スピーファム社製）を用い、以下の研磨条
件で第一研磨工程を実施した。

【００７０】 研磨液：酸化セリウム＋水 荷重：３００ｇ／ｃｍ^２（Ｌ＝２３８ｋｇ） 研磨時間：１５分 除去量：３０μｍ 下定盤回転数：４０ｒｐｍ 上定盤回転数：３５ｒｐｍ 内ギア回転数：１４ｒｐｍ 外ギア回転数：２９ｒｐｍ 上記第一研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、純
水、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ
（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬して洗浄した。

【００７１】（４）第二研磨工程 次に、第一研磨工程で使用した研磨装置を用い、ポリシ
ャを硬質ポリシャから軟質ポリシャ（ポリラックス；ス
ピードファム社製）に替えて第二研磨工程を実施した。
研磨条件は、荷重を１００ｇ／ｃｍ^２、研磨時間を５
分、除去量を５μｍとした他は第一研磨工程と同じにし
た。上記第二研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗
剤、中性洗剤、純水、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアル
コール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬し
て洗浄した。なお、各洗浄槽には超音波を印加した。

【００７２】以上の研削・研磨工程を経て、外形６６ｍ
ｍ、中心部の孔径２０ｍｍ、厚さ０．５ｍｍの円板状の
情報記録媒体用ガラス基板を得た。

【００７３】得られた情報記録媒体用ガラス基板を、４
００℃に保ったＫＮＯ_３を６０％とＮａＮＯ_３を４０％
含む混塩の処理浴中に４時間浸漬して、イオン交換処理
を行ない、化学強化した。

【００７４】得られた情報記録媒体用ガラス基板のヌー
プ硬さ、ヤング率、比弾性率、圧縮応力の厚さ、抗折強
度、耐酸性、耐水性、ガラス転移点、比重、膨脹係数、
突起高さ、表面粗さ（Ｒａ）、液相温度での粘性の各測
定結果を図１（実施例１〜５）、図２（実施例６〜１
１）及び図３（実施例１２〜１５、比較例１）にそれぞ
れ示した。

【００７５】図１〜図３からも明らかなように、実施例
１〜１５のガラス基板は、ヤング率ヌープ硬さ糖の値が
大きく（８０ＧＰａ以上のヤング率、５．５ＧＰａ以上
のヌープ硬さ）強度が高いことがわかる。特に、ＺｒＯ
２を含んだ実施例が優れている。また、これらの実施例
は比弾性率の値が大きく、ディスクの高速回転時にもブ
レが生じにくいことが確認されている。

【００７６】また、実施例１〜１５のガラス基板は、耐
水性に優れ（ｐＨ６．５〜７．５、約１００℃の純水に
６０分間浸漬したときの重量減量率が０．１ｗｔ％以
下）、耐酸性にも優れている（０．０１Ｎの濃度で約１
００℃の硝酸水溶液に６０分間浸漬した時の重量減量率
が０．１ｗｔ％以下）ことがわかる。

【００７７】さらに、イオン交換による化学強化によっ
て、１３０μｍ以上の厚さの圧縮応力層を形成すること
ができ、この圧縮応力層に基づく抗折強度も８５ｋｇｆ
／ｍｍ^２以上と高く、優れた耐破壊性を有することがわ
かる。

【００７８】このように、本発明の情報記録媒体用ガラ
ス基板（実施例１〜１５）は、高い強度を有し、ディス
ク状基板を高速回転させても基板に反りやブレが生じに
くく、基板の薄板化に対しても十分に対応できる。これ
に対して、実施例１の組成からＴｉＯ_２を除いた比較例
１では、ヤング率、比弾性率が実施例に比較して劣るこ
とがわかる。

【００７９】また、本発明の情報記録媒体用ガラス基板
は、ＺｒＯ_２の未溶解物等からなる基板表面の突起の高
さがいずれも１．０７μｍ以下であって、平坦性に優れ
ているので、磁気ヘッドと磁気記録媒体とのスペーシン
グロスを小さくでき、高記録密度化を図ることができ、
磁気記録媒体用ガラス基板等として好適に使用できる。

