JPS60219660A - 磁気記録再生装置 - Google Patents
磁気記録再生装置Info
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- JPS60219660A JPS60219660A JP7425184A JP7425184A JPS60219660A JP S60219660 A JPS60219660 A JP S60219660A JP 7425184 A JP7425184 A JP 7425184A JP 7425184 A JP7425184 A JP 7425184A JP S60219660 A JPS60219660 A JP S60219660A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[技術分野]
本発明はビデオテープレコーダ(以下VTRと略称する
)等に用いられる磁気記録再生@置に関する。
)等に用いられる磁気記録再生@置に関する。
[従来技術]
近年、磁気記録再生装置に関する技術の進歩は著しく、
特にVTR技術の発展は目覚ましい。
特にVTR技術の発展は目覚ましい。
このような情勢の中にあって現在VTRの方式は、VH
8方式、β方式、V−2000方式あるいはCVC方式
等互換性を有していない種々の方式のものが並存したま
ま普及している。このため、ユーザー側で混乱を招(と
いった不都合な問題が生じている。上述したような背景
の中で、次世代の機種として開発がすすめられているい
わゆるB msV T Rに関しては、メーカー各社間
で完全な規格統一がはかられた。この811IIl■■
Rに適用される磁気テープは、メタルテープまたは蒸着
テープである。これらのうちメタルテープを適用する場
合は磁気テープ(以下単にテープという)走行系を従来
の各種方式のVTRにおいて採用されてきた構成と同様
に構成すると、メタルテープによりテープ走行系各部の
摩耗が著しくなる。
8方式、β方式、V−2000方式あるいはCVC方式
等互換性を有していない種々の方式のものが並存したま
ま普及している。このため、ユーザー側で混乱を招(と
いった不都合な問題が生じている。上述したような背景
の中で、次世代の機種として開発がすすめられているい
わゆるB msV T Rに関しては、メーカー各社間
で完全な規格統一がはかられた。この811IIl■■
Rに適用される磁気テープは、メタルテープまたは蒸着
テープである。これらのうちメタルテープを適用する場
合は磁気テープ(以下単にテープという)走行系を従来
の各種方式のVTRにおいて採用されてきた構成と同様
に構成すると、メタルテープによりテープ走行系各部の
摩耗が著しくなる。
また一方、膜厚が薄く機械的強痕が比較的低い蒸着テー
プを適用する場合は、他の種々の問題が生ずる。すなわ
ち従来同様に、たとえばステンレス#4製の固定ポスト
やアルミニウム類め回転ドラムを用い、φ−4Q+nm
の回転ドラムに対するテープ巻着は角を210”に設定
してテープ走行系を構成すると、テープが固定ポストや
回転ドラムの周面に粘り着いたり、テープと固定ポスト
や回転ドラム局面との摩擦係数が増大して、テープ走行
速度にムラが生じ、その結果再生画像が劣化するといっ
た問題が起こる。
プを適用する場合は、他の種々の問題が生ずる。すなわ
ち従来同様に、たとえばステンレス#4製の固定ポスト
やアルミニウム類め回転ドラムを用い、φ−4Q+nm
の回転ドラムに対するテープ巻着は角を210”に設定
してテープ走行系を構成すると、テープが固定ポストや
回転ドラムの周面に粘り着いたり、テープと固定ポスト
や回転ドラム局面との摩擦係数が増大して、テープ走行
速度にムラが生じ、その結果再生画像が劣化するといっ
た問題が起こる。
このような問題は湿度の高い雰囲気で装置を使用した場
