JPS60226529A - ポリアミド樹脂およびその製造方法 - Google Patents
ポリアミド樹脂およびその製造方法Info
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- JPS60226529A JPS60226529A JP8343684A JP8343684A JPS60226529A JP S60226529 A JPS60226529 A JP S60226529A JP 8343684 A JP8343684 A JP 8343684A JP 8343684 A JP8343684 A JP 8343684A JP S60226529 A JPS60226529 A JP S60226529A
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- JP
- Japan
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- divalent
- group
- polyamide resin
- tetraphenylthiophene
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(発明の関連する技術分野)
本発明は新規なポリアミド樹脂およびその製造方法に関
する。
する。
(従来技術)
従来、全芳香族ポリアミド樹脂は優れた耐熱性とともに
優れた機械的特性を有し、広く工業材料として使用され
て来た。これらのポリアミド樹脂のうち高いガラス転移
点を有し耐、熱性に優れたものは、有機溶媒に対する低
い溶解性を示しその成形性に問題がある。一方、高い溶
解性を示すものは、低いガラス転移点を有し耐熱性に問
題がある。
優れた機械的特性を有し、広く工業材料として使用され
て来た。これらのポリアミド樹脂のうち高いガラス転移
点を有し耐、熱性に優れたものは、有機溶媒に対する低
い溶解性を示しその成形性に問題がある。一方、高い溶
解性を示すものは、低いガラス転移点を有し耐熱性に問
題がある。
そこで本発明者らは各種有機溶媒に可溶で、なおかつ高
いガラス転移点を有するポリアミド樹脂を製造するべく
鋭意努力し、本発明を完成した。
いガラス転移点を有するポリアミド樹脂を製造するべく
鋭意努力し、本発明を完成した。
(発明の開示)
本発明の第1の発明は、一般式
%式%)
(式中、Rは1種又は2種以上の二価の有機基、Arは
Arが1種の場合は二価のテトラフェニルチオフェン基
、Arが2種以上の場合はその中の1種として二価のテ
トラフェニルチオフェン基、他の種として二価の芳香族
基、nは10−100の整数を示す) で表わされるポリアミド樹脂である。
Arが1種の場合は二価のテトラフェニルチオフェン基
、Arが2種以上の場合はその中の1種として二価のテ
トラフェニルチオフェン基、他の種として二価の芳香族
基、nは10−100の整数を示す) で表わされるポリアミド樹脂である。
本発明の第2の発明は、一般式
%式%)
(式中、Rは1種又は2種以上の二価の有機基、Arは
Arが1種の場合は二価のテトラフェニルチオフェン基
、Arが2種以上の場合はその中の1種として二価のテ
トラフェニルチオフェン基、他の種として二価の芳香族
基、nは10−200の整数を示す) で表わされるポリアミド樹脂を製造するに当り、一般式 %式% (式中、ArはArが1種の場合は二価のテトラフェニ
ルチオフェン基、Arが2種以上の場合はその中の1種
として二価のテトラフェニルチオフェン基、他の種とし
て二価の芳香族基を示す)で表わされるジアミンの1種
または2種以上と、一般式 %式%) (式中、Rは二価の有機基、Xはハ四ゲン原子を示す)
で表わされるジカルボン酸シバライドの1種又は2種以
上とを有機溶媒中で反応させるポリアミド樹脂の製造方
法である。
Arが1種の場合は二価のテトラフェニルチオフェン基
、Arが2種以上の場合はその中の1種として二価のテ
トラフェニルチオフェン基、他の種として二価の芳香族
基、nは10−200の整数を示す) で表わされるポリアミド樹脂を製造するに当り、一般式 %式% (式中、ArはArが1種の場合は二価のテトラフェニ
ルチオフェン基、Arが2種以上の場合はその中の1種
として二価のテトラフェニルチオフェン基、他の種とし
て二価の芳香族基を示す)で表わされるジアミンの1種
または2種以上と、一般式 %式%) (式中、Rは二価の有機基、Xはハ四ゲン原子を示す)
で表わされるジカルボン酸シバライドの1種又は2種以
上とを有機溶媒中で反応させるポリアミド樹脂の製造方
法である。
上記一般式tI)で表わされるポリアミド樹脂は上記一
般式(1)で表わされるジアミンと上記一般式儂)で表
わされるジカルボン酸シバライドから製造されるが、ジ
アミンとしては上記式+IllのArが二価のテトラフ
ェニルチオフェン基からなるジアミンを単独で使用する
こともできるし、あるいは20〜99モル%の上記7.