【００８０】さらに、本発明の情報記録媒体用ガラス基
板は、液相温度が８９５℃以下と低いばかりでなく、液
相温度での粘性が２３０００ｐｏｉｓｅ以上と高く、ダ
ウンドロー成形やプレス成形等の成形方法でもガラスを
失透させずに成形することが可能である。なお、液相温
度は、６００〜１１００℃の温度勾配のついた失透試験
炉に１．５〜２ｍｍ径のガラス粒を２時間保持し、その
後、倍率１００倍の顕微鏡により結晶の有無を観察し、
結晶が存在する温度と存在しない温度との境目を液相温
度とした。

【００８１】また、本発明の情報記録媒体用ガラス基板
は、４７０〜５３０℃のガラス転移点を有し、耐熱性の
点でも問題がないことがわかる。

【００８２】なお、ヌープ硬さは、日本光学硝子工業会
測定規格ＪＯＧＩＳー０９に基づき測定した。また、圧
縮応力層の深さ及び抗折強度は、実施例で得たガラス基
板から０．４ｍｍの薄片を切り出し、偏光顕微鏡を使用
して測定した。耐水性及び耐酸性は、日本光学硝子工業
会測定規格ＪＯＧＩＳー０６に基づき測定した。

【００８３】磁気記録媒体の製造 実施例１〜１５で得られた情報記録媒体用ガラス基板上
に、順次、凹凸制御層、下地層、磁性層、保護層、潤滑
層を形成した。具体的には、実施例で得られた情報記録
媒体用ガラス基板を基板ホルダーにセットした後、イン
ラインスパッタ装置の仕込み室に送り込む。続いて、ガ
ラス基板のセットされたホルダーを、Ａｌターゲットが
設置された第一チャンバーに送り込み、圧力４ｍｔｏｒ
ｒ、基板温度３５０℃、Ａｒ＋Ｎ_２ガス（Ｎ_２＝４％）
雰囲気中でスパッタリングする。その結果、ガラス基板
上に、表面粗さＲｍａｘ＝１５０オングストローム、膜
厚５０オングストロームのＡｌＮ薄膜（凹凸制御層）が
得られた。

【００８４】次に、ＡｌＮが成膜されたガラス基板のセ
ットされたホルダーを、ＣｒＶ（Ｃｒ：８３ａｔ％、
Ｖ：１７ａｔ％）ターゲットが設置された第二チャンバ
ー、ＣｏＰｔＣｒ（Ｃｏ：７６ａｔ％、Ｐｔ：１１ａｔ
％、Ｃｒ：１３ａｔ％）ターゲットが設置された第三チ
ャンバーに連続的に順次送り込み、基板上に成膜する。
これらの膜は、圧力２ｍｔｏｒｒ、基板温度３５０℃、
Ａｒ雰囲気中でスパッタリングし、膜厚約６００オング
ストロームのＣｒＶ下地層、膜厚約３００オングストロ
ームのＣｏＰｔＣｒ磁性層を得た。

【００８５】次に、凹凸制御層、下地層、磁性層が形成
された積層体を、加熱処理するために加熱ヒータが設け
られた第四チャンバーに送り込む。このとき、第四チャ
ンバー内をＡｒガス（圧力２ｍｔｏｒｒ）雰囲気にし、
４５０℃で熱処理する。

【００８６】次に、上記基板をカーボンターゲットが設
置された第五チャンバーに送り込み、Ａｒ＋Ｈ_２ガス
（Ｈ_２＝６％）雰囲気中で成膜したこと以外は上記Ｃｒ
Ｖ下地層及びＣｏＰｔＣｒ磁性層と同じ成膜条件で、膜
厚約１００オングストロームのカーボン保護層を得る。

【００８７】最後に、カーボン保護層の形成までを終え
た基板を上記インラインスパッタ装置から取り出し、そ
のカーボン保護層の表面に、ディッピング法によってパ
ーフルオロポリエーテルを塗布して厚さ８オングストロ
ームの潤滑層を形成して磁気記録媒体を得た。