合には特に顕著なものとなる。多湿雰囲気中におけるこ
の種の問題は、VTR一般の問題として特III昭58
−98868号公報にも開示されており、一応の解決策
も示されている。
合には特に顕著なものとなる。多湿雰囲気中におけるこ
の種の問題は、VTR一般の問題として特III昭58
−98868号公報にも開示されており、一応の解決策
も示されている。
これはテープ走行系の部材切表面に高級脂肪酸としてた
とえばステアリン酸、高級脂肪酸塩としてたとえばステ
アリン酸亜鉛、高級脂肪酸アミドとしてたとえばステア
リン酸アミド、反応性有機アミドとしてたとえばシラン
カップリング剤、反応性有機チタンとしてたとえば有機
チタン酸エステルなどの物質を溶剤中に溶かし、濃度1
重量%程度に調整した処理液中に上記部材を浸漬したの
ち、高速熱風で乾燥させることにより上記部材の表面に
上記物質からなるsmi層を形成し、上記部材が撥水性
を有するようにするものである。しかしながら、上述の
開示された方法による薄膜層は到底長時間のテープ走行
によるl!I擦に耐え得るものではなく実用性がない。
とえばステアリン酸、高級脂肪酸塩としてたとえばステ
アリン酸亜鉛、高級脂肪酸アミドとしてたとえばステア
リン酸アミド、反応性有機アミドとしてたとえばシラン
カップリング剤、反応性有機チタンとしてたとえば有機
チタン酸エステルなどの物質を溶剤中に溶かし、濃度1
重量%程度に調整した処理液中に上記部材を浸漬したの
ち、高速熱風で乾燥させることにより上記部材の表面に
上記物質からなるsmi層を形成し、上記部材が撥水性
を有するようにするものである。しかしながら、上述の
開示された方法による薄膜層は到底長時間のテープ走行
によるl!I擦に耐え得るものではなく実用性がない。
[目 的]
本発明の目的は、蒸着テープのように走行性の点で難が
ある磁気テープを適用した場合においても、テープ走行
系におけるrP、擦係数が小さく、テープ走行速度にム
ラが生じたり、テープが走行系の部材に粘り付いたりす
ることがなく、かつテープの損傷が少なく、また多湿雰
囲気中においても上述のような良好なテープ走行特性が
得られ、さらにメタルテープのようにテープ走行系を摩
耗させる作用の大きい磁気テープを適用した場合でも、
テープ走行系の損傷が抑制され得る磁気記録再生装置を
提供すすることにある。
ある磁気テープを適用した場合においても、テープ走行
系におけるrP、擦係数が小さく、テープ走行速度にム
ラが生じたり、テープが走行系の部材に粘り付いたりす
ることがなく、かつテープの損傷が少なく、また多湿雰
囲気中においても上述のような良好なテープ走行特性が
得られ、さらにメタルテープのようにテープ走行系を摩
耗させる作用の大きい磁気テープを適用した場合でも、
テープ走行系の損傷が抑制され得る磁気記録再生装置を
提供すすることにある。
[概 要コ
本発明は上記目的を達成するために次の如く構成したこ
とを特徴としている。すなわち、磁気テープ走行系を構
成する各部材のうち、たとえば回転ドラム、パックテン
ションポストまたは固定ポストのような所定部材の少な
くとも磁気テープ摺接面を、酸化チタンセラミックスよ
りなる薄層を前記所定部材における当該母材にコートす
ることによって形成するようにしたことを特徴としてい
る。
とを特徴としている。すなわち、磁気テープ走行系を構
成する各部材のうち、たとえば回転ドラム、パックテン
ションポストまたは固定ポストのような所定部材の少な
くとも磁気テープ摺接面を、酸化チタンセラミックスよ
りなる薄層を前記所定部材における当該母材にコートす
ることによって形成するようにしたことを特徴としてい
る。
[実施例]
以下、図面に示す実施例によって本発明を明らかにする
。
。
第1図は本発明の一実施例であるVTRのテープ走行系
を示す系統図である。第1図において、テープ10はカ
セット11内の供給リール12より出て、以下の経路を
