JPS60219704A - 電圧非直線抵抗体及びその製造法 - Google Patents
電圧非直線抵抗体及びその製造法Info
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- JPS60219704A JPS60219704A JP59075848A JP7584884A JPS60219704A JP S60219704 A JPS60219704 A JP S60219704A JP 59075848 A JP59075848 A JP 59075848A JP 7584884 A JP7584884 A JP 7584884A JP S60219704 A JPS60219704 A JP S60219704A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明はアレスタやサージアブソーバなどに使用できる
酸化亜鉛を主成分とする焼結体から成る電圧非直線抵抗
体とその製造法に関する。
酸化亜鉛を主成分とする焼結体から成る電圧非直線抵抗
体とその製造法に関する。
酸化亜鉛系の電圧非直線抵抗体は一般に良く知られてい
るセラミックス焼結技術で製造される。その概要は酸化
亜鉛(ZnO)粉末を主成分として、それに酸化ビスマ
ス(”to3) 、酸化アンチモン(sbzos)、酸
化コバルト(Oozes )、酸化マンガン(Mn02
)、酸化クロム(Os山)、酸化ケイ素(sloz)、
酸化ホウ素(1% Os ) 、酸化アルミニウム(A
/^)などを加え十分に混合し、これに水及びポリビニ
ルアルコールなど適当なバインダを加えて造粒して成形
する。この成形体FiG面防止の目的で、抵抗体の側面
にBio、 −8¥%−Bi、033元系成分を塗布し
、電気炉を用いて温度1000〜13oO℃で焼成する
。最後に本焼成体の上下両端面を所定の厚さに研摩、調
整し、溶射又は焼付は法によって電極を形成して電圧非
直線抵抗体としている。
るセラミックス焼結技術で製造される。その概要は酸化
亜鉛(ZnO)粉末を主成分として、それに酸化ビスマ
ス(”to3) 、酸化アンチモン(sbzos)、酸
化コバルト(Oozes )、酸化マンガン(Mn02
)、酸化クロム(Os山)、酸化ケイ素(sloz)、
酸化ホウ素(1% Os ) 、酸化アルミニウム(A
/^)などを加え十分に混合し、これに水及びポリビニ
ルアルコールなど適当なバインダを加えて造粒して成形
する。この成形体FiG面防止の目的で、抵抗体の側面
にBio、 −8¥%−Bi、033元系成分を塗布し
、電気炉を用いて温度1000〜13oO℃で焼成する
。最後に本焼成体の上下両端面を所定の厚さに研摩、調
整し、溶射又は焼付は法によって電極を形成して電圧非
直線抵抗体としている。
最近、B’tOi→^−AgtO系ガラスあるいはZn
O→^−日1ヘ 系ガラスを微量添加した非直線抵抗体
は課電寿命が著しく改善されるため上記ガラスなしの電
圧非直線抵抗体と共に実用されている。
O→^−日1ヘ 系ガラスを微量添加した非直線抵抗体
は課電寿命が著しく改善されるため上記ガラスなしの電
圧非直線抵抗体と共に実用されている。
酸化亜鉛系の電圧非直線抵抗体は従来知られているSi
O等と比べて電圧−電流特性が非常に優れている。しか
し、実用面におい、て(1)低電流領域特性の改善、特
に漏れ電流の減少 (2) 広い電流領域における非直線性の改善(3)
方形波並びにインパルス電流による方形波耐量の向上 (4)AOあるいはDo!l電寿命特性の向上等が望ま
れている。
O等と比べて電圧−電流特性が非常に優れている。しか
し、実用面におい、て(1)低電流領域特性の改善、特
に漏れ電流の減少 (2) 広い電流領域における非直線性の改善(3)
方形波並びにインパルス電流による方形波耐量の向上 (4)AOあるいはDo!l電寿命特性の向上等が望ま
れている。
第1図には従来知られている酸化亜鉛系電圧非直線抵抗
体の内部構造を図解する。すなわち第1図は、従来の酸
化亜鉛系電圧非直線抵抗体の内部微細構造の概要図であ
ル、符号1ViZnO結晶粒、2はスピネル相結晶粒、
3はBi、03粒界相を意味する。
体の内部構造を図解する。すなわち第1図は、従来の酸
化亜鉛系電圧非直線抵抗体の内部微細構造の概要図であ
ル、符号1ViZnO結晶粒、2はスピネル相結晶粒、
3はBi、03粒界相を意味する。
Zn O結晶粒はそれぞれが直径10μm程度であり、