rがテトラフェニルチオフェン基からなるジアミンに、
80−1モル%の上記1rが1種または2種以上の二価
の芳香族基からなるジアミンを混合して使用することも
できる。
般式(1)で表わされるジアミンと上記一般式儂)で表
わされるジカルボン酸シバライドから製造されるが、ジ
アミンとしては上記式+IllのArが二価のテトラフ
ェニルチオフェン基からなるジアミンを単独で使用する
こともできるし、あるいは20〜99モル%の上記7.
rがテトラフェニルチオフェン基からなるジアミンに、
80−1モル%の上記1rが1種または2種以上の二価
の芳香族基からなるジアミンを混合して使用することも
できる。
ジアミンを混合して使用する場合二価のテトラ7エ二ル
チオフエン基からなるジアミンが20モル%未満となる
と本発明の特徴であるガラス転移点の上昇および有機溶
剤への溶解性を十分満足しなくなる。上記一般式11)
で表わされるジアミンとしてlrが二価のテトラフェニ
ルチオフェン基からなるジアミンを単独で使用し、上記
一般式((転)で表わされるジカルボン酸シバライドの
2種以上を混合して使用することもできる。
チオフエン基からなるジアミンが20モル%未満となる
と本発明の特徴であるガラス転移点の上昇および有機溶
剤への溶解性を十分満足しなくなる。上記一般式11)
で表わされるジアミンとしてlrが二価のテトラフェニ
ルチオフェン基からなるジアミンを単独で使用し、上記
一般式((転)で表わされるジカルボン酸シバライドの
2種以上を混合して使用することもできる。
上記一般式+I+1で表わされるジアミンのうち、Ar
が二価のテトラフェニルチオフェン基からなるジ、アミ
ンとは2.5−ビス(4−アミノフェニル)−8,4−
ジフェニルチオフェンを指す。このジアミンは工業的に
安価に入手できる塩化ベンジルとイオウを原料に製造で
きることが知られている。
が二価のテトラフェニルチオフェン基からなるジ、アミ
ンとは2.5−ビス(4−アミノフェニル)−8,4−
ジフェニルチオフェンを指す。このジアミンは工業的に
安価に入手できる塩化ベンジルとイオウを原料に製造で
きることが知られている。
例えばべ−・ディル、ティら(W、Dilthe’/
)によりジュルナール・プラクティッシュ−ヘミ−(J
、Prakt。
)によりジュルナール・プラクティッシュ−ヘミ−(J
、Prakt。
Ohem、 )第2巻第151頁と第267頁(19B
8年)に発表されている。
8年)に発表されている。
上記一般式11)で表わされるジアミンのうち嘔二価の
芳香族基からなるジアミンとしては、メタフェニレンジ
アミン、パラフェニレンジアミン、8゜8/−ジアミノ
ビフェニル、4,41−ジアミノビフェニル、3 、8
’−メチレンジアニリン、4 、4’−メチレンジアユ
1yン、 4 、4/−エチレンジアニリン 4,4/
−イソプロピリデンジアニリン、8゜8′−オキ、シジ
アニリン、4 、4’−オキシジアニリン、8,41−
オキシジアニリン、8.8′−チオジアニリン、4,4
′−チオジアニリ、ン、8.8’−カルボニルジアニリ
ン、4 、4’−カルボニルジアニリン、 3 、8’
−スルホニルジアニリン、 4 、4’−スルホニルジ
アニリン、l、4−ナツタレンジ1アミン、l、5−す
7タレンジアミン、2.6−ナ7タレンジアミン等を例
示することができる。
芳香族基からなるジアミンとしては、メタフェニレンジ
アミン、パラフェニレンジアミン、8゜8/−ジアミノ
ビフェニル、4,41−ジアミノビフェニル、3 、8
’−メチレンジアニリン、4 、4’−メチレンジアユ
1yン、 4 、4/−エチレンジアニリン 4,4/
−イソプロピリデンジアニリン、8゜8′−オキ、シジ
アニリン、4 、4’−オキシジアニリン、8,41−
オキシジアニリン、8.8′−チオジアニリン、4,4
′−チオジアニリ、ン、8.8’−カルボニルジアニリ
ン、4 、4’−カルボニルジアニリン、 3 、8’
