JPS60218496A - 水栓 - Google Patents
水栓Info
- Publication number
- JPS60218496A JPS60218496A JP7424984A JP7424984A JPS60218496A JP S60218496 A JPS60218496 A JP S60218496A JP 7424984 A JP7424984 A JP 7424984A JP 7424984 A JP7424984 A JP 7424984A JP S60218496 A JPS60218496 A JP S60218496A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- plating layer
- nickel plating
- emulsion particles
- traces
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Valve Housings (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は水栓に関する。
従来水栓は本体にニッケルメッキを施こし、更にその上
にり四ムメッキを施こ七ているが、単にニッケルメッキ
の後クロムメッキを施こすだけであるため本体表面は光
沢があシ、非常に滑らかである。
にり四ムメッキを施こ七ているが、単にニッケルメッキ
の後クロムメッキを施こすだけであるため本体表面は光
沢があシ、非常に滑らかである。
そのため、試験、取シ付け、運搬、補修のときなど、手
が滑シ易く、特に水栓は水を扱うため水に濡れているこ
とが多いので手が滑って取シ落すことも多く、取シ扱い
に不便であった。
が滑シ易く、特に水栓は水を扱うため水に濡れているこ
とが多いので手が滑って取シ落すことも多く、取シ扱い
に不便であった。
本発明が解決しようとする技術的課題は、水栓の本体表
面を適度に粗すことである。
面を適度に粗すことである。
上記技術的課題を達成するために本発明が酌する技術手
段は、本体にニッケルメッキ後クロムメッキを施こし、
ニッケルメッキ表面にメッキ液中のエマルジョン粒子の
付着跡を残すことによシ、エマルジョン粒子の付着跡に
よる凹凸をクロムメッキ層を介して本体表面に表出させ
るものである。
段は、本体にニッケルメッキ後クロムメッキを施こし、
ニッケルメッキ表面にメッキ液中のエマルジョン粒子の
付着跡を残すことによシ、エマルジョン粒子の付着跡に
よる凹凸をクロムメッキ層を介して本体表面に表出させ
るものである。
本発明は上記の構成であるから以下の利点を有する。
（１）本体表面に手が触れたとき、適度に摩擦があシ、
滑ったすせず、取シ扱いがし易い。
滑ったすせず、取シ扱いがし易い。
（２） 耐蝕性、密着性に優れる。
（３）ａ消し状となシ外観が非常に落ち付いて感じが良
い。
い。
以下、本発明の一実施例を図に基づいて説明する。
この実施例は水栓が２パルプ式の湯水混合栓であシ、砲
金鋳物製の本体（６）の表面にはニッケルメツキ層（１
）を設け、更に該ニッケルメッキ層（υ上にはクロムメ
ッキ層（２）を設ける。
金鋳物製の本体（６）の表面にはニッケルメツキ層（１
）を設け、更に該ニッケルメッキ層（υ上にはクロムメ
ッキ層（２）を設ける。
ニッケルメッキ層（１）は表面にエマル９１７粒子（４
）の付着跡（３）を残す。
）の付着跡（３）を残す。
即ち、砲金製の本体（Ａ）ａバフ掛等の前処理を施こし
た後、第４図に示すように硫酸ニッケル、塩化ニッケル
、硼酸、添加剤（光沢剤）、添加剤（エマルゲータ−）
よシ成るニッケルメッキ液（５）中に浸漬し、上下揺動
しながらメッキし、メ２キ終了後水洗いして表面に付着
したエマルジョン粒子（４）を流し取る。
た後、第４図に示すように硫酸ニッケル、塩化ニッケル
、硼酸、添加剤（光沢剤）、添加剤（エマルゲータ−）
よシ成るニッケルメッキ液（５）中に浸漬し、上下揺動
しながらメッキし、メ２キ終了後水洗いして表面に付着
したエマルジョン粒子（４）を流し取る。
面シてエマルジョン粒子（４）の洗い流された跡に、直
径が平均１２μ、深さが０．１４〜０．２１μの半円形
ノエマルジョン粒子の付着跡（３）が残る。
径が平均１２μ、深さが０．１４〜０．２１μの半円形
ノエマルジョン粒子の付着跡（３）が残る。
メッキ洛中のエマルジョン粒子（４）は添加剤において
生成され、仁のエマルジョン粒子（４）がメッキ中にお
いて、十数秒間本体の表面に付着し、仁の間にメッキが
行なわれてエマルジョン粒子（４）が離れ去った後に半
円状のマークができ、この現象がメッキ中の本体表面に
対して連続して作用してニッケルメッキ層（１）を形成
する。
生成され、仁のエマルジョン粒子（４）がメッキ中にお
いて、十数秒間本体の表面に付着し、仁の間にメッキが
行なわれてエマルジョン粒子（４）が離れ去った後に半