とる。
を示す系統図である。第1図において、テープ10はカ
セット11内の供給リール12より出て、以下の経路を
とる。
カセット内ポスト13→カセット内ボスト14→テンシ
ョンポスト15→回転ローラ16→傾斜ポスト17→回
転O−ラ18→テープリーダ19→全巾消去ヘッド20
→テープガイド21→ドラム22→傾斜ボスト23→オ
ーディオ消去ヘッド24→オーデイオコントロールヘツ
ド25→ボスト26→キヤプスタン27およびピンチロ
ーラ28→カセツト内ボスト29→カセツト内ボスト3
0゜ テープ10は以上の経路を経過て巻取リリール31へと
至ることになる。
ョンポスト15→回転ローラ16→傾斜ポスト17→回
転O−ラ18→テープリーダ19→全巾消去ヘッド20
→テープガイド21→ドラム22→傾斜ボスト23→オ
ーディオ消去ヘッド24→オーデイオコントロールヘツ
ド25→ボスト26→キヤプスタン27およびピンチロ
ーラ28→カセツト内ボスト29→カセツト内ボスト3
0゜ テープ10は以上の経路を経過て巻取リリール31へと
至ることになる。
上述のテープ走行系における各部材のうち、例えば、テ
ンションポスト15、傾斜ポスト17及び傾斜ボスト2
3は、ステンレス鋼製の母材の外周面(テープ摺接面)
にルチル(TiQ、)を主成分とした焼結体である酸化
チタンセラミックスの薄層をコートして形成されている
。またドラム22はアルミニウム製もしくはプラスチッ
ク製のドラム状の母材の外周面に上述した酸化チタンセ
ラミックスの薄層をコートして形成している。
ンションポスト15、傾斜ポスト17及び傾斜ボスト2
3は、ステンレス鋼製の母材の外周面(テープ摺接面)
にルチル(TiQ、)を主成分とした焼結体である酸化
チタンセラミックスの薄層をコートして形成されている
。またドラム22はアルミニウム製もしくはプラスチッ
ク製のドラム状の母材の外周面に上述した酸化チタンセ
ラミックスの薄層をコートして形成している。
第2図は上記母材41に酸化チタンセラミックスの薄層
42がコートされている状態を示す断面図である。
42がコートされている状態を示す断面図である。
上述した薄層42を形成する手段としては、当該母材4
1の表面に上記物質を物理蒸着法(PVD法)により被
着るさせる方法を用いるとよい。
1の表面に上記物質を物理蒸着法(PVD法)により被
着るさせる方法を用いるとよい。
第3図は前記酸化チタンセラミックスをPVDaの一つ
のであるDCマ、グネトロンスパッタリングにより被着
させる工程のフローチャートを示す図である。
のであるDCマ、グネトロンスパッタリングにより被着
させる工程のフローチャートを示す図である。
まず工程51においては試料すなわちテンションボスト
15.傾斜ボスト23あるいはドラム22を、アルカリ
性洗剤6.蒸溜水、有機溶媒(アセトン)といった順序
で超音波洗浄を行ないながら洗浄する。次に工ei!5
2において上記資料をイソプロピルアルコールに浸す。
15.傾斜ボスト23あるいはドラム22を、アルカリ
性洗剤6.蒸溜水、有機溶媒(アセトン)といった順序
で超音波洗浄を行ないながら洗浄する。次に工ei!5
2において上記資料をイソプロピルアルコールに浸す。
次に工程53において上記資料をフロン蒸気中にて乾燥
させる。次に工程54にて上記乾燥した資料をスパッタ
装置チャンバ内にセットする。次に工程55においてチ
ャンバ内にセットされた上記資料を200℃くらいまで
加熱しながら、クライオポンプにより前記チャンバ内を
10r’orr台まで減圧する。次に工程56において
A「ガスと02ガスとをAr 102−85/1 !M
)比で混合した混合ガスであるスパッタガスを前記チャ
ンバ内へ数5ITorr程度流入させる。このとき、上
記スパッタガスと前記試料との間はシャッタにより閉ざ
されている。またこの場合のTIツタ−ットは、99.