焼結体全体積の大部分を占める。一方、スピネル相結晶
粒は直径1〜2μ情でZnO結晶粒に比べて小さく、Z
nO結晶粒の間、特に3重点(3個の結晶粒が互いに接
している箇所)などに分散している。組成はZTh日−
幅であシC01Mへ0rXNiなどが固溶している。B
i、01相はそれに接するZnO結晶粒の粒界近傍にポ
テンシャルのバリアを形成するために有効である。Bi
、03相は粒子の6重点などに凝縮しやすいが、境界層
が観察されない境界においても厚さ20〜200Aにわ
たりB1原子濃度の高い層が存在することが確められて
いる。
焼結体全体積の大部分を占める。一方、スピネル相結晶
粒は直径1〜2μ情でZnO結晶粒に比べて小さく、Z
nO結晶粒の間、特に3重点(3個の結晶粒が互いに接
している箇所)などに分散している。組成はZTh日−
幅であシC01Mへ0rXNiなどが固溶している。B
i、01相はそれに接するZnO結晶粒の粒界近傍にポ
テンシャルのバリアを形成するために有効である。Bi
、03相は粒子の6重点などに凝縮しやすいが、境界層
が観察されない境界においても厚さ20〜200Aにわ
たりB1原子濃度の高い層が存在することが確められて
いる。
第2図は、上記第1図の組成分中にZnO−1%03−
sio、系ガラスを1重量%添加した、同じ〈従来の
酸化亜鉛系抵抗体の内部微細構造の概要図であり、符号
1′〜5′は、第1図の1〜3と同義で、4はガラス相
を意味する。ZnO結晶粒1′、スピネル相結晶粒2’
、Bi!01相3′は第3′と同様な配置であるが、”
10s相3′の内部、あるいは境界層にガラス相4の析
出物が点在しているのが判る。
sio、系ガラスを1重量%添加した、同じ〈従来の
酸化亜鉛系抵抗体の内部微細構造の概要図であり、符号
1′〜5′は、第1図の1〜3と同義で、4はガラス相
を意味する。ZnO結晶粒1′、スピネル相結晶粒2’
、Bi!01相3′は第3′と同様な配置であるが、”
10s相3′の内部、あるいは境界層にガラス相4の析
出物が点在しているのが判る。
しかし、これら従来のものは、いずれも前記した実用上
の要望を十分溝しているとはいえない。
の要望を十分溝しているとはいえない。
本発明の目的は、ZnO粒内抵抗を低減して平坦率を向
上させ、且っ課電寿命を向上させると同時に上記ZnO
粒内抵抗の減少によって増大する漏れ電流を低減させ、
低電流特性を改善した電圧非直線抵抗体及びその製造法
を提供することにある。
上させ、且っ課電寿命を向上させると同時に上記ZnO
粒内抵抗の減少によって増大する漏れ電流を低減させ、
低電流特性を改善した電圧非直線抵抗体及びその製造法
を提供することにある。
本発明を概説すれば、本発明の第1の発明蝶電圧非直線
抵抗体に関する発明であって、酸化亜鉛(2n0 )を
主成分とする焼結体の側面に亮抵抗層が形成され、且つ
焼結体の上下両端面に電極が形成された電圧非直線抵抗
体において、該焼結体が、ZnO系結晶粒内にはα00
o5〜103重量%のアルミニウムが拡散し、更に該Z
nO系結晶粒の表面近傍には銅が拡散したものであるこ
とを特徴とする。
抵抗体に関する発明であって、酸化亜鉛(2n0 )を
主成分とする焼結体の側面に亮抵抗層が形成され、且つ
焼結体の上下両端面に電極が形成された電圧非直線抵抗
体において、該焼結体が、ZnO系結晶粒内にはα00
o5〜103重量%のアルミニウムが拡散し、更に該Z
nO系結晶粒の表面近傍には銅が拡散したものであるこ
とを特徴とする。
また、本発明の第2の発明は電圧非直線抵抗体の製造法
に関する発明で黍って、酸化亜鉛を主成分とし、添加成
分として酸化ビスマスをBi、O,に換算してα2〜2
モル%、酸化ケイ素を5i01 K ’lip算して1
〜4モル%、酸化コバルトをCo10g K換算して0
.8〜5モル%、酸化アンチモンをElm)gos K
換算して[11〜3モル%、酸化マンガンをMnO,に
換算して0.1〜5モル%、酸化クロムをOrfiOs
K換算してα1〜2モル%、アルミニウムをA/、0
1 に換算して[LD005〜α05モル%含有する組
成物に、銅を0u40 に換算して0.001〜20重
量%、亜鉛をZnOに換算して40〜70重i%含む銅
ホウケイ酸亜鉛ガラスを、CL1〜2重量%配合した原
料粉を、混合、造粒、成形し、側面に高抵抗層を取付け
て焼成し、その焼結体の上下両端面に電極を形成させる
ことを特徴とする。