【００８８】評価 上記で得られた磁気記録媒体をディスク回転装置にセッ
トして、３５０００ｒｐｍで回転させたが破壊すること
はなかった。

【００８９】また、上記磁気記録媒体の保磁力は２００
０ Ｏｅであり、高記録密度を有する磁気記録媒体が得
られた。さらにヘッドとの関係においては、動摩擦係数
が０．２、静止摩擦係数が０．２５であり、ＣＳＳ（ｃ
ｏｎｔａｃｔ ｓｔａｒｔ／ｓｔｏｐ）耐久試験（１０
万回）を行なったが全く問題なく、その時のグライド高
さも０．０１５μｍ以下なので、高記録密度で且つ信頼
性の高い磁気記録媒体が得られた。

【００９０】さらに、得られた磁気ディスクについてグ
ライドテストを実施したところ、ヒット（ヘッドが磁気
ディスク表面の突起にかすること）やクラッシュ（ヘッ
ドが磁気ディスク表面の突起に衝突すること）は認めら
れなかった。

【００９１】以上、好ましい実施例をあげて本発明を説
明したが、本発明は上記実施例に限定されるものではな
い。たとえば、ガラス組成や磁性層の材質については、
実施例のものに限定されない。

【発明の効果】以上詳述したように、本発明は、情報記
録媒体用ガラス基板を構成するガラスとして、ＺｒＯ_２
等のガラスの原料成分の未溶解物による表面の突起の高
さが７μｍ以下であるガラスを用いること、また、情報
記録媒体用ガラス基板を構成するガラスとして、ＺｒＯ
_２とＬｉ_２Ｏとを含有するアルミノシリケートガラスで
あって、ＺｒＯ_２の含有量が０．６〜１．９モル％、Ｌ
ｉ_２Ｏの含有量が６〜１４モル％であるガラスを用いる
こと、また、情報記録媒体用ガラス基板を構成するガラ
スとして、ＴｉＯ_２を含有するアルミノシリケートガラ
スであって、ＴｉＯ_２の含有量が０．２〜３．０モル
％、ＺｒＯ_２Ｏの含有量が２．８モル％以下であり、か
つ、Ｂ_２Ｏ_３の含有量が０．９モル％以下である化学強
化用ガラスを用いること、を特徴とするもので、これに
よって、磁気ヘッド等の低浮上走行に支障がなく、比弾
性率が大きくて強度に優れ、高速回転しても反りやブレ
が生じにくく、かつ、基板の薄板化に十分対応でき、失
透がないという情報記録媒体用ガラス基板及びこれを用
いた磁気記録媒体を得ることを可能にしている。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例１〜５に係る情報記録媒体用ガ
ラス基板の組成及びガラスの特性を表にして示す図であ
る。