9%純度の4インチターゲットである。そして次に工程
57にてブリスパッタを1時間行なったのちシャッタを
開け、前記試料にマグネトロンスパッタ膜付けを行なう
。その膜厚は数μ鍋となる。
させる。次に工程54にて上記乾燥した資料をスパッタ
装置チャンバ内にセットする。次に工程55においてチ
ャンバ内にセットされた上記資料を200℃くらいまで
加熱しながら、クライオポンプにより前記チャンバ内を
10r’orr台まで減圧する。次に工程56において
A「ガスと02ガスとをAr 102−85/1 !M
)比で混合した混合ガスであるスパッタガスを前記チャ
ンバ内へ数5ITorr程度流入させる。このとき、上
記スパッタガスと前記試料との間はシャッタにより閉ざ
されている。またこの場合のTIツタ−ットは、99.
9%純度の4インチターゲットである。そして次に工程
57にてブリスパッタを1時間行なったのちシャッタを
開け、前記試料にマグネトロンスパッタ膜付けを行なう
。その膜厚は数μ鍋となる。
上述の如く構成された本発明の装置では、従来5U83
03などのステンレス鋼により全体がつくられていたテ
ンションボスト或いは傾斜ボスト等に代えて、ステンレ
ス鋼等の母材の外面に例えば上述のような酸化チタンセ
ラミックスの薄層が形成されたポストを適用しているの
で、これらポストに対するテープの巻つけ角が大きくて
も当該ポスト周辺における摩耗係数が少なく、ポスト、
テープ双方の摩耗が極めて少なくなる。従来のこの種の
装置では両傾斜ボスト(本発明の傾斜ボスト17.23
に対応するもの)に対するテープ巻つけ角の和は約10
0a程度になり、これらポスト周辺におけるテープ走行
時の摩擦抵抗或いはポスト周辺とテープ面との静摩擦力
が極めて大きくなり、テープ走行速度にムラが生じたり
、ポスト、テープ双方の摩耗が著しい等の問題が生じて
いたが、本発明によりこれらの問題は一繰された。更に
また第1図の本発明の実施例では、回転ドラムについて
もアルミニウム製またはプラスチック製の母材の上に例
えば酸化チタンセラミックスをコートしてドラムを構成
しているので、ドラム外周面(テープ摺接面)とテープ
面との摩擦に関して生じる、上述のポストに関すると同
様の問題は完全に解決される。
03などのステンレス鋼により全体がつくられていたテ
ンションボスト或いは傾斜ボスト等に代えて、ステンレ
ス鋼等の母材の外面に例えば上述のような酸化チタンセ
ラミックスの薄層が形成されたポストを適用しているの
で、これらポストに対するテープの巻つけ角が大きくて
も当該ポスト周辺における摩耗係数が少なく、ポスト、
テープ双方の摩耗が極めて少なくなる。従来のこの種の
装置では両傾斜ボスト(本発明の傾斜ボスト17.23
に対応するもの)に対するテープ巻つけ角の和は約10
0a程度になり、これらポスト周辺におけるテープ走行
時の摩擦抵抗或いはポスト周辺とテープ面との静摩擦力
が極めて大きくなり、テープ走行速度にムラが生じたり
、ポスト、テープ双方の摩耗が著しい等の問題が生じて
いたが、本発明によりこれらの問題は一繰された。更に
また第1図の本発明の実施例では、回転ドラムについて
もアルミニウム製またはプラスチック製の母材の上に例
えば酸化チタンセラミックスをコートしてドラムを構成
しているので、ドラム外周面(テープ摺接面)とテープ
面との摩擦に関して生じる、上述のポストに関すると同
様の問題は完全に解決される。
第4図は本発明装置のテープ走行系における摩擦係数を
測定するための計測システムを示す系統図である。
測定するための計測システムを示す系統図である。
第4図において、磁気テープ100は、供給リール10
1→固定ボスト102→ガイドローラ103→固定ボス
ト104→テンションアナライザポスト105→試料(
ドラムまたはポスト)200→テンシヨンアナライザボ
スト106→固定ポスト107→キヤプスタン108お
よびピンチローラ109→ガイドローラ110→固定ボ
スト111→巻取りリール112の順に張り廻らされて
いる。上記テンションアナライザポスト105および1
06にはれぞれ対応してテンションゲージを有するテン
ションアナライザ121 .122が連接され、これら
テンションアナライザ121 .122にはそれぞれ信
号変換回路131 .132が接続されている。
1→固定ボスト102→ガイドローラ103→固定ボス
ト104→テンションアナライザポスト105→試料(
ドラムまたはポスト)200→テンシヨンアナライザボ
スト106→固定ポスト107→キヤプスタン108お