に関する発明で黍って、酸化亜鉛を主成分とし、添加成
分として酸化ビスマスをBi、O,に換算してα2〜2
モル%、酸化ケイ素を5i01 K ’lip算して1
〜4モル%、酸化コバルトをCo10g K換算して0
.8〜5モル%、酸化アンチモンをElm)gos K
換算して[11〜3モル%、酸化マンガンをMnO,に
換算して0.1〜5モル%、酸化クロムをOrfiOs
K換算してα1〜2モル%、アルミニウムをA/、0
1 に換算して[LD005〜α05モル%含有する組
成物に、銅を0u40 に換算して0.001〜20重
量%、亜鉛をZnOに換算して40〜70重i%含む銅
ホウケイ酸亜鉛ガラスを、CL1〜2重量%配合した原
料粉を、混合、造粒、成形し、側面に高抵抗層を取付け
て焼成し、その焼結体の上下両端面に電極を形成させる
ことを特徴とする。
第5図は、本発明の電圧非直線抵抗体の内部微細構造の
概要図であり、符号1“〜6“及び4′は第2図と同義
であり、5は銅拡散層を意味する。
概要図であり、符号1“〜6“及び4′は第2図と同義
であり、5は銅拡散層を意味する。
ZnO結晶粒1“、スピネル相結晶粒2“、Bi*Ox
相6″及びガラス相4′は第2図と同様な構造であるが
、ZnO結晶粒1“並びにスピネル相結晶粒2“表面に
Ou拡散層5が形成されている。
相6″及びガラス相4′は第2図と同様な構造であるが
、ZnO結晶粒1“並びにスピネル相結晶粒2“表面に
Ou拡散層5が形成されている。
Ou拡散層は上記した本発明の製造法によって形成され
る。特に、温度1150〜1300℃間で1〜5時間の
焼成中にZnO結晶粒が形成され、粒成長が起ると同時
にガラス粉末は酸化ビスマス液相に捕えられる。同時に
Cu原子は、ZnO結晶粒やスピネル相結晶粒表面へ拡
散され、最後に拡散層が形成される。拡散層の厚さは酸
化銅量並びに焼成条件によって調節するが、α01〜1
pmで、且つ結晶粒半径のイ。〜イゆ。。
る。特に、温度1150〜1300℃間で1〜5時間の
焼成中にZnO結晶粒が形成され、粒成長が起ると同時
にガラス粉末は酸化ビスマス液相に捕えられる。同時に
Cu原子は、ZnO結晶粒やスピネル相結晶粒表面へ拡
散され、最後に拡散層が形成される。拡散層の厚さは酸
化銅量並びに焼成条件によって調節するが、α01〜1
pmで、且つ結晶粒半径のイ。〜イゆ。。
程度が望ましい。この拡散層の抵抗率は、l!1四によ
れば10〜100Ω−αでZnO結晶粒内抵抗1〜2Ω
・謂の約10〜100倍高い。この拡散層がBi、01
境界層のそばに形成されればショットキー障壁が変形し
、障壁電圧が増大して、漏れ電流が減少すると同時に平
坦率が向上する。
れば10〜100Ω−αでZnO結晶粒内抵抗1〜2Ω
・謂の約10〜100倍高い。この拡散層がBi、01
境界層のそばに形成されればショットキー障壁が変形し
、障壁電圧が増大して、漏れ電流が減少すると同時に平
坦率が向上する。
第4図は、本発明及び従来の電圧非直線抵抗体の電流図
(横軸)と電圧(V/−)との関係を示すグラフである
。第4図において、7は本発明の抵抗体の特性曲線、8
は従来の銅ホウケイ酸亜鉛ガラス及びAtを共に含まな
い抵抗体ガラス1重量%を共に含む抵抗体(従来品B)
の特性曲線である。曲mBVc比べて曲!Is9におい
てはA/添加によって低電流域での漏れ電流は増加する
が、平坦率は向上する。他方、本発明の曲線7において
は、硝酸アルミニウムがα02重ffi%添加されてい
るにもかかわらず、Ou拡散層が存在するためK、バリ
アが増大し、低電流域での漏れ電流が低減すると同時に
平坦率も向上する。
(横軸)と電圧(V/−)との関係を示すグラフである
。第4図において、7は本発明の抵抗体の特性曲線、8
は従来の銅ホウケイ酸亜鉛ガラス及びAtを共に含まな
い抵抗体ガラス1重量%を共に含む抵抗体(従来品B)
の特性曲線である。曲mBVc比べて曲!Is9におい
てはA/添加によって低電流域での漏れ電流は増加する
が、平坦率は向上する。他方、本発明の曲線7において
は、硝酸アルミニウムがα02重ffi%添加されてい
るにもかかわらず、Ou拡散層が存在するためK、バリ
アが増大し、低電流域での漏れ電流が低減すると同時に
平坦率も向上する。
第5図は、本発明及び従来の抵抗体のAC課電寿命試験
における、課電時間〔(課電時間)4〕(横軸)と漏れ
電流増加率(漏れ電流/初期電流)(縦軸)との関係を
示すグラフであり、曲線7′〜9′は、第4図の曲線7