円状のマークができ、この現象がメッキ中の本体表面に
対して連続して作用してニッケルメッキ層（１）を形成
する。
このニッケルメッキ層（１）はり四ムメッキ層（２）に
比べて厚く形成され約−〜−−用の厚さを有１０００
１０００ する。
比べて厚く形成され約−〜−−用の厚さを有１０００
１０００ する。
クロムメッキ層（２）はニッケルメッキ層（１）の表面
に通常の方法によルクロムメッキを施こして形成する。
に通常の方法によルクロムメッキを施こして形成する。
このクロムメッキ層（２）はニッケルメッキ層（１）Ｋ
比べて非常に薄く約５預琵〜１００００鴎の厚さに形成
し、その表面にはニッケルメッキ層（１）表面のエマル
ジョン粒子付着跡（３）を表出する。
比べて非常に薄く約５預琵〜１００００鴎の厚さに形成
し、その表面にはニッケルメッキ層（１）表面のエマル
ジョン粒子付着跡（３）を表出する。
而して、本体（４）表面はクロムメッキ層（２）を介し
て表出するニッケルメッキ層（１）表面のエマルジョン
粒子付着跡（３）によシ艶消し状の鈍い光沢と適度の摩
擦を有する肌触）を有する。
て表出するニッケルメッキ層（１）表面のエマルジョン
粒子付着跡（３）によシ艶消し状の鈍い光沢と適度の摩
擦を有する肌触）を有する。
尚、図中（６）は本体（Ａ）の吐水口に測流網を装着す
るために吐水口部（７）に螺着した袋ナツトであシ、該
袋ナツトには一般的なニッケルフルムメッキが施ヒされ
ても良い。
るために吐水口部（７）に螺着した袋ナツトであシ、該
袋ナツトには一般的なニッケルフルムメッキが施ヒされ
ても良い。
第１図り本発明の一実施例を示す水栓の正面図、第２図
は側面図、第８図は第２図Ｂ部の拡大断面図、第４図は
ニッケルメッキ工程を示す説明図、第５図紘ニッケルメ
ッキ層の生成状態を示す説明図である。 Ａ−・・木 休 １・・・ニッケルメッキ層２・−クロ
ムメッキ層 ８・・・エマルジョン粒子の付着跡 特許出願人 東陶機器株式会社
は側面図、第８図は第２図Ｂ部の拡大断面図、第４図は
ニッケルメッキ工程を示す説明図、第５図紘ニッケルメ
ッキ層の生成状態を示す説明図である。 Ａ−・・木 休 １・・・ニッケルメッキ層２・−クロ
ムメッキ層 ８・・・エマルジョン粒子の付着跡 特許出願人 東陶機器株式会社
Claims (1)
- 本体の表面に１ニッケルメッキ層ト、該ニッケルメッキ
層表面に施こしたり田ムメッキ層を設け、上記ニッケル
メッキ層には表面にメッキ液中のエマルジョン粒子の付
着跡を残してなることを特徴とする水栓。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7424984A JPS60218496A (ja) | 1984-04-13 | 1984-04-13 | 水栓 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7424984A JPS60218496A (ja) | 1984-04-13 | 1984-04-13 | 水栓 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60218496A true JPS60218496A (ja) | 1985-11-01 |
| JPS6246639B2 JPS6246639B2 (ja) | 1987-10-02 |
Family
ID=13541695
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7424984A Granted JPS60218496A (ja) | 1984-04-13 | 1984-04-13 | 水栓 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60218496A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020199668A (ja) * | 2019-06-07 | 2020-12-17 | 株式会社プロセス・ラボ・ミクロン | メタルマスク、及びその製造方法 |
-
1984
- 1984-04-13 JP JP7424984A patent/JPS60218496A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020199668A (ja) * | 2019-06-07 | 2020-12-17 | 株式会社プロセス・ラボ・ミクロン | メタルマスク、及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6246639B2 (ja) | 1987-10-02 |
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