よびピンチローラ109→ガイドローラ110→固定ボ
スト111→巻取りリール112の順に張り廻らされて
いる。上記テンションアナライザポスト105および1
06にはれぞれ対応してテンションゲージを有するテン
ションアナライザ121 .122が連接され、これら
テンションアナライザ121 .122にはそれぞれ信
号変換回路131 .132が接続されている。
各信号変換回路131 .132の出力は演舞回路14
0に入力するものとなっている。上記各テンションアナ
ライザポスト105 .106は両者の間隔を更に広く
あるいは狭く変化させられるようになされており、これ
により試料200に対するテープ100の巻付は角が変
えられるようになっている。第4図の計測システムによ
り試料200の摩擦係数μを測定するには、キャプスタ
ン108を回転駆動してこのキャプスタン108とピン
チローラ109により挾持されたテープ100を所定角
度で走行させて、試料200に向かう側のテープの張力
T1をテンシンアナライザ121により検出し、また試
料200より離れていく側のテープの張力T2をテンシ
ョンアナライザ122により検出する。
0に入力するものとなっている。上記各テンションアナ
ライザポスト105 .106は両者の間隔を更に広く
あるいは狭く変化させられるようになされており、これ
により試料200に対するテープ100の巻付は角が変
えられるようになっている。第4図の計測システムによ
り試料200の摩擦係数μを測定するには、キャプスタ
ン108を回転駆動してこのキャプスタン108とピン
チローラ109により挾持されたテープ100を所定角
度で走行させて、試料200に向かう側のテープの張力
T1をテンシンアナライザ121により検出し、また試
料200より離れていく側のテープの張力T2をテンシ
ョンアナライザ122により検出する。
そして、信号変換回路131 .132および演算回路
140を通して u−In (T2/TI)/θ (θはテープ巻付は角
)なる演算を行なって摩擦係数μの値をめる。所定の温
度および湿度の条件下における摩擦係数μを測定する場
合は、第4図の計測システムを恒温恒湿槽に入れて計測
を行なう。
140を通して u−In (T2/TI)/θ (θはテープ巻付は角
)なる演算を行なって摩擦係数μの値をめる。所定の温
度および湿度の条件下における摩擦係数μを測定する場
合は、第4図の計測システムを恒温恒湿槽に入れて計測
を行なう。
上記計測システムにより本装置のテープ走行係数の摩擦
係数μの値をめたところ、摩擦係数μは0.2〜0.3
程度の極めて小さなものとなることが明らかになった。
係数μの値をめたところ、摩擦係数μは0.2〜0.3
程度の極めて小さなものとなることが明らかになった。
[発明の効果]
本発′明によれば、蒸着テープのように薄くてテープ走
行係に粘り付きやすい種類のテープを適用した場合に8
3いても粘り付きが起こらず、テープ走行係の摩擦係数
が小さく、良好な走行特性が確保される。また適用する
テープの種類を問わず、テープ走行係の摩擦が少ないた
め、−プの摩潰が少なく、また、テープ走行係自体の摩
耗も極めて少ない。また更に多湿雰囲気中においてもテ
ープの粘り付き現像が起こらず、テープ走行係の摩擦係
数が小さい理想的状態が保たれる。また酸化チタンセラ
ミックスを用いてS層を形成しているので、材料費が安
く、加工精度にすぐれ、さらには農産性に富んでいる上
、表面が導電性にしであるので、摩擦による静電気を容
易に除去できるという効果を奏する。
行係に粘り付きやすい種類のテープを適用した場合に8
3いても粘り付きが起こらず、テープ走行係の摩擦係数
が小さく、良好な走行特性が確保される。また適用する
テープの種類を問わず、テープ走行係の摩擦が少ないた
め、−プの摩潰が少なく、また、テープ走行係自体の摩
耗も極めて少ない。また更に多湿雰囲気中においてもテ
ープの粘り付き現像が起こらず、テープ走行係の摩擦係
数が小さい理想的状態が保たれる。また酸化チタンセラ
ミックスを用いてS層を形成しているので、材料費が安
く、加工精度にすぐれ、さらには農産性に富んでいる上
、表面が導電性にしであるので、摩擦による静電気を容
易に除去できるという効果を奏する。
第1図〜第4図は本発明の一実施例の説明に供する図で
、第1図はテープ走行係を示す系統図、第2図は母材に
薄層がコートされている状態を示す断面図、第3図は酸
化チタンセラミックスをコートする工程の流れ図、第4
図はテープ走行係における摩擦係数を測定するシステム