〜9に対応する。
における、課電時間〔(課電時間)4〕(横軸)と漏れ
電流増加率(漏れ電流/初期電流)(縦軸)との関係を
示すグラフであり、曲線7′〜9′は、第4図の曲線7
〜9に対応する。
課電試験は、課電率85%、温度130℃で行ったもの
である。
である。
第5図から明らかなように1曲線8′に比べて曲線7′
では課電特性が著しく向上し、更に曲線9′よシも優れ
ている。
では課電特性が著しく向上し、更に曲線9′よシも優れ
ている。
焼成中1cOu原子はガラス相よりZnO結晶粒へ移動
する。ZnOはn型半導体酸化物に属して、伝導電子が
電気伝導の担い手であるが、Ou拡散層中のOuイオン
に捕えられて抵抗率を高める。
する。ZnOはn型半導体酸化物に属して、伝導電子が
電気伝導の担い手であるが、Ou拡散層中のOuイオン
に捕えられて抵抗率を高める。
本発明の焼結体の一部を切出し薄片を電子顕微鏡観察し
た結果ではBi、01境界層は粒子の3重点などに凝縮
しやすいが、厚さ20〜200A程度の非常に薄い境界
層が広範囲に存在する。
た結果ではBi、01境界層は粒子の3重点などに凝縮
しやすいが、厚さ20〜200A程度の非常に薄い境界
層が広範囲に存在する。
この様な部分KOu拡散層が形成されてバリアが、顕著
に増加し電圧非直線性を向上させる。
に増加し電圧非直線性を向上させる。
銅ホウケイ酸亜鉛ガラスの酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化
ケイ素量は、透明なガラスを合成するため、且つ常時課
電々圧に対する漏れ電流増加率を非常に小さく、同時に
非直線係数αの大きなZnO系電圧非直紳抵抗体を得る
ために前記したα1〜2重景%重量が適当である。また
、本ガラスの酸化銅111′は、znO結晶粒表面よシ
深さ数百分の1〜数μmの高抵抗層にするため、前記し
た0、 OO1〜20重景%重量囲が適当である。
ケイ素量は、透明なガラスを合成するため、且つ常時課
電々圧に対する漏れ電流増加率を非常に小さく、同時に
非直線係数αの大きなZnO系電圧非直紳抵抗体を得る
ために前記したα1〜2重景%重量が適当である。また
、本ガラスの酸化銅111′は、znO結晶粒表面よシ
深さ数百分の1〜数μmの高抵抗層にするため、前記し
た0、 OO1〜20重景%重量囲が適当である。
他方、酸化アルミニウム又は硝酸アルミニウム量は、酸
化アルミニウムに換算して0.0005〜α05モル%
が適当である。α05モル%より以上でけ、漏ね電流が
増大し、且つ非直線係数αが減少し、他方、α0005
モル%未満では漏れ電流は減少するが、非直線係数αが
広い電流範囲にわたって減少し、好ましくない。
化アルミニウムに換算して0.0005〜α05モル%
が適当である。α05モル%より以上でけ、漏ね電流が
増大し、且つ非直線係数αが減少し、他方、α0005
モル%未満では漏れ電流は減少するが、非直線係数αが
広い電流範囲にわたって減少し、好ましくない。
焼成温度は1150°〜1500℃範囲が望ましい。1
150℃未満では気泡が発生し、1300℃超では酸化
ビスマスや酸化アンチモンが蒸発するため多孔質となっ
て密度が減少し望ましくない。この温度範囲において健
全な焼結体が得られ、特に適度な厚さのOu拡散層が得
られる。
150℃未満では気泡が発生し、1300℃超では酸化
ビスマスや酸化アンチモンが蒸発するため多孔質となっ
て密度が減少し望ましくない。この温度範囲において健
全な焼結体が得られ、特に適度な厚さのOu拡散層が得
られる。
ガラス相は課電時における結晶粒内のZnイオン、特に
格子間Znイオンの境界層への拡散を制御し、課電劣化
を防止する効果がある。
格子間Znイオンの境界層への拡散を制御し、課電劣化
を防止する効果がある。
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、
本発明はこれら実施例に限定されない。
本発明はこれら実施例に限定されない。
なお、第6図は、本発明の1実施例の抵抗体、また第7
図は従来品ムの抵抗体を、それぞれ切断・研摩して得た
薄片について、透過電子顕微釧観察した微細構造の概要
図と、zDO結晶粒内げ】及びBitOB境界層近傍(
ロ)のエネルギー分散型X線スペクトルをX線エネルギ
ー(KeV ) (横軸)とX線強度の関係で示したス
ペクトル図である。
図は従来品ムの抵抗体を、それぞれ切断・研摩して得た