−スルホニルジアニリン、 4 、4’−スルホニルジ
アニリン、l、4−ナツタレンジ1アミン、l、5−す
7タレンジアミン、2.6−ナ7タレンジアミン等を例
示することができる。
上記一般式(4)で表わされるジカルボン酸シバライド
としては、次のようなジカルボン酸のジク四り・ド、ジ
フルオリド、ジブロミドを例示することができる。すな
わち、テレフタル酸、イソフタル酸、1.4−す7タレ
ンジカルメン酸、l、5−ナフタレンジカルボン酸、2
,6−す7タレンジカルボン酸、番 4/−ジフェニル
エーテルジカルボン0酸、8 、8’−ジフェニルエー
テルジカルボン酸、4.4′−ジフェニルメタンジカル
ボン@、 8 、8’−ジフエニルメタンジカルボン醗
s 4 e 4’−ジフェニルスルホンジカルボン酸、
8.8’−ジフェニルスルホンジカルボン酸、などのジ
クpリド、ジ11フルオリド及びジプロミドを例示する
ことができる。
としては、次のようなジカルボン酸のジク四り・ド、ジ
フルオリド、ジブロミドを例示することができる。すな
わち、テレフタル酸、イソフタル酸、1.4−す7タレ
ンジカルメン酸、l、5−ナフタレンジカルボン酸、2
,6−す7タレンジカルボン酸、番 4/−ジフェニル
エーテルジカルボン0酸、8 、8’−ジフェニルエー
テルジカルボン酸、4.4′−ジフェニルメタンジカル
ボン@、 8 、8’−ジフエニルメタンジカルボン醗
s 4 e 4’−ジフェニルスルホンジカルボン酸、
8.8’−ジフェニルスルホンジカルボン酸、などのジ
クpリド、ジ11フルオリド及びジプロミドを例示する
ことができる。
上記一般式11)で表わされるポリアミド樹脂の製造方
法は、有機溶媒中、上記一般式(船で表わされ □゛す
るジアミン化合物と上記一般式(匍で表わされるジ゛′
□カルボン酸シバライドとを一200ν200℃”d分
間から数日間反応させることにより行なわれるものであ
る。この方法において一般式(!)で表わされるポリア
ミド樹脂の分子量は一般式Illで表わされるジアミン
化合物と一般式@)で表わされるジカルボン酸シバライ
ドの仕込量によって制限され、これらの反応成分を等モ
ル量使用すると高分子量の上記一般式11)で表わされ
るポリアミド樹脂を製造子ることができる、一般式f1
)で表わされるポリアミド樹脂においてnを10〜20
0の整数に限定した理由は、nがlOより小ではフィル
ム等に成形した成形品の機械的特性や耐熱性等の特性が
十分でなく、nが200を超えると有機溶媒等への溶解
性が悪くなるからである。
法は、有機溶媒中、上記一般式(船で表わされ □゛す
るジアミン化合物と上記一般式(匍で表わされるジ゛′
□カルボン酸シバライドとを一200ν200℃”d分
間から数日間反応させることにより行なわれるものであ
る。この方法において一般式(!)で表わされるポリア
ミド樹脂の分子量は一般式Illで表わされるジアミン
化合物と一般式@)で表わされるジカルボン酸シバライ
ドの仕込量によって制限され、これらの反応成分を等モ
ル量使用すると高分子量の上記一般式11)で表わされ
るポリアミド樹脂を製造子ることができる、一般式f1
)で表わされるポリアミド樹脂においてnを10〜20
0の整数に限定した理由は、nがlOより小ではフィル
ム等に成形した成形品の機械的特性や耐熱性等の特性が
十分でなく、nが200を超えると有機溶媒等への溶解
性が悪くなるからである。
この方法に使用できる有機溶媒としては% N IN−
ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド
、N−メチ/I/−2−ビpリドン等のアミド系溶媒、
ベンゼン、アニソール、ジフェニルエーテル、ニトロベ
ンゼン、ベンゾニトリルのような芳香族系溶媒、り四ロ
ホルム、ジクロロメタン、1.2−ジクロロメタン、1
.1.2.2−テトラクロ四エタンのようなハロゲン系