を示す系統図である。 10.100・・・磁気テープ、13 .14 .29
.30・・・カセッ1−内ポスト、15・・・テンショ
ンポスト、17.23・・・傾斜ポスト、22・・・ド
ラム、2G・・・ポスト、41・・・母材、42・・・
薄層、105 .106・・・テンションアナライザポ
スト、121 .122・・・テンションアナライザ、
131 .132・・・信号変換回路、140・・・演
算回路、200・・・試料。 第1図 18 第2図
、第1図はテープ走行係を示す系統図、第2図は母材に
薄層がコートされている状態を示す断面図、第3図は酸
化チタンセラミックスをコートする工程の流れ図、第4
図はテープ走行係における摩擦係数を測定するシステム
を示す系統図である。 10.100・・・磁気テープ、13 .14 .29
.30・・・カセッ1−内ポスト、15・・・テンショ
ンポスト、17.23・・・傾斜ポスト、22・・・ド
ラム、2G・・・ポスト、41・・・母材、42・・・
薄層、105 .106・・・テンションアナライザポ
スト、121 .122・・・テンションアナライザ、
131 .132・・・信号変換回路、140・・・演
算回路、200・・・試料。 第1図 18 第2図
Claims (6)
- (1)テープ供給側からテープ巻取り側に至る磁気テー
プ走行系を有する磁気記録再生装置において、前記磁気
テープ走行系を構成する各部材のうち所定部材の少なく
とも磁気テープ摺接面が、酸化チタンセラミックスより
なる薄層を前記所定部材における当該母材にコートして
形成されたものであることを特徴とする磁気記録再生装
置。 - (2)前記所定部材は、磁気テープを所定の巻付は角に
わたって巻回、走行させるべきドラムである特許請求の
範囲第(1)項記載の磁気記録再生装置。 - (3)前記ドラムはアルミニウム製もしくはプラスチッ
ク製の回転ドラムである特許請求の範囲第(2)項記載
の磁気記録再生装置。 - (4)前記所定部材はバックテンションポスト、固定ポ
ストまたはそれら両者である特許請求の範囲第(1)項
記載の磁気記録再生装置。 - (5)前記バックテンションポストおよび固定ポストの
少なくとも一方はステンレス鋼智の円柱状のものである
特許請求の範囲第(4)項記載の磁気記録再生!li置
。 - (6)前記薄層は物理蒸着法により前記母材にコートし
讐形成されたものである特許請求の範囲第(1)項ない
し第(5)項のいずれかに記載の磁気記録再生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7425184A JPS60219660A (ja) | 1984-04-13 | 1984-04-13 | 磁気記録再生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7425184A JPS60219660A (ja) | 1984-04-13 | 1984-04-13 | 磁気記録再生装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60219660A true JPS60219660A (ja) | 1985-11-02 |
Family
ID=13541752
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7425184A Pending JPS60219660A (ja) | 1984-04-13 | 1984-04-13 | 磁気記録再生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60219660A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03176849A (ja) * | 1989-12-06 | 1991-07-31 | Hitachi Ltd | 磁気記録再生装置のテープガイド機構 |
-
1984
- 1984-04-13 JP JP7425184A patent/JPS60219660A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03176849A (ja) * | 1989-12-06 | 1991-07-31 | Hitachi Ltd | 磁気記録再生装置のテープガイド機構 |
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