薄片について、透過電子顕微釧観察した微細構造の概要
図と、zDO結晶粒内げ】及びBitOB境界層近傍(
ロ)のエネルギー分散型X線スペクトルをX線エネルギ
ー(KeV ) (横軸)とX線強度の関係で示したス
ペクトル図である。
更に、第8図は、本発明の1実施例の抵抗体の焼成温度
(℃)(横軸)とバリスタ電圧(vlmA )、非直線
係数(10/JAα1mA)及び平坦率(■1okA/
v1mA)(各縦軸)との関係多水すグラフである。
(℃)(横軸)とバリスタ電圧(vlmA )、非直線
係数(10/JAα1mA)及び平坦率(■1okA/
v1mA)(各縦軸)との関係多水すグラフである。
実施例1
主成分として酸化亜鉛7.650 P K対して、添加
物として酸化ビスマス(B1.o、)s2sr。
物として酸化ビスマス(B1.o、)s2sr。
酸化コバルト(Co、03 )166F、酸化マンガン
(MnO) 57 f 、酸化アンチモン(8bzOs
)292 F、酸化クロム(Or203)76F、酸化
ケイ素(Sin、) 90 F、硝酸アルミニウム(A
e(M)t ”9H,O)1. s tを正確に秤量し
、更KZnO65重量%、B2os20重景%、Sin
、10重ilt%、0u205重t%よりなる銅ホウケ
イ酸亜鉛ガラス869を秤量してボールミルで12時時
間式混合した。混合粉は乾燥した後造粒し、20mφX
10.tK成形した。成形体には81% −8% 03
−Bi、偽系高抵抗層を塗布した後、これを1200℃
で2時間焼成した。本焼結体は上下両面をラップマスタ
で約cLS−ずつ研摩e洗浄し、A/溶射電極を形成し
た。本発明品と従来品A(硝酸アルミニウム並びに銅ホ
ウケイ酸亜鉛ガラスを共に含まず)並びに従来品B(硝
酸アルミニウムα02重量%、ホウケイ酸亜鉛ガラス1
重量%含有)の諸電気特性の比較した結果を第1表に示
す。vIn+Aは1tnA通電時のバリスタ電圧N 1
0pAα1mA は非直線係数1v10kA/’l m
Aは制限電圧比、課電劣化は温度150’C1課電率9
5%で4時間通電後のV1rrlA85%に対応する漏
れ電流を課電前の漏れ電流で除した値を示す。
(MnO) 57 f 、酸化アンチモン(8bzOs
)292 F、酸化クロム(Or203)76F、酸化
ケイ素(Sin、) 90 F、硝酸アルミニウム(A
e(M)t ”9H,O)1. s tを正確に秤量し
、更KZnO65重量%、B2os20重景%、Sin
、10重ilt%、0u205重t%よりなる銅ホウケ
イ酸亜鉛ガラス869を秤量してボールミルで12時時
間式混合した。混合粉は乾燥した後造粒し、20mφX
10.tK成形した。成形体には81% −8% 03
−Bi、偽系高抵抗層を塗布した後、これを1200℃
で2時間焼成した。本焼結体は上下両面をラップマスタ
で約cLS−ずつ研摩e洗浄し、A/溶射電極を形成し
た。本発明品と従来品A(硝酸アルミニウム並びに銅ホ
ウケイ酸亜鉛ガラスを共に含まず)並びに従来品B(硝
酸アルミニウムα02重量%、ホウケイ酸亜鉛ガラス1
重量%含有)の諸電気特性の比較した結果を第1表に示
す。vIn+Aは1tnA通電時のバリスタ電圧N 1
0pAα1mA は非直線係数1v10kA/’l m
Aは制限電圧比、課電劣化は温度150’C1課電率9
5%で4時間通電後のV1rrlA85%に対応する漏
れ電流を課電前の漏れ電流で除した値を示す。
第 1 表
第1表よシみて、本発明品の電気特性は従来値と比べて
諸特性共に向上していることがわかる。
諸特性共に向上していることがわかる。
また、第6図と第7図の対比から明らかなように、zn
O結晶粒の成分は主成分であるZnのIよか、煮干量の
81、coが認められスへ他方 R(、へ境界層近傍け
Bi、ZtlO主成分のほか、若干量のEli、Co等
を固溶するが、特に本発明の焼結体においてはOuが検
出される。
O結晶粒の成分は主成分であるZnのIよか、煮干量の
81、coが認められスへ他方 R(、へ境界層近傍け
Bi、ZtlO主成分のほか、若干量のEli、Co等
を固溶するが、特に本発明の焼結体においてはOuが検
出される。
実施例2
実施例1と同じ各種原料粉を混合・造粒・成形した後高
抵抗層を塗布し、温度1000〜1350℃間の諸種温
度で焼成し、電極を塗布した焼結体の電圧−電流特性を
測定した。第8図には焼成温度とバリスフ電圧VXmA
、非直線係数1oμα1mA%平坦率vIokA/v1