溶媒等を例示することができる。このような有機溶媒と
共にピリジン、トリエチルアミンなどの酸受容体を共存
させたり一1水とたがいに混合しない溶媒の場合にアル
カリ水溶液との二相系を用いたりして反応を行うと効果
的である。とくにN、N−ジメチルアセトアミドや、N
−メチ7L/−11−ビリリドン等のアミド系溶媒を使
用すると、これらの溶媒自身が酸受容体となり高重合体
のポリアミド樹脂を得ることができる。− 7J1<シて製造された一般式(I)で表わされるポリ
アミド樹脂は、使用した一般式II)で表わされるジア
ミンと使用した一般式(蜀で表わされるジカルボン酸シ
バライドの種類により、とくにその溶解性が変化するが
、クロリホルム、テトラフルロエタン、N、N−ジメチ
ルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、ジメ
チルスルホキシド、ピリジン等の溶媒のすべてに、また
は一部に可溶となる。上記一般式iI>で表わされるポ
リアミド樹脂は800°C付近までガラス転移点が観測
されず、400″C付近まで加熱しても顕著な重量変化
は認められない。
ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド
、N−メチ/I/−2−ビpリドン等のアミド系溶媒、
ベンゼン、アニソール、ジフェニルエーテル、ニトロベ
ンゼン、ベンゾニトリルのような芳香族系溶媒、り四ロ
ホルム、ジクロロメタン、1.2−ジクロロメタン、1
.1.2.2−テトラクロ四エタンのようなハロゲン系
溶媒等を例示することができる。このような有機溶媒と
共にピリジン、トリエチルアミンなどの酸受容体を共存
させたり一1水とたがいに混合しない溶媒の場合にアル
カリ水溶液との二相系を用いたりして反応を行うと効果
的である。とくにN、N−ジメチルアセトアミドや、N
−メチ7L/−11−ビリリドン等のアミド系溶媒を使
用すると、これらの溶媒自身が酸受容体となり高重合体
のポリアミド樹脂を得ることができる。− 7J1<シて製造された一般式(I)で表わされるポリ
アミド樹脂は、使用した一般式II)で表わされるジア
ミンと使用した一般式(蜀で表わされるジカルボン酸シ
バライドの種類により、とくにその溶解性が変化するが
、クロリホルム、テトラフルロエタン、N、N−ジメチ
ルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、ジメ
チルスルホキシド、ピリジン等の溶媒のすべてに、また
は一部に可溶となる。上記一般式iI>で表わされるポ
リアミド樹脂は800°C付近までガラス転移点が観測
されず、400″C付近まで加熱しても顕著な重量変化
は認められない。
(発明の実施例)
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明する。
実施例1
2.5−ビス(4−アミノフェニル)−8,4−ジフェ
ニルチオフェン1.0459 (L5 mmo/ lを
7.111II/のジメチルアセトアミドに溶解し、水
浴で0℃に冷却した。この溶液に0 、508り(2,
6mmot +のイソフタル酸クロリドを結晶のまま一
度に加えさらに2−のジメチルアセトアミドを加えた。
ニルチオフェン1.0459 (L5 mmo/ lを
7.111II/のジメチルアセトアミドに溶解し、水
浴で0℃に冷却した。この溶液に0 、508り(2,
6mmot +のイソフタル酸クロリドを結晶のまま一
度に加えさらに2−のジメチルアセトアミドを加えた。
水浴上で1.5時間攪拌後、80o−のメチルアルコー
ル中に得られた溶液を投入することによりポリアミドを
得た。
ル中に得られた溶液を投入することによりポリアミドを
得た。
収 率 99%
固有粘度 0.99(硫酸中80℃、o、bglatの
濃度で測定)元素分析値 0H1i8 計算値(9Q 78.Ll 4.B? 6,10 5.