【図２】本発明の実施例６〜１０に係る情報記録媒体用
ガラス基板の組成及びガラスの特性を表にして示す図で
ある。

【図３】本発明の実施例１１〜１６及び比較例１に係る
情報記録媒体用ガラス基板の組成及びガラスの特性を表
にして示す図である。

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 表面を含むいずれかの部位に情報記録の
   ための構造物または装置または物体を形成して情報記録
   媒体を構成するために用いる情報記録媒体用ガラス基板
   において、 該情報記録媒体用ガラス基板を構成するガラスの原料成
   分の未溶解物によってガラスの表面に形成された突起物
   の高さが７μｍ以下であることを特徴とする情報記録媒
   体用ガラス基板。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス
   基板において、 前記ガラスの原料成分の未溶解物がＺｒＯ_２であること
   を特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。
3. 【請求項３】 請求項２に記載の情報記録媒体用ガラス
   基板において、 前記情報記録媒体用ガラス基板に含有するＺｒＯ_２が
   ２．８モル％以下であることを特徴とする情報記録媒体
   用ガラス基板。
4. 【請求項４】 表面を含むいずれかの部位に情報記録の
   ための構造物または装置または物体を形成して情報記録
   媒体を構成するために用いる情報記録媒体用ガラス基板
   において、 該情報記録媒体用ガラス基板を構成するガラスが、Ｚｒ
   Ｏ_２とＬｉ_２Ｏとを含有するアルミノシリケートガラス
   であって、ＺｒＯ_２の含有量が０．６〜１．９モル％、
   Ｌｉ_２Ｏの含有量が６〜１４モル％であるガラスからな
   ることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。
5. 【請求項５】 請求項４に記載の情報記録媒体用ガラス
   基板において、 該情報記録媒体用ガラス基板を構成するガラスの液相温
   度が９２０℃以下であることを特徴とする情報記録媒体
   用ガラス基板。
6. 【請求項６】 請求項４に記載の情報記録媒体用ガラス
   基板において、 前記情報記録媒体用ガラス基板を構成するガラスが、Ｔ
   ｉＯ_２を含有するガラスであることを特徴とする情報記
   録媒体用ガラス基板。
7. 【請求項７】 表面を含むいずれかの部位に情報記録の
   ための構造物または装置または物体を形成して情報記録
   媒体を構成するために用いる情報記録媒体用ガラス基板
   において、 該情報記録媒体用ガラス基板を構成するガラスが、Ｚｒ
   Ｏ_２とＬｉ_２Ｏとを含有するアルミノシリケートガラス
   であって、ＺｒＯ_２を０．６〜１．９モル％、含有し、
   Ｌｉ_２Ｏを液相温度での粘性が２００００ポアズ以上に
   なる量だけ含有するガラスからなることを特徴とする情
   報記録媒体用ガラス基板。
8. 【請求項８】 表面を含むいずれかの部位に情報記録の
   ための構造物または装置または物体を形成して情報記録
   媒体を構成するために用いる情報記録媒体用ガラス基板
   において、 該情報記録媒体用ガラス基板を構成するガラスがＴｉＯ
   _２を含有するアルミノシリケートガラスであって、Ｔｉ
   Ｏ_２の含有量が０．２〜３．０モル％、ＺｒＯ_２Ｏの含
   有量が２．８モル％以下であり、かつ、Ｂ_２Ｏ_３の含有
   量が０．９モル％以下である化学強化用ガラスからなる
   ことを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。
9. 【請求項９】 請求項８に記載の情報記録媒体用ガラス
   基板において、 前記情報記録媒体用ガラス基板を構成するガラスが、４
   ００℃に保ったＫＮＯ_３を６０重量％とＮａＮＯ_３を４
   ０重量％とを含む混塩の化学強化処理浴中に４時間浸漬
   したときに１００μｍを超える厚さの圧縮応力層を形成
   する化学強化用ガラスからなることを特徴とする情報記
   録媒体用ガラス基板。
10. 【請求項１０】 請求項８に記載の情報記録媒体用ガラ
    ス基板において、 該情報記録媒体用ガラス基板は、比弾性率が３２．０×
    １０^６Ｎｍ／ｋｇ以上であるガラスからなることを特徴
    とする情報記録媒体用ガラス基板。
11. 【請求項１１】 請求項１、４、５、８のいずれかに記
    載の情報記録媒体用ガラス基板において、 該情報記録媒体用ガラス基板を構成するガラスが、Ｓｉ
    Ｏ_２を５７〜７４モル％、Ａｌ_２Ｏ_３を３〜１５モル
    ％、Ｎａ_２Ｏを４〜１４モル％含有するガラスからなる
    ことを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。
12. 【請求項１２】 請求項１、４、５、８のいずれかに記
    載の情報記録媒体用ガラス基板において、 該情報記録媒体用ガラス基板を構成するガラスが、Ｓｉ
    Ｏ_２／ＺｒＯ_２のモル比が３５〜１３０であるガラスか
    らなることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。
13. 【請求項１３】 請求項１〜１２のいずれかに記載の情
    報記録媒体用ガラス基板の表面に磁性層を含む磁気記録
    層を形成してなる磁気記録媒体。