rnA との関係をグラフで示す。
抵抗層を塗布し、温度1000〜1350℃間の諸種温
度で焼成し、電極を塗布した焼結体の電圧−電流特性を
測定した。第8図には焼成温度とバリスフ電圧VXmA
、非直線係数1oμα1mA%平坦率vIokA/v1
rnA との関係をグラフで示す。
vlmAは焼成温度に伴って漸次減少する。この主因は
結晶粒成長が起ってバリア数が減少するためである。1
0pAα1艷は焼成温度に伴って漸次増加するが、12
50℃で最大値を示し、1300℃超では減少する。制
限電圧比V□。kA/v11TIAハ焼成温度の上昇に
伴って増大する。焼成温度が低過ぎると10pA”1k
Aが低下し、同時に焼結体内部、特に境界層付近に気泡
が発生し好ましくない。
結晶粒成長が起ってバリア数が減少するためである。1
0pAα1艷は焼成温度に伴って漸次増加するが、12
50℃で最大値を示し、1300℃超では減少する。制
限電圧比V□。kA/v11TIAハ焼成温度の上昇に
伴って増大する。焼成温度が低過ぎると10pA”1k
Aが低下し、同時に焼結体内部、特に境界層付近に気泡
が発生し好ましくない。
他方、焼成温度が高過ぎても□O/JAα1mAが顕著
に減少・し、且つvl 0kA / 71kAが増大し
、同時に成分の蒸発を起して好ましくない。
に減少・し、且つvl 0kA / 71kAが増大し
、同時に成分の蒸発を起して好ましくない。
実施例5
酸化亜鉛を主成分とした混合粉が8kgとなる様にI1
2卸1.5モル%、Bi、O,α7モル%、Oo、0゜
1モル%、Mn0O10,5モル%、0rlO10,5
モル%、Sb、0.1モル%、ム/(No、)j−9m
、oのα005モル%に対して65重量%ZnO−10
重量%E]101−20重量%烏偽−5重量%0ulO
系ガラスを0〜3重景重量範囲にわたって添加し、実施
例1と同様にして直径50飼、厚さ23−の電圧非直線
抵抗体を製作した。各銅ホウケイ酸亜鉛ガラス量の焼結
体の特性値を第2表に示す。
2卸1.5モル%、Bi、O,α7モル%、Oo、0゜
1モル%、Mn0O10,5モル%、0rlO10,5
モル%、Sb、0.1モル%、ム/(No、)j−9m
、oのα005モル%に対して65重量%ZnO−10
重量%E]101−20重量%烏偽−5重量%0ulO
系ガラスを0〜3重景重量範囲にわたって添加し、実施
例1と同様にして直径50飼、厚さ23−の電圧非直線
抵抗体を製作した。各銅ホウケイ酸亜鉛ガラス量の焼結
体の特性値を第2表に示す。
課電時間は温度100℃において五〇i!電率95%で
通電した時に熱暴走を起すまでの時間を示す。
通電した時に熱暴走を起すまでの時間を示す。
第2表
上記第2表から明らかなように、鋼ホウケイ酸亜鉛ガラ
ス量が1重量%前後において優れた特性を示す。vII
TIAは最大、10μα1畝=50の最大、vl 01
cA/ vlmAは1.76の最小、t たut試験に
よる熱暴走時間は300時間以上の最大を示す。
ス量が1重量%前後において優れた特性を示す。vII
TIAは最大、10μα1畝=50の最大、vl 01
cA/ vlmAは1.76の最小、t たut試験に
よる熱暴走時間は300時間以上の最大を示す。
―→−内に7酩高ム宥→フぬ於輛番Hn4〜.2重量%
が望ましいことがわかる。
が望ましいことがわかる。
実施例4
銅ホウケイ酸亜鉛ガラスの成分量を第5表に示す様にA
−Dの4通りに変え、更に本ガラス量をα05〜5重量
%範囲で種々変え、硝酸アルミニウム量もo、 o o
s〜0.05重重景範囲で種々変えた電圧非直線抵抗
体の特性値を実施例3と同様にして測定した。
−Dの4通りに変え、更に本ガラス量をα05〜5重量
%範囲で種々変え、硝酸アルミニウム量もo、 o o
s〜0.05重重景範囲で種々変えた電圧非直線抵抗
体の特性値を実施例3と同様にして測定した。
第 3 表
なお、特性値の比較のため鋼ホウケイ酸亜鉛ガラスなし
の場合並びに銅ホウケイ酸亜鉛ガラス、硝酸アルミニウ
ム共になしの場合についても示した。これらの結果を第
4表に示す。
の場合並びに銅ホウケイ酸亜鉛ガラス、硝酸アルミニウ
ム共になしの場合についても示した。これらの結果を第
4表に示す。
第 4 表
第4表(続き)
第4表から明らかなように、銅ホウケイ酸亜鉛ガラス量
はα5〜1重景%重量酸アルミニウム量は0.01〜α
03重景%の場合に最も電圧非直線性が優れ、且つ課電
劣化特性にも優れる” in+A−225V/m、10