88実測値鉤 77.46 4.86 4,71 5.
78熱重量測定装置による10%重量重量減変温気中4
90℃、窒素中500℃ 有機溶媒に対する溶解性は別表1に示す。
濃度で測定)元素分析値 0H1i8 計算値(9Q 78.Ll 4.B? 6,10 5.
88実測値鉤 77.46 4.86 4,71 5.
78熱重量測定装置による10%重量重量減変温気中4
90℃、窒素中500℃ 有機溶媒に対する溶解性は別表1に示す。
実施例3
実施例1と同様の操作により2.5−ビス(4−アミノ
フェニル) −8t 4−ジフェニルチオフェン1.0
469 (L5 mmot +とイソフタル酸り四リド
o、4oe g (2mmot ) 、テレフタル酸ク
ロリドo、1o* 9 (0,6mmoz )との組合
せからコポリアミドを得た。
フェニル) −8t 4−ジフェニルチオフェン1.0
469 (L5 mmot +とイソフタル酸り四リド
o、4oe g (2mmot ) 、テレフタル酸ク
ロリドo、1o* 9 (0,6mmoz )との組合
せからコポリアミドを得た。
収率 96%
固有粘度 1.08(硫酸中80℃、 o、rt9/d
zの濃度で測定)10%重量減少S度 空気中490℃
、窒素中610℃有機溶媒に対する溶解性は別表1に示
す。
zの濃度で測定)10%重量減少S度 空気中490℃
、窒素中610℃有機溶媒に対する溶解性は別表1に示
す。
実施例8
実施例1と同様の操作により11.6−ビス(4−アミ
ノフェニル)−8,4−ジフェニルチオフェン1.04
5 g(15mmo/ lとイソy夕5trllりoリ
ド0.8050 (L、S mm1M ) 、 5−
し7 IA/酸り1:I IJ )−0,2089(1
mmot+との組合せからコポリアミド・を得た。
ノフェニル)−8,4−ジフェニルチオフェン1.04
5 g(15mmo/ lとイソy夕5trllりoリ
ド0.8050 (L、S mm1M ) 、 5−
し7 IA/酸り1:I IJ )−0,2089(1
mmot+との組合せからコポリアミド・を得た。
収 率 96 %
固有粘度 1.10(硫酸中80℃、o、b941の濃
度で測定)10%重量減少渇I 空気中495℃、窒素
中515°C有機溶媒に対する溶解性は別表1に示す。
度で測定)10%重量減少渇I 空気中495℃、窒素
中515°C有機溶媒に対する溶解性は別表1に示す。
実施例4
実施例1と同様の操作により2,5−ビス(4−アミノ
フェニル)−11,4−ジフェニルチオフェン1.04
59 (2,5mm0tlとイソフタル酸クロリド0.