/jAal+nA−”s VloJVxmxml、55
、課電時間〉300時間。銅ホウケイ酸亜鉛ガラスなし
の場合には課電時間1−J65時間以上示さない。銅ホ
ウケイ酸亜鉛ガラス並びに硝酸アルミニウムを共に含ま
ない場合には、特にvl 0)cA/V1rnA= 2
.13、課電時間46時間と著しく悪い。
はα5〜1重景%重量酸アルミニウム量は0.01〜α
03重景%の場合に最も電圧非直線性が優れ、且つ課電
劣化特性にも優れる” in+A−225V/m、10
/jAal+nA−”s VloJVxmxml、55
、課電時間〉300時間。銅ホウケイ酸亜鉛ガラスなし
の場合には課電時間1−J65時間以上示さない。銅ホ
ウケイ酸亜鉛ガラス並びに硝酸アルミニウムを共に含ま
ない場合には、特にvl 0)cA/V1rnA= 2
.13、課電時間46時間と著しく悪い。
以上詳細に説明したように1本発明によれば、銅ホウケ
イ酸亜鉛ガラスを酸化亜鉛系混合粉に夕景添加、混合、
焼結することによって、B1*Oa境界層近傍にガラス
を分散させると同時に銅を拡散させ、バリアを増大させ
ると共に広い電流領域にわたって非直線特性を向上させ
るという顕著な効果を奏することができる。
イ酸亜鉛ガラスを酸化亜鉛系混合粉に夕景添加、混合、
焼結することによって、B1*Oa境界層近傍にガラス
を分散させると同時に銅を拡散させ、バリアを増大させ
ると共に広い電流領域にわたって非直線特性を向上させ
るという顕著な効果を奏することができる。
第1図及び第2図は従来の酸化亜鉛系非直線抵抗体の内
部微細構造の概要図、第3図は本発明の電圧非直線抵抗
体の内部微細構造の概要図、第4図は本発明(7)及び
従来(8及び9)の電圧非直線抵抗体の電流と電圧との
関係を示すグラフ、第5図は本発明及び従来の同抵抗体
のAOn電寿命試験における課電時間と漏れ電流増加率
との関係を示すグラフ、第6図は本発明の1実施例の抵
抗体また第7図は従来の抵抗体の1例の、それぞれ透過
電4顕微鏡観察した微細構造の概要図及びZnO結晶粒
内f(lとBi、01境界層近傍(ロ)のエネルギー分
散型X線スペクトル図、第8図は本発明の抵抗体の1実
施例の焼成温度とバリスタ電圧、非直線係数及び平坦率
との関係を示すグラフである。 1 : ZnO結晶粒、2:スピネル相結晶粒、5 :
Bi、偽粒界相、4ニガラス相、5:銅拡散相 特許出願人 株式会社日立製作所 代理人 中本 宏 第1図 第2図 。 に 第3図 第4図 →電流(A) 第5図 第8図 焼成′:/昆庖(°C) 第 6 図 →Xaエネルギー (V、eV) →Xa工%ルキ゛’
−(KeV)第7図
部微細構造の概要図、第3図は本発明の電圧非直線抵抗
体の内部微細構造の概要図、第4図は本発明(7)及び
従来(8及び9)の電圧非直線抵抗体の電流と電圧との
関係を示すグラフ、第5図は本発明及び従来の同抵抗体
のAOn電寿命試験における課電時間と漏れ電流増加率
との関係を示すグラフ、第6図は本発明の1実施例の抵
抗体また第7図は従来の抵抗体の1例の、それぞれ透過
電4顕微鏡観察した微細構造の概要図及びZnO結晶粒
内f(lとBi、01境界層近傍(ロ)のエネルギー分
散型X線スペクトル図、第8図は本発明の抵抗体の1実
施例の焼成温度とバリスタ電圧、非直線係数及び平坦率
との関係を示すグラフである。 1 : ZnO結晶粒、2:スピネル相結晶粒、5 :
Bi、偽粒界相、4ニガラス相、5:銅拡散相 特許出願人 株式会社日立製作所 代理人 中本 宏 第1図 第2図 。 に 第3図 第4図 →電流(A) 第5図 第8図 焼成′:/昆庖(°C) 第 6 図 →Xaエネルギー (V、eV) →Xa工%ルキ゛’
−(KeV)第7図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 酸化亜鉛(ZnO)を主成分とする焼結体の側面
に高抵抗層が形成され、且つ焼結体の上下両端面に電極
が形成された電圧非直線抵抗体において、該焼結体が、
ZnO系結晶粒内に叶α0003〜α03重量%のアル
ミニウムが拡散し、更に該ZnO系結晶粒の表面近傍に
は銅が拡散したものであることを特徴とする電圧非直線
抵抗体。 2、 酸化亜鉛を主成分とし、添加成分として酸化ビス
マスをBigosK換算してα2〜2モル%、酸化ケイ
素を81へに換算して1〜4モル%、酸化コバルトをC
ot’sに換算してα8〜3モル%、酸化アンチモンを
8%−に換算して0.1〜5モル%、酸化マンガンをM
nO!に換算して0.1〜!1モル%、酸化クロムをO
rnOm に換ヤして0.1〜2モル%、アルミニウム
をif、03 に換算してα0005〜α05モル%含
有する組成物に、銅を0ulOに換算して0.001〜
20重景%、亜鉛をZnOに換算して40〜70重景%
含む銅ホウケイ酸亜鉛ガラスを、a1〜2重量%配合し
た原料粉を、混合、造粒、成形し、側面に高抵抗層を取
付けて焼成し、その焼結体の上下両端面に電極を形成さ
せることを特徴とする電圧非直線抵抗体の製造法。 & 該銅ホウケイ酸亜鉛ガラスが、酸化鋼を0、001
〜20重1%、酸化ホウ素を10〜30重量%、酸化ケ
イ素を5〜20重量%、及び酸化亜鉛を40〜70重量
%含有するものである特許請求の範囲第2項記載の電圧
非直線抵抗体の製造法。 4、 該焼成を、1150〜1300℃の温度範囲で行
う特許請求の範囲第2項記載の電圧非直線抵抗体の製造
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59075848A JPS60219704A (ja) | 1984-04-17 | 1984-04-17 | 電圧非直線抵抗体及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59075848A JPS60219704A (ja) | 1984-04-17 | 1984-04-17 | 電圧非直線抵抗体及びその製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60219704A true JPS60219704A (ja) | 1985-11-02 |
JPH0439761B2 JPH0439761B2 (ja) | 1992-06-30 |
Family
ID=13588040
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59075848A Granted JPS60219704A (ja) | 1984-04-17 | 1984-04-17 | 電圧非直線抵抗体及びその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60219704A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SG85622A1 (en) * | 1998-03-12 | 2002-01-15 | Murata Manufacturing Co | Electrically conductive paste and electronic element |
JP2008513982A (ja) * | 2004-09-15 | 2008-05-01 | エプコス アクチエンゲゼルシャフト | バリスタ |
-
1984
- 1984-04-17 JP JP59075848A patent/JPS60219704A/ja active Granted
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SG85622A1 (en) * | 1998-03-12 | 2002-01-15 | Murata Manufacturing Co | Electrically conductive paste and electronic element |
JP2008513982A (ja) * | 2004-09-15 | 2008-05-01 | エプコス アクチエンゲゼルシャフト | バリスタ |
JP4755648B2 (ja) * | 2004-09-15 | 2011-08-24 | エプコス アクチエンゲゼルシャフト | バリスタ |
US8130071B2 (en) | 2004-09-15 | 2012-03-06 | Epcos Ag | Varistor comprising an insulating layer produced from a loading base glass |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0439761B2 (ja) | 1992-06-30 |
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