2089 (1mmo/ l 、テレフタル酸クロリド
0.3059 + 1.5 mmo/ lとの組合せか
らコポリアミドを得た。
フェニル)−11,4−ジフェニルチオフェン1.04
59 (2,5mm0tlとイソフタル酸クロリド0.
2089 (1mmo/ l 、テレフタル酸クロリド
0.3059 + 1.5 mmo/ lとの組合せか
らコポリアミドを得た。
収率 96%
固有粘度 1.60+硫酸中80℃、o、b9/dtの
濃度で測定)10%重量減少温度 空気中490”C、
窒素中510℃有機溶媒に対する溶解性は別表1に示す
。
濃度で測定)10%重量減少温度 空気中490”C、
窒素中510℃有機溶媒に対する溶解性は別表1に示す
。
実施例5
実施例1と同様の操作により2.6−ビス(4−アミノ
フェニル)−8,4−ジフェニルチオフェン1.045
g(2,5mmotlイソ7タkall!田リド0.
1029 (0,6mmot ) 、テレフタル酸り1
71ノド0.4069 (2mmo/ )との組合せか
らコポリアミドな得た。
フェニル)−8,4−ジフェニルチオフェン1.045
g(2,5mmotlイソ7タkall!田リド0.
1029 (0,6mmot ) 、テレフタル酸り1
71ノド0.4069 (2mmo/ )との組合せか
らコポリアミドな得た。
収 率 94%
固有粘度 1.44 (硫酸中80°C10,旺ハtの
濃度で測定)10%重量減少渇度 空気中490°C2
窒素中510℃有機溶媒に対する溶解性は別表1に示す
。
濃度で測定)10%重量減少渇度 空気中490°C2
窒素中510℃有機溶媒に対する溶解性は別表1に示す
。
実施例B
実施例1と同様の操作により2.5−ビス(4−アミノ
フェニル)−8,4−シフエルチオフェン1.045
g(1!、5 mmoz )とテレフタルMりa’)ド
0.508 g(L5 El1mO/ )とからlリア
ミドを得た。
フェニル)−8,4−シフエルチオフェン1.045
g(1!、5 mmoz )とテレフタルMりa’)ド
0.508 g(L5 El1mO/ )とからlリア
ミドを得た。
収 率 98%
固有語r!IL1.71tlilll中a o”c 、
o 、b9/dt ノ濃度Cf[定)10%重量減少
潟度 空気中Boo℃、窒素中5110″C得られたポ
リアミドはraiatを5%含むN−メチル−2−ピリ
リドンに溶解したが、ピリジン、クレゾールなどには溶
解しなかった。
o 、b9/dt ノ濃度Cf[定)10%重量減少
潟度 空気中Boo℃、窒素中5110″C得られたポ
リアミドはraiatを5%含むN−メチル−2−ピリ
リドンに溶解したが、ピリジン、クレゾールなどには溶
解しなかった。
実施例7
実施例1と同様の操作により2.5−ビス(4−アミノ
フェニル)−8,4−ジフェニルチオフェン0.5H9
(1,25mmoz +、414I−オキシジアニリン
0.2509 + 1.25 mmo/ lの組合せと
イソフタル酸クロリド0.508 g(2,5mmoz
)とからコポリアミドを得た。
フェニル)−8,4−ジフェニルチオフェン0.5H9
(1,25mmoz +、414I−オキシジアニリン
0.2509 + 1.25 mmo/ lの組合せと
イソフタル酸クロリド0.508 g(2,5mmoz
)とからコポリアミドを得た。
収 率 98 %
固有粘度 0.94 (硫酸中80℃、0.59/dt
の濃度で測定)10%重量減少湯度 空気中480℃、
窒素中495°C有機溶媒に対する溶解性は別表1に示
す。
の濃度で測定)10%重量減少湯度 空気中480℃、
窒素中495°C有機溶媒に対する溶解性は別表1に示
す。
実施例8
実施例1と同様の操作により2.5−ビス(4−アミノ
フェニル)−3,4−ジフェニルチオフェン0.523
9 (1,26mmo/ )、4.4′−オキシジアニ
リン0.2509 (1,25mmo/ )の組合せと
テレフタル酸クロリド0.5089 (2,5mmo/
lとからコポリアミドを得た。
フェニル)−3,4−ジフェニルチオフェン0.523
9 (1,26mmo/ )、4.4′−オキシジアニ
リン0.2509 (1,25mmo/ )の組合せと
テレフタル酸クロリド0.5089 (2,5mmo/
lとからコポリアミドを得た。
収率 99%
固有粘度 し18(硫酸中30°C、0,5g/d/の
濃度で測定)lO%重量減少温度 空気中495”C,
窒素中500°C得られたコゲリアミドはN−メチル−
2−ピルリドン、N、N−ジメチルアセトアミドに一部
溶解した。
濃度で測定)lO%重量減少温度 空気中495”C,
窒素中500°C得られたコゲリアミドはN−メチル−
2−ピルリドン、N、N−ジメチルアセトアミドに一部
溶解した。
発明の効果)
本発明は一般式(11で表わされるポリアミド樹脂づよ
びこのポリアミド樹脂の有利な製造方法を提4する。従
来のポリアミド樹脂の多くが有機溶媒二対して低い溶解
性を有するために成形が困離でつったのに対して、本発
明のポリアミド樹脂は有1溶媒に可溶で成形が容易であ
り、しかも優れた1熱性、電気特性、機械的特性を有す
るので工業1料としての価値が大きい。
びこのポリアミド樹脂の有利な製造方法を提4する。従
来のポリアミド樹脂の多くが有機溶媒二対して低い溶解
性を有するために成形が困離でつったのに対して、本発
明のポリアミド樹脂は有1溶媒に可溶で成形が容易であ
り、しかも優れた1熱性、電気特性、機械的特性を有す
るので工業1料としての価値が大きい。
特許出願人 東京工業大学長
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 L 一般式 %式%) (式中、Rは1種又は2種以上の二価の有機基、Arは
Arが1種の場合は二価のテトラフェニルチオフェン基
、 Arが2種以上の場合はその中の1種として二価の
テトラフェニルチオフェン基、他の種として二価の芳香
族基、nは10〜20口の整数を示す) で表わされるポリアミド樹脂。 九 一般式 %式% c式中、Rは1種又は2種以上の二価の有機基、Arは
Arが1種の場合は二価のテトラフェニルチオフェン基
、 Arが2種以上の場合はその中の1種として二価の
テトラフェニルチオフェン基、他の種として二価の芳香
族基、nは10〜200の整数を示す) で表わされるポリアミド樹脂を製造するに当り、一般式 %式% (式中、lrはAz:が1種の場合は二価のテトラフェ
ニルチオフェン基、Arが3種以上の場合はその中の1
種として二価のテトラフェニルチオフェン基、他の種と
して二価の芳香族基を示す) で表わされるジアミンの1種又は2種以上と、一般式 %式% (式中、Rは二価の有機基、Xはハロゲン原子を示す) で表わされるジカルボン酸シバライドの1種又は2種以
上とを有機溶媒中で反応させることを特徴とするポリア
ミド樹脂の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8343684A JPS60226529A (ja) | 1984-04-25 | 1984-04-25 | ポリアミド樹脂およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8343684A JPS60226529A (ja) | 1984-04-25 | 1984-04-25 | ポリアミド樹脂およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60226529A true JPS60226529A (ja) | 1985-11-11 |
JPS6254813B2 JPS6254813B2 (ja) | 1987-11-17 |
Family
ID=13802375
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8343684A Granted JPS60226529A (ja) | 1984-04-25 | 1984-04-25 | ポリアミド樹脂およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60226529A (ja) |
-
1984
- 1984-04-25 JP JP8343684A patent/JPS60226529A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6254813B2 (ja) | 1987-11-17 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |